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株式会社サーモニックENG

設立2025年3月21日
資本金300万
住所千葉県習志野市東習志野8-31-16
電話070-6596-0321
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2025/12/25
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カーボン炉 カーボン炉
メタル炉 メタル炉
マルチ雰囲気炉 マルチ雰囲気炉
管状炉 管状炉
小型塩素炉 小型塩素炉
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Cl2・H2・NH3・O2・加湿などの多様な焼成テストに対応

塩素・還元・酸化・NH3・加湿など、特殊雰囲気での焼成可否を設備導入前に確認

電気炉を導入する際、温度、雰囲気ガス、処理時間、圧力、サンプル量、排ガス、安全対策などの条件が未確定のままでは、設備仕様を決めにくい場合があります。 Cl2/HClなどの腐食性ガス、H2などの還元雰囲気、O2/Airなどの酸化雰囲気、NH3雰囲気、加湿雰囲気、真空・N2・Ar雰囲気など、一般的な電気炉では対応が難しい特殊条件での小型テストが可能です。 【対応できるテスト例】 ■ Cl2/HClを用いた金属不純物の乾式除去・選択塩素化 ■ H2などによる還元焼成・脱酸素処理 ■ O2/Airによる酸化焼成・表面酸化処理 ■ NH3による窒化処理・反応性確認 「この条件でも焼成できるのか?」「このガス雰囲気に対応できるのか?」「発生ガスや除害まで含めて検討できるのか?」など、条件が未確定の段階でもご相談いただけます。 材料名、処理温度、雰囲気ガス、処理目的が決まっていない場合でも、弊社にて炉種・テスト条件・安全構成の検討をサポートします。 ※対応可能なテスト例や進め方は、資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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マルチ雰囲気炉|液体原料を気化導入する熱CVDコーティング炉

気化器+マルチ雰囲気炉で、狭隙・内面・凹部への熱CVDコーティングを検討

従来のコーティングでは、原料溶液を部材表面に塗布し、乾燥後に電気炉で焼成する方式が一般的です。 しかし、狭い隙間、内面、凹部、段差部を持つ部材では、塗布ムラや未塗布部が発生しやすく、塗布量・乾燥収縮・焼成後膜厚のばらつきが課題になる場合があります。 当社のマルチ雰囲気炉は、Wetter方式だけでなく、気化器を接続することで、液体原料や有機金属前駆体を気化導入する熱CVD炉としての構成も検討可能です。 気化器で原料を安定供給し、キャリアガスで炉内へ導入することで、部材表面に気相反応による膜形成・コーティングを行うプロセス開発に活用できます。 【特長】 ■ 液体原料・有機金属前駆体の気化導入に対応 ■ 熱CVD、表面改質、コーティング条件の検討が可能 ■ 狭隙、内面、凹部、段差部を持つ部材への成膜を検討可能 ■ 塗布・乾燥工程の省略による工程短縮を期待 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

  • 工業炉

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用途・温度・雰囲気から考える 電気炉選定ガイド ※無料進呈中

電気炉の種類と選定の考え方を解説。初期検討に役立つフローチャート・チェックリストも収録

本資料は、電気炉の初期検討で迷いやすいポイントと炉タイプの特長を整理し、 用途・条件に適した選定をサポートする入門資料です。 温度をはじめ、不活性ガス、還元ガス、真空、加湿(湿潤雰囲気)、塩素系などの雰囲気、 サンプルの形状・材質を軸に、適合する電気炉のタイプをご紹介。 管状炉、マルチ雰囲気炉、メタル炉、カーボン炉、小型塩素炉といった標準機の特長や、 特殊仕様に関する技術相談・テスト・評価サービスについても紹介しています。 【掲載内容(抜粋)】 ■電気炉選定で最初に決める3つのこと ■炉タイプ別の「得意領域」早見表 ■選定ミスを防ぐためのチェックポイント ■電気炉選定フローチャート ■電気炉の特長・選定チェックリスト ※<カタログをダウンロード>より、すぐにご覧いただけます。  お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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静電チャック・ESC向け雰囲気焼成炉

ESC・セラミックス部品の焼成条件出しに。N₂+H₂還元雰囲気と露点制御で、焼成品質の再現性向上に貢献します。

静電チャック(ESC)やセラミックス部品の焼成・還元処理・脱バインダー処理に対応した、雰囲気制御型の高温焼成炉です。 N₂およびN₂+H₂還元雰囲気での運転に対応し、常用1000℃、最高1650℃までの高温処理が可能です。 また、オプションによりWetガス導入・露点制御・Dry/Wet切替にも対応できるため、材料の焼き上がり、緻密化、絶縁性、表面状態、内部電極状態などの条件検討に活用できます。 同一チャンバー内で雰囲気を切り替えながら処理できるため、工程間の移動や外気曝露を抑制し、焼成条件の再現性向上、ばらつき低減、試作評価の効率化に貢献します。 ESC向けの焼成条件出し、N₂+H₂還元処理、露点管理を伴うセラミックス焼成でお困りの場合は、お気軽にご相談ください。

  • 工業炉

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カーボン炉|炭化・黒鉛化・高温焼成向け 最高3000℃対応

最高3000℃の高温焼成に対応。炭化・黒鉛化・脱脂処理を低酸素雰囲気でサポート

カーボン炉は、炭化処理・黒鉛化処理・高温焼成・脱脂処理・粉末冶金・セラミックス焼成など、2000℃を超える高温プロセスに対応した電気炉です。 炉内ヒーターにカーボン材を使用することで、常圧~最高3000℃クラスの高温処理に対応可能です。 また、真空引き後にAr・N2などの不活性ガスへ置換することで、材料の酸化を抑制しながら焼成できます。 特に、以下のような課題をお持ちのお客様に適しています。 ■2000℃以上の高温焼成を実施したい ■炭素材料、C/Cコンポジット、SiC、セラミックスを焼成したい ■脱脂後の炭化・黒鉛化処理を一貫して行いたい ■Ar、N2、真空、必要に応じてH2含有雰囲気で処理したい ■酸化を抑えた低酸素雰囲気で焼成したい ■ラボ試験から量産設備まで検討したい 弊社では、処理物のサイズ、処理温度、雰囲気ガス、到達酸素濃度、昇温パターン、冷却条件に応じて、カスタム仕様のカーボン炉を設計・製作します。

  • 工業炉

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セラミックス高密度化カーボン炉|最高3000℃・不活性雰囲気対応

