堆積膜・反応生成物を塩化揮発で選択除去！母材の寸法や表面粗さを維持します
「小型塩素炉」は、Cl2/HClによる“選択塩素化→揮発"を用いた治具向け ドライクリーニング装置です。 MOCVD/エピ炉サセプタ、石英ボート・管等に付着したGaN/AlN/Si系生成物を 対象に、材料に応じた温度段階とガス組成で塩化物へ変換し、低温で揮発除去。 また、酸洗い不要で廃液負担を抑え、寸法変化・歪み・粒界損傷を最小化します。 【特長】 ■選択塩素化×段階温度：付着物を塩化物化→低温で揮発、 母材ダメージを抑制 ■乾式で廃液最小：酸洗いレス、洗浄・乾燥工程を短縮 ■寸法・表面を維持：負圧運転/酸素分圧制御で歪み・粗さ変化を抑える ■多材料対応：石英・SiC・C/C・金属(Mo/W/Al系)などの治具に適用可 ※さらに詳しい情報についてはダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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用途／実績例
【用途】 ■MOCVD用サセプタ/サセプタリングのGaN/AlN付着膜除去 ■石英治具(ボート・チューブ・窓)の堆積膜・曇りの乾式洗浄 ■SiCエピ装置の内部治具・シャワーヘッドの金属/シリカ系残渣除去 ■拡散炉・CVD炉の搬送治具/ホルダーの再生(酸洗い代替) ■カーボン治具・C/C複合材の金属酸化物・塩化しやすい残渣の低温除去 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、「電気」「設備」「化学」の三つの技術を独自のノウハウで 融合させ、革新的な加熱炉、その他設備を開発している会社です。 独自の高温電気炉技術を活かしカーボン炉やマルチ雰囲気炉、メタル炉、 塩素炉など様々な電気炉(加熱炉)を取り扱っております。 単なる設備メーカーではなく、10年先のスタンダードを見据え、お客様と 共にモノづくりを革新的な熱でサポートする、戦略的開発パートナーです。
