サーモニックENGの製品ラインアップ

当社で取り扱う「メタル炉」は、小型・密閉構造のため、研究室・ 分析室レベルでも安全に設置可能です。 触媒担体や導電材料の還元処理、スパッタターゲット材・焼結体前処理の 高純度熱処理、高温での酸化・拡散・析出挙動の基礎研究などの用途に好適。 テスト機もご用意いたしております。 また、小型機以外にも量産スケールの炉も製作可能です。 【特長】 ■炉材に金属(Mo/W/ステンレス等)を採用し、カーボン由来の汚染を抑制 ■真空雰囲気～還元雰囲気(H₂/N₂/Ar)まで対応し、高純度環境での熱処理が可能 ■高精度な温度制御(～1800℃)により、薄膜や微粒子のアニール条件を正確に再現 ■小型・密閉構造のため、研究室・分析室レベルでも安全に設置可能 ■量産機へのスケールアップ実績あり 　(サーモニックENGでは大型メタル炉の製造実績もあり) ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉

当社は、材料の試作・評価から量産検討まで対応する電気炉メーカーです。 一般的な電気炉では対応が難しい、低酸素、超高温、高純度雰囲気、腐食性ガス、多雰囲気切替、加湿雰囲気、排ガス評価などの特殊焼成条件に合わせて、最適な炉構成をご提案します。 小型塩素炉、カーボン炉、メタル炉、マルチ雰囲気炉、管状炉などを用途に応じて選定し、材料反応・雰囲気制御・安全対策まで含めた装置設計が可能です。 【取り扱い炉の例】 ■ 小型塩素炉：Cl2/HClを用いた選択塩素化・金属不純物除去 ■ カーボン炉：極低酸素・3000℃級の黒鉛化、炭化、高温焼成 ■ メタル炉：炉材コンタミ・断熱材由来アウトガスを抑えた高純度熱処理 ■ マルチ雰囲気炉：酸化・還元・窒化・加湿・熱CVD条件の検討 ■ 管状炉：反応中の温度・流量・圧力・排気データの見える化 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

株式会社サーモニックENGでは、技術商社・装置商社を対象に、特殊電気炉・加熱装置に関する商社パートナーを募集しています。 当社は、小型～パイロットスケールまでの各種電気炉をはじめ、メタル炉、カーボン炉、マルチ雰囲気炉、管状炉、小型塩素炉など、特殊条件に対応する加熱装置を取り扱っています。高温・高真空・不活性・還元・塩素系雰囲気など、標準機では対応が難しい案件についても、仕様検討段階からご相談いただけます。 【このような商社様を募集しています】 ■ 技術商社 ■ 装置商社 ■ 研究機関、材料メーカー、大学などとのネットワークをお持ちの企業様 【このような案件をご相談ください】 ■ 他社標準機では対応不可とされた特殊仕様案件 ■ 真空・不活性・還元・塩素系など特殊雰囲気を伴う熱処理案件 ■ 高温処理・特殊材料・複数工程を含むプロセス開発案件 ■ 研究開発・試作・量産検討など条件整理から進めたい案件 詳細はダウンロード資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 工業炉
• 加熱装置
• 電気炉・マッフル炉

当社では、お客様の用途に合わせて仕様を設計する「カスタム管状炉」を取り扱っております。 標準品の管状炉では、管サイズ、加熱ゾーン長さ、昇温速度、処理温度、雰囲気ガス、計装構成などが合わず、目的の試験条件を再現できない場合があります。 当社の管状炉は、約1200℃の安定運転を基本に、加熱ゾーン、管サイズ、ガスライン、計測器、サンプリングポートなどを用途に応じて個別設計できます。 N2/Arなどの不活性ガス、H2など各種ガスにも対応可能です。ご希望の炉内寸法、温度条件、雰囲気条件に合わせて仕様をご提案します。 【特長】 ■ 管サイズ・加熱ゾーン長さを用途に応じて設計 ■ 昇温速度、温度分布、処理量に合わせた炉構成を検討 ■ N2/Ar/H2など各種ガス雰囲気に対応 ■ 物温熱電対、MFC、圧力計、O2計など計装を選定可能 ■ サンプリングポートや排気ラインもカスタム対応 ※標準品では仕様が合わない場合も、お気軽にご相談ください。