最高3000℃の高温焼成と低酸素雰囲気で、セラミックスの高密度化・焼結をサポート

セラミックス材料の高密度化では、脱脂・仮焼・焼結・加圧焼結・雰囲気制御など、材料ごとに最適な熱処理条件の検討が必要です。 特に、酸化を抑えながら高温処理を行いたい場合や、一般的な電気炉では到達温度・雰囲気・炉内寸法が合わない場合には、カーボン炉の活用が有効です。 弊社のカーボン炉は、最高3000℃クラスの高温加熱に対応し、真空引き後にAr・N2などの不活性ガスへ置換することで、低酸素雰囲気での焼成を実現します。 セラミックスの高密度化、焼結促進、相形成、脱脂後の高温処理など、研究開発から量産設備まで目的に応じたカスタム設計が可能です。 以下のような課題に対応できます。 ■ セラミックスの密度を上げたい ■ 焼結温度を高温側まで検討したい ■ 脱脂後の焼成・高密度化を一貫して行いたい ■ 酸化や組成変化を抑えて焼成したい ■ Ar、N2、真空などの雰囲気で処理したい ■ 既製炉では炉内サイズや温度条件が合わない ■ ラボ試験から量産炉まで相談したい

  • 工業炉

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新材料開発用カーボン炉|高温焼成・炭化・黒鉛化・雰囲気制御対応

最高3000℃の高温焼成と雰囲気制御で、新材料開発・試作評価をサポート

新材料開発や研究用途では、材料の熱処理条件を幅広く検討できる高温炉が必要です。 特に、2000℃以上の高温焼成、炭化・黒鉛化、セラミックス焼結、粉末材料の熱処理では、温度だけでなく、真空・不活性ガス・低酸素雰囲気などの雰囲気制御が重要になります。 弊社のカーボン炉は、最高3000℃クラスの高温加熱に対応し、真空引き後にAr・N2などの不活性ガスへ置換することで、酸化を抑えた高温処理が可能です。 研究開発用の小型炉から、試作評価・量産前検討用の設備まで、処理物のサイズ、温度、雰囲気、処理量に応じてカスタム設計します。 以下のような研究開発テーマに対応できます。 ■ 新材料の高温焼成・熱処理 ■ 2000℃以上の高温プロセス検討 ■ 炭素材料の炭化・黒鉛化 ■ SiC、AlN、BNなどの非酸化物セラミックス焼成 ■ 電池材料、負極材、導電材の焼成 ■ 粉末成形体、ペレット、焼結体の評価 ■ 真空、Ar、N2などの雰囲気制御下での焼成 ■ 研究室スケールから量産前評価までのスケールアップ検討

  • 工業炉

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航空宇宙向け耐熱部品用カーボン炉|最高3000℃・真空雰囲気対応

最高3000℃の高温焼成と低酸素雰囲気で、航空宇宙向け耐熱部品の開発・製造をサポート

航空宇宙分野では、高温環境で使用される耐熱部品や複合材料の品質安定性が重要です。 タービン部品、ロケット関連部材、C/Cコンポジット、セラミックス系材料などの焼成では、温度条件だけでなく、酸化を抑えるための真空・不活性雰囲気制御が求められます。 弊社のカーボン炉は、最高3000℃クラスの高温加熱に対応し、真空引き後にAr・N2などへ置換することで、低酸素雰囲気での高温焼成が可能です。 耐熱部品の焼成、炭化、黒鉛化、焼結、熱処理条件の検討など、処理物の材質・サイズ・温度・雰囲気に応じてカスタム設計します。 ■ 航空宇宙向け耐熱部品の焼成条件を検討したい ■ 2000℃以上の高温処理を行いたい ■ C/Cコンポジットやセラミックス系材料を処理したい ■ 酸化を抑えた真空・不活性雰囲気で焼成したい ■ 研究開発から試作、量産前評価まで相談したい

  • 工業炉

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メタル炉|光学部品の封着・ろう付け・高純度雰囲気焼成向け

高純度雰囲気で、光学部品の封着・ろう付け・熱処理をサポート

光学部品の製造では、材料の酸化や汚染を抑えながら、安定した温度・雰囲気で処理することが重要です。 特に、セラミックスと金属の気密封着、ガラス封着、ろう付け、アニール、焼成では、炉内雰囲気の清浄性や温度均一性が品質に影響します。 弊社のメタル炉は、Mo・Wなどの金属ヒーターを用いた高温雰囲気炉で、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気に対応可能です。 光学部品、センサ部品、電子部品、セラミックス部品など、処理物の材質・サイズ・温度・雰囲気に応じてカスタム設計します。 ■ セラミックスと金属の気密封着を行いたい ■ 光学部品のろう付け・アニール条件を検討したい ■ 酸化や汚染を抑えた雰囲気で熱処理したい ■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気で処理したい ■ 既製炉では温度、炉内寸法、雰囲気条件が合わない

  • 工業炉

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研究開発向けメタル炉|真空・還元雰囲気・高温熱処理対応

真空・還元雰囲気で、材料開発や高温熱処理をサポート

研究開発や試作評価では、材料ごとに温度・雰囲気・処理時間を細かく検討できる高温炉が必要です。 特に、セラミックスと金属の接合、ろう付け、アニール、焼成、還元雰囲気処理では、炉内の清浄性や雰囲気制御が品質に影響します。 弊社のメタル炉は、Mo・Wなどの金属ヒーターを用いた高温雰囲気炉で、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気に対応可能です。 大学・研究機関・企業研究所での材料評価、試作、量産前検討まで、処理物の材質・サイズ・温度・雰囲気に応じてカスタム設計します。 ■ 研究開発用の高温炉を探している ■ セラミックスと金属の接合・封着を検討したい ■ ろう付け、アニール、焼成条件を評価したい ■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気で処理したい ■ 既製炉では温度、炉内寸法、雰囲気条件が合わない

  • 工業炉

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分析用サンプル前処理向けメタル炉|高真空・高純度雰囲気対応

