高真空基板加熱装置『SP-1321』

ブックマークに追加いたしました
ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました
ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます
無料会員登録

最終更新日：2020年08月17日

机上に設置可能なコンパクトサイズ！大学様の研究室に適しています

『SP-1321』は、高真空中で小形の基板を加熱する装置です。ロードロック室を備えることにより、加熱室を常にクリーンな状態に保つことが可能。また、高真空での加熱が可能なほか、プログラム温度制御により、安定した温度制御を実現しています。机上に設置可能なコンパクトサイズ、研究室などでの実験装置として適しています。【特長】 ■高真空中で小形の基板を加熱 ■高真空での加熱が可能 ■ヒーター温度は500℃(Max800℃)で加熱可能 ■プログラム温度制御により、安定した温度制御を実現 ■加熱室の各種ポートはICF70フランジを採用することにより、高真空に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

関連リンク - http://www.science-p.jp/article/15180621.html

この製品へのお問い合わせ

基本情報

【その他特長】 ■ロードロック室の有・無や、お手持ちの排気ユニット、真空計、バルブと組合せ自由 ■既に排気ユニットや真空計、バルブ等をお持ちの場合、それらの機器と組合せる事も可能 ■加熱室をクリーンな状態に保つ為、ロードロック室と基板搬送用の手動式治具が装備可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。