• 工業炉

「Cl2・HClを使った処理を検討したいが、安全面が不安」 「湿式処理の廃液・乾燥工程を減らし、乾式で金属不純物を除去したい」 このような現場課題に対して、当社ではCl2/HCl対応の小型塩素炉をご提案しています。 小型塩素炉は、酸化物・金属中の微量不純物を揮発性塩化物として除去するドライプロセスや、ハロゲン洗浄、表面処理、腐食性ガス雰囲気での材料評価に適用できます。 独自設計により、リークしやすい中温域でのCl2/HClガス使用を想定し、耐食構造、負圧運転、ガス検知、非常遮断、除害スクラバー連動など、安全な運用を考慮した炉構成を検討できます。 【よくあるお困りごと】 ■ 湿式処理は廃液処理・乾燥工程・エネルギーコストが重い ■ 製品が禁水性のため、湿式処理を避けたい ■ ドライ雰囲気で選択的に金属不純物を除去したい ■ 腐食性ガスを使いたいが、リーク・除害・安全対策が不安 ■ 少量サンプルでCl2/HCl処理条件を比較したい ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う「小型メタル炉」は、カーボンコンタミを嫌う材料の高純度焼成・アニールに適した電気炉です。 オールメタル構成により、黒鉛材や有機系断熱材に由来する炭素汚染を抑え、色味・表面状態・特性の再現性向上に貢献します。 ～1800℃の安定運転に対応し、高温焼成、拡散接合、時効処理、表面改質などに使用できます。 大学・研究室など設置スペースが限られる環境でも導入しやすいコンパクト設計です。 【特長】 ■ オールメタル構成でカーボンコンタミを低減 ■ ～1800℃の高温処理に対応 ■ N2パージ・置換により低酸素雰囲気を再現 ■ 色味・表面状態・物性の再現性向上に貢献 ■ 研究室・試作環境にも設置しやすい小型設計 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気と3000℃級の超高温処理を両立できる加熱炉です。 高温処理では、炉内に残った酸素や微小リークが、酸化・再酸化・材料劣化の原因となる場合があります。 本設備では、真空ポンプによる置換、高気密シール設計、グラファイトヒーターによる高効率加熱により、酸素の影響を抑えた超高温処理が可能です。 炭素材料の黒鉛化、SiC・B4Cなどのセラミックス焼成、高融点材料の熱処理など、一般的な電気炉では温度や雰囲気が不足する用途に適しています。 【特長】 ■ 真空置換により炉内残留酸素を低減 ■ 高気密シール設計で微小リークを抑制 ■ グラファイトヒーターで短時間に超高温域へ昇温 ■ 3000℃クラスまで安定到達可能 ■ 長時間運転でも低酸素雰囲気を維持しやすい構造 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気での3000℃級高温処理に対応した電気炉です。 炉内に炭素部材を採用し、真空置換後にAr、N2などの不活性ガス雰囲気で処理することで、高温域での酸化・再酸化を抑えた安定した加熱環境を形成します。 本資料では、小型カーボン炉の主な用途として、炭素材料の黒鉛化、セラミックスの炭化・焼結、高融点材料の高温処理、研究開発向けの小スケール試験などをご紹介します。 【主な仕様例】 ■ 設備寸法：1000W×1000D×2100H mm ■ 炉内有効寸法：200W×200D×200H mm ■ 対応雰囲気：不活性ガス Ar、N2、および真空 ■ 炉内材質：グラファイト ■ ドア構造：開き方式 ■ 真空ポンプ：ロータリーポンプ ■ 記録監視：温度、流量、圧力など ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

当社で取り扱う「小型カーボン炉」は、低酸素雰囲気での3000℃級高温処理に対応した電気炉です。 炉内にグラファイト部材を採用し、真空置換後にAr、N2などの不活性ガス雰囲気で処理することで、 高温域での酸化・再酸化を抑えた安定した加熱環境を形成します。 本資料では、小型カーボン炉の主な用途として、高温材料の合成・焼結、炭素材料の高結晶化、 金属材料の高温処理・還元反応、高温ガス反応評価、研究開発向けの小スケール試験をご紹介します。 【主な用途例】 ■ 高温材料の合成・焼結 ■ 炭素材料の黒鉛化・高結晶化処理 ■ 金属材料の高温処理・還元反応 ■ N2、H2、Arなどを用いた高温ガス反応評価 ■ 研究開発・試作スケールでの材料プロセス評価 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

小型カーボン炉は、極低酸素雰囲気と3000℃級の超高温処理を両立できる点が特長です。 本資料では、なぜ低酸素環境を維持できるのか、なぜ3000℃級の高温処理が可能なのかを、炉材・真空置換・不活性ガスパージ・熱設計の観点から解説します。 炉内をグラファイト部材で構成することで、高温域で残留O2、CO2、H2Oなどの酸化性成分の影響を抑えやすくなります。 また、真空引きとAr/N2などの不活性ガス置換を組み合わせることで、粉末内部や炉内に残る空気を排出し、酸化を嫌う材料処理に適した雰囲気を形成します。 【解説内容】 ■ なぜ極低酸素雰囲気を形成できるのか ■ 真空置換＋不活性ガスパージの役割 ■ グラファイト炉材による酸素影響の低減 ■ なぜ3000℃級の超高温処理が可能なのか ■ 黒鉛化・炭化・高温焼成に適する理由 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