高真空・高純度雰囲気で、分析前サンプルの脱ガス・酸化防止・安定化をサポート

分析評価では、サンプル表面の酸化、吸着水分、残留ガス、有機成分、不純物汚染が測定結果に影響する場合があります。 特に、高精度分析や表面分析、材料評価を行う前には、分析用サンプルを高真空・高純度雰囲気下で熱処理し、状態を安定化させることが重要です。 弊社のメタル炉は、炉内を金属部材で構成しているため、断熱材由来の粉じんや不純物の影響を抑えやすく、他炉種と比べて清浄な高純度雰囲気での焼成・熱処理に適しています。 また、一般的な断熱材炉に比べて高真空まで減圧しやすく、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気で、分析前サンプルの脱ガス、酸化防止、還元処理、アニール、熱処理条件の検討に対応可能です。 ■ 分析前にサンプルを高真空で脱ガスしたい ■ 表面酸化や吸着水分の影響を抑えたい ■ 高純度雰囲気で分析用試料を熱処理したい ■ 真空・N2・Ar・H2雰囲気でサンプル前処理を行いたい ■ 既製炉では真空度、清浄度、炉内寸法が合わない

  • 工業炉

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メタル炉|半導体部品の気密封止・ろう付け・高真空熱処理向け

高真空・高純度雰囲気で、半導体部品の気密封止と信頼性向上をサポート

半導体部品では、長期信頼性を確保するため、封止工程における気密性や酸化・汚染の抑制が重要です。 特に、セラミックスと金属の封止、ろう付け、アニール、焼成では、炉内の清浄性や真空・雰囲気制御が品質に影響します。 弊社のメタル炉は、炉内を金属部材で構成しているため、断熱材由来の粉じんや不純物の影響を抑えやすく、清浄な高純度雰囲気での熱処理に適しています。 また、一般的な断熱材炉に比べて高真空まで減圧しやすく、真空・N2・Ar・H2などの雰囲気で、半導体部品の気密封止、ろう付け、酸化防止、アニールに対応可能です。 ■ 半導体部品の気密封止条件を検討したい ■ セラミックスと金属の接合・封止品質を安定させたい ■ 酸化や汚染を抑えた高純度雰囲気で処理したい ■ 高真空、N2、Ar、H2雰囲気で熱処理したい ■ 既製炉では真空度、清浄度、炉内寸法が合わない

  • 工業炉

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マルチ雰囲気炉|環境浄化材料の焼成・排ガス評価向け

真空・Air・NH3などの雰囲気制御で、環境浄化材料の焼成と排ガス評価をサポート

環境浄化材料や触媒材料の開発では、焼成時の雰囲気、温度、排ガス成分が材料性能に影響する場合があります。 特に、有機成分を含む材料の焼成、触媒の活性化、NH3・COなどの発生ガスを伴う処理では、炉内雰囲気の制御と排ガス処理設備の検討が重要です。 弊社のマルチ雰囲気炉は、真空・Air・N2・Ar・NH3など複数の雰囲気に対応し、材料の焼成条件や排ガス発生条件に応じてカスタム設計が可能です。 環境浄化材料、触媒材料、吸着材、セラミックス材料などの焼成・熱処理において、炉本体からガス供給、排気、除害設備まで一貫して検討できます。 ■ 環境浄化材料や触媒材料の焼成条件を検討したい ■ NH3・COなどの発生ガスを想定した排気設備を検討したい ■ 真空・Air・N2・Ar・NH3など複数雰囲気で処理したい ■ 既製炉ではガス種、炉内寸法、排ガス処理条件が合わない ■ 研究開発から試作、量産前評価まで相談したい ※資料では、マルチ雰囲気炉の基本構成、対応雰囲気、温度仕様、ガス供給・排気設備、排ガス処理を含めた検討ポイントを掲載しています。

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マルチ雰囲気炉|化学反応・反応性ガス処理・排ガス評価向け

反応性ガス・排ガス処理まで含め、化学反応プロセスの条件検討をサポート

化学反応プロセスの開発では、温度、雰囲気ガス、反応時に発生する排ガス成分によって、反応効率や安全性が大きく変わります。 特に、NH3・COなどの発生ガスを伴う反応や、Air・N2・Ar・真空・アンモニアなど複数雰囲気での反応条件検討では、炉本体だけでなく、ガス供給・排気・除害設備を含めた設計が重要です。 弊社のマルチ雰囲気炉は、処理物や反応ガスに合わせて、炉内材質、ガス供給ライン、排気系、除害設備、安全対策をカスタム設計できます。 化学反応、熱分解、還元反応、酸化反応、アンモニア雰囲気処理など、研究開発から試作、量産前評価まで対応可能です。 ■ 化学反応プロセスの反応条件を検討したい ■ NH3・COなどの発生ガスを想定した排気設備を検討したい ■ Air・N2・Ar・真空・アンモニアなど複数雰囲気で処理したい ■ 反応ガスに合わせた炉内材質やシール構造を検討したい ■ 既製炉ではガス種、排気仕様、安全対策が合わない ※資料では、マルチ雰囲気炉の基本構成、対応雰囲気、ガス供給・排気系統、反応性ガスを扱う際の設計ポイントを掲載しています。

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マルチ雰囲気炉|露点制御・湿潤雰囲気による金属表面処理

露点・酸素濃度を管理し、金属表面の酸化防止・改質・前処理に対応

金属部品や粉末材料の表面処理では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、処理時間が表面状態や品質に大きく影響します。 特に、酸化防止、表面改質、コーティング前処理、親水化・疎水化処理などでは、乾燥雰囲気・湿潤雰囲気・還元雰囲気を切り替えながら、再現性よく条件を検討することが重要です。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理した表面処理条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ 金属表面の酸化防止、表面改質、前処理に適用 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

  • 工業炉

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マルチ雰囲気炉|セラミックス焼結・緻密化条件の再現性向上

露点・酸素濃度を管理し、セラミックス焼結・緻密化条件を再現性よく評価

セラミックスの焼結・緻密化では、温度だけでなく、雰囲気ガス、露点、酸素濃度、昇温条件が、密度・気孔率・粒成長・表面状態に影響します。 特に、湿潤雰囲気での焼成、酸化・還元雰囲気の切替、乾燥→湿潤→乾燥などの雰囲気履歴を管理したい場合、通常の電気炉や管状炉では条件再現が難しくなることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換により炉内空気を排出した後、N2、Ar、Air、H2、NH3などの雰囲気ガスを切り替えて処理できます。また、Wetterを接続することで、湿潤雰囲気や露点を管理したセラミックス焼成条件の検討が可能です。 【特長】 ■ 真空置換後に各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ Wetter接続により湿潤雰囲気・露点制御に対応 ■ 乾燥→湿潤→乾燥など雰囲気履歴を管理可能 ■ セラミックスの焼結・緻密化・高密度化条件を検討可能 ■ 露点計・O2計を組み合わせた条件管理も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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管状炉|金属・合金の熱処理条件を見える化

