机上に設置可能なコンパクトサイズ！大学様の研究室に適しています
『SP-1321』は、高真空中で小形の基板を加熱する装置です。 ロードロック室を備えることにより、加熱室を常にクリーンな状態に 保つことが可能。また、高真空での加熱が可能なほか、プログラム温度制御 により、安定した温度制御を実現しています。 机上に設置可能なコンパクトサイズ、研究室などでの実験装置として 適しています。 【特長】 ■高真空中で小形の基板を加熱 ■高真空での加熱が可能 ■ヒーター温度は500℃(Max800℃)で加熱可能 ■プログラム温度制御により、安定した温度制御を実現 ■加熱室の各種ポートはICF70フランジを採用することにより、高真空に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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基本情報
【その他特長】 ■ロードロック室の有・無や、お手持ちの排気ユニット、真空計、バルブと組合せ自由 ■既に排気ユニットや真空計、バルブ等をお持ちの場合、それらの機器と組合せる事も可能 ■加熱室をクリーンな状態に保つ為、ロードロック室と基板搬送用の手動式治具が装備可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■研究室などでの実験装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、開発用超高真空装置から産業用真空装置の設計/開発/製作/機器と 幅広く対応します。 適した機器の選定、薄膜装置/周辺機器などの設計/製作、自動運転への 改造、オーバーホール、再利用品の調達に至るまで御相談にお応えし、 お客様のご要望に仕様検討の段階からご対応いたします。