高真空基板加熱装置『SP-1321』
机上に設置可能なコンパクトサイズ！大学様の研究室に適しています
『SP-1321』は、高真空中で小形の基板を加熱する装置です。 ロードロック室を備えることにより、加熱室を常にクリーンな状態に 保つことが可能。また、高真空での加熱が可能なほか、プログラム温度制御 により、安定した温度制御を実現しています。 机上に設置可能なコンパクトサイズ、研究室などでの実験装置として 適しています。 【特長】 ■高真空中で小形の基板を加熱 ■高真空での加熱が可能 ■ヒーター温度は500℃(Max800℃)で加熱可能 ■プログラム温度制御により、安定した温度制御を実現 ■加熱室の各種ポートはICF70フランジを採用することにより、高真空に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：サイエンスプラス株式会社
- 価格：応相談