温度・流量・圧力を同期記録し、金属・合金の熱処理条件を最適化

当社では、金属・合金材料の熱処理条件検討に適した「管状炉」を取り扱っております。 金属・合金の焼成や熱処理では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気条件が、合金組成、組織変化、酸化・還元挙動、品質ばらつきに影響します。 汎用管状炉では焼成前後の評価に留まり、熱処理中の温度変化、圧力変動、ガス流れを把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、熱処理中の温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで記録できます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力を同期ロギング ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気ラインを設計可能 ■ 真空、不活性ガス、H2など各種雰囲気に対応 ■ 金属・合金の熱処理条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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管状炉|電池電極材の焼成条件を見える化

温度・流量・圧力を同期記録し、電極焼成条件を最適化

当社では、電池電極材の焼成条件検討に適した「管状炉」を取り扱っております。 電極材料の焼成では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気条件が、均一性・特性ばらつき・不良発生に影響します。 汎用管状炉では焼成前後の評価に留まり、焼成中の反応挙動や条件変化を把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、焼成中の温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで記録できます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力を同期ロギング ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気ラインを設計可能 ■ 真空、不活性ガス、H2など各種雰囲気に対応 ■ 電極焼成条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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管状炉|セラミックス焼成中の温度・流量・圧力を見える化

焼成中の温度・流量・圧力を同期記録し、条件出しを効率化

当社では、セラミックス焼成プロセスの条件検討に適した「管状炉」を取り扱っております。 セラミックス焼成では、温度、圧力、雰囲気ガス、流量条件が焼成結果に大きく影響します。 汎用管状炉では焼成前後の評価に留まり、焼成中の温度変化、圧力変動、ガス流れを把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、焼成中の温度・流量・圧力を同一タイムスタンプで記録できます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力を同期ロギング ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気ラインを設計可能 ■ 真空、不活性ガス、H2など各種雰囲気に対応 ■ セラミックス焼成条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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管状炉|触媒活性化・反応挙動評価に対応

温度・流量・圧力・排気を同期記録し、触媒活性化条件を見える化

当社では、触媒活性化や反応挙動評価に適した「管状炉」を取り扱っております。 触媒処理では、温度、圧力、ガス流量、雰囲気切替のわずかな違いが活性や再現性に影響します。 汎用管状炉では焼成前後の分析に留まり、反応開始・終了やガス発生挙動を把握しにくい場合があります。 本設備では、MFC、圧力計、物温熱電対、サンプリングラインなどを用途に応じて組み込み、温度・流量・圧力・排気データを同期ロギングできます。 【特長】 ■ 温度・流量・圧力・排気データを同時記録 ■ 反応開始、終了、ガス発生のタイミングを把握 ■ MFC、圧力計、物温熱電対を用途に応じて実装 ■ サンプリングポート、排気分析ラインを設計可能 ■ 触媒活性化条件の比較・再現性確認に好適 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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小型ハロゲン対応炉|F系・Cl系ガスを用いた高温プロセス評価

腐食性ガスによる炉材劣化・リーク不安を抑え、ハロゲン雰囲気試験を安全に検討

ハロゲンガス(F系、Cl系など)を伴う高温プロセスでは、一般的な電気炉ではヒーター、炉材、配管、シール材の腐食や劣化が問題になる場合があります。 特に、フッ素系ガスや塩素系ガスを用いた表面処理、エッチング、洗浄、反応評価では、炉内材料の耐食性、排気・除害、ガス漏洩対策を含めた装置設計が重要です。 当社の小型ハロゲン対応炉は、腐食性ガスを用いた高温処理を小スケールで検討するための試験炉です。耐食材料、スクラバー連動、インターロック、安全機器を含めて、用途に応じた構成を検討できます。 【特長】 ■ F系・Cl系などのハロゲンガス雰囲気に対応 ■ 腐食性ガスを想定した炉材・配管・シール構成を検討 ■ スクラバー、ガス検知、非常遮断との連動が可能 ■ 小型炉で温度・ガス濃度・処理時間を事前評価 ■ 量産炉導入前のプロセス成立性確認に対応 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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はじめてでも迷わない-用途×雰囲気×温度で“ぴったりの炉"

塩素炉/カーボン炉/メタル炉/マルチ雰囲気炉/管状炉の“できる雰囲気・到達温度・向いている用途"を超かんたん解説

当社で取り扱う、5つの炉の雰囲気対応・温度めやす・代表用途について ご紹介いたします。 Cl2/HClなどハロゲンに対応した「塩素炉」をはじめ、極低酸素×高温の 「カーボン炉」、クリーン&俊敏な「メタル炉」、湿潤も含む幅広さがある 「マルチ雰囲気炉」、まず“当たり"を見る小スケールの「管状炉」を ラインアップ。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 【特長】 ■塩素炉 ・対応雰囲気:Cl2/HCl/不活性(N2・Ar) ・温度:〜1800℃級(機種・材質による) ・主な用途:塩素化/塩化揮発/ハロゲン化精製/表面改質 ■メタル炉 ・対応雰囲気:真空/空気/N2・Ar/少量H2 ・温度めやす:〜1800℃前後(機種による) ・主な用途:焼結・拡散接合/酸化・還元アニール/金属・セラミックスの結晶化 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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管状炉|反応挙動を見える化する試験炉

流量・圧力・物温・排気を同期記録し、反応開始〜終了を見える化

当社では、反応挙動の見える化に適した「管状炉」を取り扱っております。 汎用管状炉では、焼成前後の分析しかできず、反応開始・終了のタイミングやガス発生挙動、 圧力・流量の変化を把握しにくい場合があります。 本設備では、お客様の目的に応じて流量計、圧力計、物温測定、サンプリングポート、 排気分析ラインなどを組み合わせ、反応中のデータを同期ロギングできる構成で製作可能です。 【特長】 ■ 流量・圧力・物温・排気データを同時記録 ■ 反応開始、終了、ガス発生のタイミングを把握 ■ サンプリングポート、バイパスライン等を設計可能 ■ 真空、不活性ガス、H2など各種雰囲気に対応 ■ 排ガス評価や条件検討用の小スケール試験に好適 ※詳しくは、資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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マルチ雰囲気炉|反応条件を雰囲気×温度で精密設計