乾式・還元系の熱処理ニーズが高まる一方で、研究現場では「温度が足りない」「仕込みサイズが合わない」「低酸素雰囲気を維持しにくい」といった課題があります。 特に、炭素材料の黒鉛化、セラミックスの炭化・窒化、電池材料・触媒担体の乾式処理では、一般的な電気炉では温度・雰囲気・処理スペースが不足する場合があります。 当社の小型カーボン炉は、グラファイト発熱体と高断熱構造、真空置換、不活性ガス雰囲気制御により、短時間加熱・高温均一性・低酸素雰囲気の両立を目指した装置です。 【研究現場の主な課題】 ■ 最大到達温度の制限により、高温処理条件を再現できない ■ 仕込みサンプル量や有効加熱域が小さく、スケール検討しにくい ■ 低酸素雰囲気の維持が難しく、酸化・再酸化が発生する ■ 乾式還元、黒鉛化、炭化、窒化条件を小型炉で検討したい ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

「温度は出るのに、狙った反応場が作れない」 炭素材料、セラミックス、高融点材料の高温処理では、単に温度を上げるだけでは十分ではありません。 炉内酸素、昇温速度、熱履歴、炉内雰囲気のわずかな違いにより、酸化・再酸化、特性ブレ、反応ムラが発生する場合があります。 本資料では、極低酸素雰囲気と2,000〜3,000℃級の高温処理を両立する「小型カーボン炉」の実力を、現場目線で解説します。 【このような課題に】 ■ 昇温はできるが、サンプル状態や特性が安定しない ■ 大型炉では立ち上げに時間がかかり、条件出しが難しい ■ 高温処理中の酸化・再酸化を抑えたい ■ 酸素管理と熱履歴をそろえて、結晶性・導電性・微構造を再現したい 小型カーボン炉では、短時間試行、条件変更、酸素管理、熱履歴管理を行いやすく、研究開発・試作段階での条件検討に適しています。 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

Cl2、HClなどの腐食性・有毒ガスを高温で扱う場合、「安全に運用できるのか」という点が最も大きな懸念になります。 小型塩素炉では、単に塩素ガスを流せるだけでなく、炉外漏洩、接ガス部の腐食、未反応ガスの排出、異常時の遮断、スクラバー連動まで含めた安全設計が重要です。 当社の小型塩素炉は、真空・減圧運転を基本とし、炉内圧を大気圧より低く保つことで、Cl2/HClの炉外漏洩リスクを低減します。 また、接ガス部の腐食対策、ガス検知、非常遮断、パージ手順、除害設備との連動を含めて、運用時のリスクを管理しやすい構成を検討できます。 【本資料でわかること】 ■ Cl2/HCl処理で想定すべき安全リスク ■ 真空・減圧運転によるリーク対策の考え方 ■ 接ガス部の腐食対策と材料選定のポイント ■ パージ、流量、滞留時間など運用設計の重要性 ■ ガス検知、非常遮断、スクラバー連動の考え方 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください

• 工業炉

粉体原料や機能材料では、Fe、Cu、Niなどの金属不純物が、製品特性や歩留まりに影響する場合があります。 特に、電池材料、セラミックス、半導体材料、高純度粉末では、金属不純物の管理レベルがppm〜ppb領域まで求められるケースが増えています。 従来は、湿式処理による溶解除去や、磁選による磁性粒子の回収が一般的でした。 しかし、湿式処理では廃液処理・乾燥工程・再汚染が課題となり、磁選では非磁性金属化合物や微細付着物の除去が難しい場合があります。 そこで当社では、Cl2・HClなどのハロゲンガスを用い、金属不純物を揮発性塩化物へ変換して分離する「小型塩素炉」をご提案しています。 【このような課題に】 ■ 湿式処理の廃液・乾燥工程を減らしたい ■ ppm〜ppbレベルのFe/Cu/Ni不純物を低減したい ■ 磁選では取り切れない金属不純物を除去したい ■ 粉末・多孔質体・セラミックス内部の不純物を処理したい ■ 少量サンプルでCl2/HCl処理条件を確認したい ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

