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小型塩素炉の開発背景や、装置の仕様、運用ポイントなどを分かりやすくご紹介！
当社が取り扱う小型塩素炉について、 ■開発の背景 ■塩素炉内部での不純物除去メカニズム(塩化揮発法) ■装置の仕様・運用ポイント を連載でご紹介します。 まずは「なぜ塩素炉なのか？」から。 近年、半導体の微細化·電池の高性能化に伴い、粉体原料に求められる 金属不純物(Fe/Cu/Niなど導電性異物)管理は、ppm～ppbレベルへ急速に 高度化しています。 わずかなコンタミでも、歩留まり·信頼性に致命的な影響を与えます。 一般的な対策としては 1 湿式(酸処理)：強酸で金属不純物を溶解除去 2 乾式(磁選)：強力な電磁石で磁性粒子を回収 が採られてきました。 しかし、 ■湿式は均一除去の利点がある一方で、大量の排水、禁水性材料に不適、 再乾燥によるエネルギー負荷などの課題。 ■磁選は磁性を持つ粒子に限定され、非磁性の金属化合物や微細付着物には 効きづらい。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
セラミックス粉に混在するFe/Ni/Crなどを、塩化揮発で選択的に揮発する！
「小型塩素炉」は、負圧運転と酸素分圧制御で相や粒径を保ち、洗浄レスで 廃液を最小化する製品です。 Cl2/HClを用いた選択塩素化により、セラミックス粉(SiO2/Al2O3/Si3N4) 製造時に混入した金属不純物を乾式で除去。 また、塩化揮発により母相の組成・結晶相・粒度分布を保持しつつ、 短時間で不純物を低減。水洗工程を省けるため再乾燥、廃液処理コストを 抑えられます。 【特長】 ■選択塩素化×温度段階化：金属塩化物のみを優先揮発、母材相を維持 ■乾式プロセス：水洗不要で廃液・再乾燥の負担を最小化 ■物性保持設計：酸素分圧・滞留時間制御で結晶相・粒径・比表面を維持 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
堆積膜・反応生成物を塩化揮発で選択除去！母材の寸法や表面粗さを維持します
「小型塩素炉」は、Cl2/HClによる“選択塩素化→揮発"を用いた治具向け ドライクリーニング装置です。 MOCVD/エピ炉サセプタ、石英ボート・管等に付着したGaN/AlN/Si系生成物を 対象に、材料に応じた温度段階とガス組成で塩化物へ変換し、低温で揮発除去。 また、酸洗い不要で廃液負担を抑え、寸法変化・歪み・粒界損傷を最小化します。 【特長】 ■選択塩素化×段階温度：付着物を塩化物化→低温で揮発、 母材ダメージを抑制 ■乾式で廃液最小：酸洗いレス、洗浄・乾燥工程を短縮 ■寸法・表面を維持：負圧運転/酸素分圧制御で歪み・粗さ変化を抑える ■多材料対応：石英・SiC・C/C・金属(Mo/W/Al系)などの治具に適用可 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