真空置換→N2/Ar/H2/NH3/加湿まで、雰囲気を切替えて反応条件を再現

当社では、酸化・還元・窒化・加湿など、複数雰囲気での材料評価に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 真空置換後にN2/Ar/H2/NH3/Air/加湿ガスなどを切替え、雰囲気×温度の二軸で反応条件を精密に設計できます。 炉内には真空システムを内蔵し、処理後の真空置換や所定ガス置換が可能です。雰囲気履歴を管理することで、炉内残留ガスリスクを低減します。 【特長】 ■ 真空置換後、各種ガス雰囲気へ切替可能 ■ H2/NH3/加湿ガスなど反応性ガスに対応 ■ 温度と雰囲気をプログラム制御 ■ 排気・除害・安全機器との連携も検討可能 ■ 研究開発からスケールアップ条件検討まで対応 ■設備導入前の焼成テストも可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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マルチ雰囲気炉|有害ガス発生を伴う焼成・排ガス処理に対応

小スケールでは見えにくい排ガスリスクを、炉・排気・除害設計でスケールアップ対応

当社では、NH3・CO・NOxなどの有害ガス発生を伴う焼成に対応した「マルチ雰囲気炉」を取り扱っております。 有機物を含む原料、樹脂系材料、触媒担体、電池材料などの焼成では、昇温・保持中にNH3、CO、NOx、HCN、炭化水素系ガスなどが発生する場合があります。 小型管状炉や小スケール試験では問題にならなかった発生ガスも、トレイ段数や処理量が増えることで、排気濃度・発生量・腐食性・安全対策が大きな課題になることがあります。 当社のマルチ雰囲気炉は、真空置換、雰囲気制御、加熱、排気、除害設備との連携まで含めて、焼成プロセス全体を設計できます。 【特長】 ■ NH3・CO・NOxなどの発生ガスを想定した炉設計 ■ 真空置換により処理前後の炉内ガス置換が可能 ■ N2、Ar、Air、NH3など各種雰囲気に対応 ■ スクラバー、触媒酸化、熱酸化など除害方式を検討可能 ■ トレイ段数・処理量増加を見据えたスケールアップ検討に対応 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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マルチ雰囲気炉|湿潤・加湿雰囲気での反応焼成に対応

Wetter直結の加湿制御+真空置換で、露点・酸素分圧・ガス種を精密制御

当社では、露点×酸素分圧を自在に設計できる「マルチ雰囲気炉」を 取り扱っております。 加湿がブレやすい/切替が遅く再現性が出ない、結露・逆流・汚染・腐食が 怖くて踏み出せない、チューブ炉では並列自由度が低く条件出しに時間がかかる などといった課題を解決。 また、仕様につきましては、お客様の要望によりカスタム可能ですので、 詳細はご相談ください。 【当社カーボン炉が効く理由】 ■ガス種に依存しない加湿系:N2/Ar/空気/(少量H2も可)へWetter直結で  加湿量を設定 ■真空置換→ガス置換:試料内部空気を事前除去し、立ち上がりから狙いの  湿潤雰囲気へ ■切替えの速さ:乾燥・湿潤、N2/Ar・空気(少量H2)を簡便に切り替え可能 ■棚積み×角型サヤ:同条件多検体で並列試験を短サイクル化 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。

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小型塩素炉|Cl2・HCl雰囲気での高温腐食評価に対応

Cl2・HClを含む高温腐食環境で、材料選定・寿命評価・腐食解析に対応

高温環境で使用される金属、合金、セラミックス、コーティング材では、Cl2、HCl、酸化性ガス、水蒸気などの腐食性雰囲気により、表面反応、酸化、塩化、剥離、脆化が発生する場合があります。 当社の小型塩素炉は、塩素・塩化水素雰囲気での腐食挙動を再現できる高温腐食評価用の試験炉です。 高温腐食性雰囲気の再現、耐食材料の比較、表面処理・コーティング材の評価、腐食メカニズム解析など、材料開発から設備部材選定まで幅広く活用できます。 また、常時負圧運転により腐食性ガスの炉外漏洩リスクを低減し、排気・除害設備と組み合わせた安全な試験環境を構築できます。 【特長】 ■ Cl2・HClなど腐食性ガス雰囲気での高温腐食評価に対応 ■ 金属、合金、セラミックス、コーティング材の耐食性を比較可能 ■ 温度、ガス種、濃度、処理時間を変えた腐食試験に対応 ■ 常時負圧運転により、腐食性ガスの漏洩リスクを低減 ■ 排気・除害・安全機器を含めた試験環境を検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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小型塩素炉|都市鉱山から有価金属を乾式分離・回収

温度・塩素分圧・圧力を制御し、Au・Cu・Sn・Fe・Niなどを塩化揮発で選択分離

都市鉱山には、Au、Cu、Sn、Fe、Niなどの有価金属やベースメタルが複雑に混在しています。 これらを湿式処理で分離・回収する場合、薬液使用、廃液処理、前処理工程、乾燥工程などが課題となる場合があります。 当社の小型塩素炉は、Cl2/HClを用いた乾式塩素化により、金属成分を揮発性塩化物へ変換し、温度・塩素分圧・圧力を制御しながら選択的に分離・回収する条件を検討できます。 例えば、低温域ではFeCl3、SnCl4など揮発しやすい塩化物を先行除去し、中温域ではAuCl3などの蒸気圧差を利用した貴金属分離を検討できます。 【特長】 ■ Cl2/HClによる乾式塩素化・塩化揮発に対応 ■ Au、Cu、Sn、Fe、Niなど複数金属の選択分離を検討可能 ■ 温度・塩素分圧・圧力を制御した段階処理に対応 ■ 湿式処理に伴う廃液・乾燥工程を低減 ■ 少量サンプルで都市鉱山リサイクル条件を探索可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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小型塩素炉|塩素・塩化水素ガスを安全に扱う試験炉

負圧運転・耐食設計・スクラバー連動で、Cl2/HCl処理を小型炉で安全に検討

Cl2、HClなどの腐食性ガスを用いた処理では、ガス漏洩、配管・炉材の腐食、未反応ガスの排気、除害処理など、安全面の設計が重要になります。 当社では、研究開発用の「小型塩素炉」を取り扱っております。 本設備は、塩素・塩化水素を安全かつ制御性高く扱える小型炉であり、腐食性ガスを用いた材料試験、金属不純物除去、選択塩素化、治具洗浄などの条件検討に使用できます。 耐食材料を使用した炉体・配管構成、スクラバー連動、腐食ガスモニタ、非常遮断、インターロックなどを組み合わせることで、研究用途でもCl2/HCl処理を安全に実施しやすい構成を検討できます。 【特長】 ■ Cl2/HClなど腐食性ガス処理に対応 ■ 常時負圧運転により炉外へのガス漏洩リスクを低減 ■ 耐食材料を使用した炉体・配管構成 ■ スクラバー、腐食ガスモニタ、非常遮断との連動が可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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カーボン炉|極低酸素・3000℃級の高温焼成に対応