「小型塩素炉」は、Cl2・HClなどのハロゲンガスを用い、金属不純物を揮発性塩化物へ変換して分離する乾式プロセスに対応した試験炉です。 材料中のFe、Ni、Cu、Al、Na、Cr、Pなどの不純物は、塩素化により母材とは異なる蒸気圧・沸点を持つ塩化物となる場合があります。 この性質を利用し、温度・ガス種・処理時間を調整することで、母材を残しながら不純物のみを選択的に揮発・分離する条件を検討できます。 湿式処理のような廃液処理・乾燥工程を抑えたい場合や、水分を嫌う粉末・セラミックス・高純度材料の不純物低減に適しています。 【特長】 ■ Cl2・HClによる選択塩素化に対応 ■ 金属不純物を揮発性塩化物として分離検討 ■ 蒸気圧差・反応温度差を利用したドライ精製 ■ 高純度粉末、セラミックス、SiC、Si3N4、Al2O3等に適用検討 ■ 少量サンプルで温度・ガス濃度・処理時間を比較可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

MOCVDやCVD工程で使用されるサセプタ、石英ボート、石英管、治具類には、GaN、AlN、Si系生成物、金属成分を含む反応生成物が付着する場合があります。 これらの付着物は、薬液洗浄や機械的な除去では落としにくく、母材の寸法変化、表面荒れ、破損、洗浄コスト増加につながることがあります。 当社の小型塩素炉は、Cl2/HClを用いた選択塩素化により、付着物を揮発性塩化物へ変換し、母材への影響を抑えながらドライ洗浄条件を検討できます。 サセプタや石英治具を再利用したい場合、薬液洗浄を減らしたい場合、治具寿命を延ばしたい場合に適した小型試験炉です。 【特長】 ■ Cl2/HClによる乾式塩素化洗浄に対応 ■ GaN、AlN、Si系付着物、金属成分の除去を検討可能 ■ 薬液洗浄では難しい堆積膜・反応生成物に対応 ■ 母材の寸法変化・表面荒れを抑えた条件検討が可能 ■ 少量治具で温度・ガス濃度・処理時間を比較可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

セラミックス粉末の高純度化では、Fe、Ni、Cr、Naなどの金属不純物が、製品特性・焼結性・絶縁性・歩留まりに影響する場合があります。 当社の小型塩素炉は、Cl2/HClを用いた選択塩素化により、SiO2、Al2O3、Si3N4などのセラミックス粉に混在する金属不純物を、揮発性塩化物として乾式除去する条件を検討できます。 湿式処理と異なり、洗浄水・廃液処理・乾燥工程を抑えられるため、水分を嫌う粉末や再汚染を避けたい高純度材料の処理に適しています。 少量サンプルで温度、ガス種、ガス濃度、処理時間を比較できるため、高純度セラミックス粉末の試作・条件探索に活用できます。 【特長】 ■ Cl2/HClによる選択塩素化に対応 ■ Fe、Ni、Cr、Naなど金属不純物の乾式除去を検討可能 ■ SiO2、Al2O3、Si3N4などセラミックス粉末に適用検討 ■ 湿式処理に伴う廃液・乾燥工程を低減 ■ 少量サンプルで温度・ガス濃度・処理時間を比較可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

カーボン粉末の高純度化では、Fe、Ni、Al、Cuなどの金属不純物が、導電性、電池特性、触媒活性、黒鉛化処理後の品質に影響する場合があります。 当社の小型塩素炉は、Cl2/HClを用いた選択塩素化により、CNT、カーボンブラック、人造黒鉛、導電助剤などに残る金属不純物を、揮発性塩化物として乾式除去する条件を検討できます。 湿式処理と異なり、洗浄水・廃液処理・乾燥工程を抑えられるため、水分を嫌うカーボン材料や、乾燥後の再凝集・再汚染を避けたい粉末処理に適しています。 また、負圧運転や酸素分圧を考慮した炉構成により、カーボン母材の酸化や消耗を抑えながら、不純物除去条件を探索できます。 【特長】 ■ Cl2/HClによる選択塩素化に対応 ■ CNT、黒鉛、カーボンブラック中のFe/Ni/Al除去を検討可能 ■ 湿式処理に伴う廃液・乾燥工程を低減 ■ 負圧運転・酸素分圧管理によりカーボン母材への影響を抑制 ■ 少量サンプルで温度・ガス濃度・処理時間を比較可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