極低酸素雰囲気で、黒鉛化・炭化・窒化・高温改質を再現性よく

当社で取り扱う「カーボン炉」は、極低酸素雰囲気での3000℃級高温処理に対応した電気炉です。 真空置換により炉内空気を事前に排出し、炉材カーボンのゲッタリング効果により残存酸素や酸化性成分を低減します。 高温域での酸化、脱炭、再酸化を抑え、黒鉛化・炭化・窒化・高温改質などの処理条件を再現しやすい構成です。 炭素材料、カーボンブラック、CNT、CNF、黒鉛シート、セラミックス、粉末冶金材料、半導体治具などの高温処理に適用できます。 【特長】 ■ 極低酸素雰囲気での高温焼成 ■ 常用2800℃、最大3000℃級に対応 ■ 真空置換により炉内残留空気を低減 ■ 炉材カーボンによる酸素ゲッタリング効果 ■ サヤ・トレイ設計により複数サンプルの同時処理が可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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カーボン炉|N₂雰囲気での窒化反応・高温焼成テストに対応

N₂ベースの窒化反応を、極低酸素・高温環境で事前評価

設備導入前の窒化・高温焼成テストに対応可能です。 温度、雰囲気、処理時間などが未確定の段階でも、目的に応じたテスト条件の検討からご相談いただけます。 実サンプルを用いた事前評価により、反応性などを確認し、設備仕様の検討に活用できます。 当社で取り扱う「カーボン炉」は、窒化の基礎反応試験に好適です。 N2のみでは反応開始温度が高いため、粒成長・粗大化とのバランスが難しい、 冷却時に表面再酸化し、色調・抵抗・硬度のばらつきにつながるなどといった 課題を解決します。 また当社は、小型機以外にも量産スケールの炉も製作実績があります。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が効く理由】 ■極低酸素分圧をつくる ・真空引き→N2置換で酸素ポテンシャルを段階的に下げる ・炉材カーボンのゲッタリングが残存O2を吸収し、酸化側副反応を抑制 ■十分な高温域へ素早く到達 ・1400-2400℃まで短時間で到達・安定保持 ■短サイクルで条件出し ・棚構成で複数試料を同時評価、厚み・接触の影響を検証しやすい ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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カーボン炉|低酸素・高温環境での炭化反応テストに対応

SiC・TiC・ZrCなどの炭化反応を、低酸素・高温環境で事前評価

設備導入前の炭化・高温焼成テストに対応可能です。 温度、雰囲気、処理時間などが未確定の段階でも、目的に応じたテスト条件の検討からご相談いただけます。 実サンプルを用いた事前評価により、反応性などを確認し、設備仕様の検討に活用できます。 当社では、真空→不活性ガスへ段階置換できる小型の「カーボン炉」を 取り扱っております。 固相炭化(粉末混合法・被覆法・浸炭)や複合炭化(B4C併用など)による 高硬度化、炭素供給条件の最適化(炭素材の種類・比率・接触状態)などの 実験・プロセスに使用可能です。 ご要望の際は、当社までお気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が選ばれる理由(一部)】 ■短時間で高温域へ ・1600-2800℃**を安定到達・保持 ・炭化に効く温度目安:SiC 1600–2000℃、TiC 1500–2100℃、ZrC 1800–2300℃ ■極低酸素分圧で副反応を抑制 ・真空引き→Ar/N2へ置換 ・炉材カーボンのゲッタリングで残存酸素を低減、CO生成を抑える ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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カーボン炉|極低酸素・3000℃級の高温焼成テストに対応

真空置換とカーボンゲッタリングで、3000℃級の高温処理を再現評価

設備導入前の極低酸素・超高温焼成テストに対応可能です。 温度、雰囲気、処理時間などが未確定の段階でも、目的に応じたテスト条件の検討からご相談いただけます。 実サンプルを用いた事前評価により、黒鉛化、再結晶化、粒成長、相形成、酸化影響などを確認し、設備仕様の検討に活用できます。 当社で取り扱う「カーボン炉」は、条件出しに時間がかかり、 短サイクルでの再現が難しいなどといった課題を解決します。 真空引きで試料内部の空気を事前に排出、置換時間を短縮。 また、トレイ自由度/棚構成で角型サヤなどを並列配置し、 厚みムラの影響評価も可能です。 当社では、テスト機もご用意いたしております。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【当社カーボン炉が効く理由(一部)】 ■極低酸素分圧での焼成 ・真空→Ar/N2へ段階置換 ・炉材カーボンのゲッタリング効果で残存O2/酸化性種を低減 ■超高温プロセス ・常用~2800℃、最大~3000℃クラスでの長時間安定運転 ・1200~2600℃帯の緩昇温→保持で粒成長や再配列を精密制御 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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カーボン炉|炭素材料の黒鉛化・高温改質テストに対応

極低酸素・3000℃級で、炭素材料の黒鉛化・導電性向上を事前評価

設備導入前の黒鉛化・高温改質テストに対応可能です。 温度、雰囲気などが未確定の段階でも、目的に応じたテスト条件の検討からご相談いただけます。 実サンプルを用いた事前評価により、黒鉛化度、表面状態などを確認し、設備仕様の検討に活用できます。 当社では3000℃級・極低酸素の「カーボン炉」を取り扱っております。 酸素分圧が下がらず、高温域で酸化・脱炭が発生して目標特性に届かない、 チューブ炉ではトレイ自由度が乏しく処理量が低い/試料サイズ制約が厳しい といった課題を解決。 黒鉛材料や黒鉛箔・黒鉛シート、等方性黒鉛・成形体の用途に使用可能です。 【黒鉛化で効く理由】 ■極低酸素を作りやすい:炉材がカーボンで残存酸素を化学的に捕捉+真空置換で  試料内部空気を事前に排除 ■3000℃級の温度帯:-3000℃の黒鉛化域で均熱・保持が安定、短時間到達・高再現 ■トレイ/サヤ設計の自由度:角型サヤ+棚積みで複数サンプルを同時処理、  条件出しを高速化 ■雰囲気柔軟性:真空/Ar/N2/低濃度H2※で欠陥低減・熱脱離を組み合わせ可能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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メタル炉|極真空・炉材などのコンタミフリーの高純度熱処理炉

極真空×メタルホットゾーンで、炉材由来のコンタミを抑えた高純度熱処理

当社で取り扱う「メタル炉」は、極真空雰囲気での高純度熱処理に対応した電気炉です。 炉内のホットゾーンをメタル材で構成することで、黒鉛材・断熱材・有機物由来のアウトガスや炭素コンタミを抑制し、 材料本来の表面反応・相変化を評価しやすい環境を実現します。 メタル炉では、内壁・ヒーター・治具を金属系材料で構成することにより、炉材由来の汚染を抑えたクリーンな熱処理が可能です。 特に、炉材のコンタミを嫌う材料、表面反応や相変化を正確に評価したい材料、貴金属・遷移金属・薄膜・電極材・光学部材などのアニールに適しています。 【特長】 ■ 極真空雰囲気に対応 ・その他の電気炉では到達が難しい極真空雰囲気を形成可能 ・酸素、水分、残留ガスの影響を抑えた高純度熱処理に対応 ■ 炉材由来コンタミを抑制 ・長期使用による炉材劣化、粉化、アウトガスの影響を抑えやすい ・断熱材や黒鉛部材由来の汚染を嫌う材料に適用可能 また、設備導入前の条件確認として、実サンプルを用いた焼成テストにも対応可能です。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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メタル炉|セラミックスや金属のろう付けを高純度雰囲気で

セラミックスと金属の熱膨張差を制御しながら、クリーン雰囲気で強固に封着

当社で取り扱う「メタル炉」は、セラミックスや金属の封着・ろう付け・拡散接合に適した高純度雰囲気炉です。 微量O2/H2O/炭化水素は、濡れ性・界面反応・気密性に影響します。 メタル炉は高真空雰囲気とMo/W系金属ホットゾーンにより、炭素・有機由来の汚染を抑えた熱処理が可能です。 薄膜・電極・光学部材の高純度アニール、封止処理にも適用できます。 【特長】 ■ 高真空雰囲気で残留ガスの影響を低減 ■ 金属ホットゾーンによりクリーン雰囲気を維持 ■ ±1℃以内の温度均一性と長期安定制御 ■ 金属治具や荷重機構との組合せが可能 ■ 試料の小型化・局所加熱試験にも対応 ※さらに詳しい情報については資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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メタル炉|極真空・高純度雰囲気でO・C・H₂O由来の影響を低減

酸化物・窒化物材料の脱ガス・脱水・脱炭を、極真空〜還元雰囲気で制御

当社で取り扱う「メタル炉」は、極真空雰囲気での高純度熱処理に対応した電気炉です。 炉内のホットゾーンをメタル材で構成することで、黒鉛材・断熱材・有機物由来のアウトガスやカーボンコンタミを抑制し、 酸素・炭素・水分の影響を低減したクリーンな熱処理環境を形成します。 メタル炉では、金属ヒーター・金属チャンバー構造により、極真空からAr/N₂/H₂などの雰囲気制御まで対応し、 高純度粉末やセラミック部材の脱ガス、脱水、脱炭、還元処理に適用できます。 【特長】 ■ 極真空雰囲気に対応 ・10^-3〜10^-5 Paの真空到達に対応 ■ メタルホットゾーン構成 ・金属ヒーター、金属チャンバー構造により、炉材の混入を抑制 ■ 高精度な温度・雰囲気制御 ・真空、Ar、N₂、H₂など、目的に応じた雰囲気制御に対応 ■ 小型から大型へのスケールアップに対応 ・小型機で条件確認後、大型炉への展開も検討可能 また、設備導入前の条件確認として、実サンプルを用いた焼成テストにも対応可能です。 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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メタル炉|高純度アニール・表面改質に対応

メタルホットゾーンで炉材由来コンタミを抑え、金属粉・薄膜材料をクリーンに熱処理

当社で取り扱う「メタル炉」は、小型・密閉構造のため、研究室・ 分析室レベルでも安全に設置可能です。 触媒担体や導電材料の還元処理、スパッタターゲット材・焼結体前処理の 高純度熱処理、高温での酸化・拡散・析出挙動の基礎研究などの用途に好適。 テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作可能です。 【特長】 ■炉材に金属(Mo/W/ステンレス等)を採用し、カーボン由来の汚染を抑制 ■真空雰囲気~還元雰囲気(H₂/N₂/Ar)まで対応し、高純度環境での熱処理が可能 ■高精度な温度制御(~1800℃)により、薄膜や微粒子のアニール条件を正確に再現 ■小型・密閉構造のため、研究室・分析室レベルでも安全に設置可能 ■量産機へのスケールアップ実績あり  (サーモニックENGでは大型メタル炉の製造実績もあり) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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電気炉ラインナップ|作りにくい材料を試作から量産へ

低酸素・超高温・高純度・腐食性ガス・多雰囲気など、特殊焼成条件に対応

当社は、材料の試作・評価から量産検討まで対応する電気炉メーカーです。 一般的な電気炉では対応が難しい、低酸素、超高温、高純度雰囲気、腐食性ガス、多雰囲気切替、加湿雰囲気、排ガス評価などの特殊焼成条件に合わせて、最適な炉構成をご提案します。 小型塩素炉、カーボン炉、メタル炉、マルチ雰囲気炉、管状炉などを用途に応じて選定し、材料反応・雰囲気制御・安全対策まで含めた装置設計が可能です。 【取り扱い炉の例】 ■ 小型塩素炉:Cl2/HClを用いた選択塩素化・金属不純物除去 ■ カーボン炉:極低酸素・3000℃級の黒鉛化、炭化、高温焼成 ■ メタル炉:炉材コンタミ・断熱材由来アウトガスを抑えた高純度熱処理 ■ マルチ雰囲気炉:酸化・還元・窒化・加湿・熱CVD条件の検討 ■ 管状炉:反応中の温度・流量・圧力・排気データの見える化 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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特殊電気炉・加熱装置の商社パートナー募集