「小型塩素炉」は、Cl2、HClなどのハロゲンガス雰囲気に対応した小型試験炉です。 金属不純物のドライ除去、選択塩素化、腐食性ガス雰囲気での材料評価、反応制御、治具洗浄などに適用できます。 棚板ヒーターによる均一加熱により、サンプル内部までCl2ガスを拡散させやすく、粉末・多孔質体・セラミックス・カーボン材などの小スケール条件検討に適しています。 また、生成した塩化物の沸点を利用することで、より低温での処理条件を検討できます。Cl2、HCl、減圧運転を考慮した安全設計により、腐食性ガスを扱う試験環境を構築できます。 【特長】 ■ Cl2、HClなどのハロゲンガスに対応 ■ 金属不純物のドライ除去・選択塩素化に適用 ■ 棚板ヒーターによりサンプルを均一加熱 ■ 粉末・多孔質体の内部までガスを拡散させやすい構造 ■ 排気・除害・ガス検知・インターロックとの連携が可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

「管状炉」は、円筒状の加熱部にセラミック反応管を配置し、各種雰囲気ガスを流しながら熱処理を行うコンパクトな炉です。 小型・低コストながら、サンプル温度・ガス流量・圧力の計測に対応でき、反応条件の把握や材料評価に適しています。 当社の管状炉は、雰囲気ガス条件下での材料反応評価、反応メカニズム解析、新規素材の初期評価に使用可能です。 【特長】 ■ 各種ガスを流しながら加熱可能 ■ サンプル温度・流量・圧力の計測に対応 ■ 反応開始・変化点・温度依存性の確認に有効 ■ 小型・低コストで研究開発用途に適用しやすい ■ 条件に応じて計測・ガスラインのカスタム対応可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

「マルチ雰囲気炉」は、真空・不活性雰囲気に加え、H2、NH3、O2など複数の雰囲気ガスを切り替えながら加熱できる汎用型の雰囲気炉です。 酸化、還元、窒化、加湿雰囲気での焼成など、複雑な反応条件を1台で再現できるため、材料開発・表面処理・粉末焼成・反応評価に適しています。 また、Wetterによる加湿ラインだけでなく、気化器を組み合わせることで、液体原料や有機金属溶液を気化導入する熱CVD炉としての構成も検討可能です。 薄膜形成、表面改質、コーティング、前駆体反応評価など、通常の雰囲気焼成より一歩進んだプロセス開発にも活用できます。 【特長】 ■ 真空、不活性、酸化、還元、窒化雰囲気に対応 ■ H2、NH3、O2、N2、Arなど各種ガスを切替可能 ■ Wetter接続により加湿雰囲気焼成に対応 ■ 気化器接続により熱CVDプロセスにも拡張可能 ■ 最高温度1700℃、昇温速度10℃/minに対応 ■ 排気・除害・安全機器との連携も検討可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

「カーボン炉」は、炉内のヒーター・断熱材・炉壁をグラファイトで構成した、3000℃級の超高温処理に対応する加熱炉です。 真空置換や不活性ガス雰囲気により酸素濃度を低く抑え、高温域での酸化・再酸化を抑制しながら、黒鉛化、炭化、焼結、結晶化、高温改質などの処理を行うことができます。 炭素材料、C/Cコンポジット、SiC、B4C、セラミックス、金属粉末など、一般的な電気炉では温度や雰囲気が不足する材料の高温処理に適しています。 【特長】 ■ 3000℃級の超高温処理に対応 ■ 真空置換＋不活性ガスで低酸素雰囲気を形成 ■ 炭素材料の黒鉛化・結晶化度向上に適用可能 ■ SiC、B4Cなどセラミックスの高温焼成に対応 ■ 小型炉のため、研究開発・条件検討に導入しやすい ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉

「メタル炉」は、炉内の構成材をタングステンやモリブデンなどの金属で構成した、高純度熱処理向けの小型炉です。 一般的な電気炉では、断熱材、炉材、ヒーター周辺部材からのアウトガス・発塵・揮発成分により、処理品の表面状態や不純物濃度に影響する場合があります。 本設備は、炉内をオールメタル構成とすることで、断熱材由来の汚染や炉材コンタミを抑え、真空または不活性ガス雰囲気下でクリーンな高温処理を行うことができます。 特に、半導体材料、高純度粉末、酸化物・窒化物材料、薄膜・電極材など、炉材由来の微量汚染を嫌う材料の前処理・アニール・表面処理に適しています。 【特長】 ■ タングステン・モリブデン系の金属ホットゾーン ■ 断熱材由来のアウトガス・発塵を低減 ■ 真空またはN2/Arなど不活性ガス雰囲気に対応 ■ 高純度粉末・半導体材料の前処理に適用可能 ■ 小型炉のため、研究開発・条件検討に導入しやすい ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。

• 工業炉