標準機では難しい案件に対応する特殊電気炉メーカーの商社パートナー募集

株式会社サーモニックENGでは、技術商社・装置商社を対象に、特殊電気炉・加熱装置に関する商社パートナーを募集しています。 当社は、小型~パイロットスケールまでの各種電気炉をはじめ、メタル炉、カーボン炉、マルチ雰囲気炉、管状炉、小型塩素炉など、特殊条件に対応する加熱装置を取り扱っています。高温・高真空・不活性・還元・塩素系雰囲気など、標準機では対応が難しい案件についても、仕様検討段階からご相談いただけます。 【このような商社様を募集しています】 ■ 技術商社 ■ 装置商社 ■ 研究機関、材料メーカー、大学などとのネットワークをお持ちの企業様 【このような案件をご相談ください】 ■ 他社標準機では対応不可とされた特殊仕様案件 ■ 真空・不活性・還元・塩素系など特殊雰囲気を伴う熱処理案件 ■ 高温処理・特殊材料・複数工程を含むプロセス開発案件 ■ 研究開発・試作・量産検討など条件整理から進めたい案件 詳細はダウンロード資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

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カスタム管状炉|管サイズ・加熱ゾーン・昇温条件を個別設計

管径・加熱ゾーン・雰囲気・計装まで、用途に合わせて設計する特注管状炉

当社では、お客様の用途に合わせて仕様を設計する「カスタム管状炉」を取り扱っております。 標準品の管状炉では、管サイズ、加熱ゾーン長さ、昇温速度、処理温度、雰囲気ガス、計装構成などが合わず、目的の試験条件を再現できない場合があります。 当社の管状炉は、約1200℃の安定運転を基本に、加熱ゾーン、管サイズ、ガスライン、計測器、サンプリングポートなどを用途に応じて個別設計できます。 N2/Arなどの不活性ガス、H2など各種ガスにも対応可能です。ご希望の炉内寸法、温度条件、雰囲気条件に合わせて仕様をご提案します。 【特長】 ■ 管サイズ・加熱ゾーン長さを用途に応じて設計 ■ 昇温速度、温度分布、処理量に合わせた炉構成を検討 ■ N2/Ar/H2など各種ガス雰囲気に対応 ■ 物温熱電対、MFC、圧力計、O2計など計装を選定可能 ■ サンプリングポートや排気ラインもカスタム対応 ※標準品では仕様が合わない場合も、お気軽にご相談ください。

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小型塩素炉|Cl2・HCl処理の現場課題と安全対策

Cl2・HClを使いたいが安全面が不安――そんな現場課題に応える小型塩素炉

「Cl2・HClを使った処理を検討したいが、安全面が不安」 「湿式処理の廃液・乾燥工程を減らし、乾式で金属不純物を除去したい」 このような現場課題に対して、当社ではCl2/HCl対応の小型塩素炉をご提案しています。 小型塩素炉は、酸化物・金属中の微量不純物を揮発性塩化物として除去するドライプロセスや、ハロゲン洗浄、表面処理、腐食性ガス雰囲気での材料評価に適用できます。 独自設計により、リークしやすい中温域でのCl2/HClガス使用を想定し、耐食構造、負圧運転、ガス検知、非常遮断、除害スクラバー連動など、安全な運用を考慮した炉構成を検討できます。 【よくあるお困りごと】 ■ 湿式処理は廃液処理・乾燥工程・エネルギーコストが重い ■ 製品が禁水性のため、湿式処理を避けたい ■ ドライ雰囲気で選択的に金属不純物を除去したい ■ 腐食性ガスを使いたいが、リーク・除害・安全対策が不安 ■ 少量サンプルでCl2/HCl処理条件を比較したい ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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小型メタル炉|炉材コンタミを抑えた高純度焼成に対応

オールメタル構成で、カーボン・炉材由来の汚染を抑えた高純度熱処理

当社で取り扱う「小型メタル炉」は、カーボンコンタミを嫌う材料の高純度焼成・アニールに適した電気炉です。 オールメタル構成により、黒鉛材や有機系断熱材に由来する炭素汚染を抑え、色味・表面状態・特性の再現性向上に貢献します。 ~1800℃の安定運転に対応し、高温焼成、拡散接合、時効処理、表面改質などに使用できます。 大学・研究室など設置スペースが限られる環境でも導入しやすいコンパクト設計です。 【特長】 ■ オールメタル構成でカーボンコンタミを低減 ■ ~1800℃の高温処理に対応 ■ N2パージ・置換により低酸素雰囲気を再現 ■ 色味・表面状態・物性の再現性向上に貢献 ■ 研究室・試作環境にも設置しやすい小型設計 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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小型カーボン炉|低酸素×3000℃級を実現する設計構造

真空置換・高気密構造・グラファイト加熱で、低酸素と3000℃級処理を両立

当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気と3000℃級の超高温処理を両立できる加熱炉です。 高温処理では、炉内に残った酸素や微小リークが、酸化・再酸化・材料劣化の原因となる場合があります。 本設備では、真空ポンプによる置換、高気密シール設計、グラファイトヒーターによる高効率加熱により、酸素の影響を抑えた超高温処理が可能です。 炭素材料の黒鉛化、SiC・B4Cなどのセラミックス焼成、高融点材料の熱処理など、一般的な電気炉では温度や雰囲気が不足する用途に適しています。 【特長】 ■ 真空置換により炉内残留酸素を低減 ■ 高気密シール設計で微小リークを抑制 ■ グラファイトヒーターで短時間に超高温域へ昇温 ■ 3000℃クラスまで安定到達可能 ■ 長時間運転でも低酸素雰囲気を維持しやすい構造 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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小型カーボン炉|3000℃級・低酸素雰囲気での主な用途

黒鉛化、炭化、焼結、結晶化など、小型カーボン炉で検討できる用途を紹介

当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気での3000℃級高温処理に対応した電気炉です。 炉内に炭素部材を採用し、真空置換後にAr、N2などの不活性ガス雰囲気で処理することで、高温域での酸化・再酸化を抑えた安定した加熱環境を形成します。 本資料では、小型カーボン炉の主な用途として、炭素材料の黒鉛化、セラミックスの炭化・焼結、高融点材料の高温処理、研究開発向けの小スケール試験などをご紹介します。 【主な仕様例】 ■ 設備寸法:1000W×1000D×2100H mm ■ 炉内有効寸法:200W×200D×200H mm ■ 対応雰囲気:不活性ガス Ar、N2、および真空 ■ 炉内材質:グラファイト ■ ドア構造:開き方式 ■ 真空ポンプ:ロータリーポンプ ■ 記録監視:温度、流量、圧力など ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

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