GaN・AlN・Si系付着物をCl2/HClで塩化揮発し、治具をドライ洗浄
MOCVDやCVD工程で使用されるサセプタ、石英ボート、石英管、治具類には、GaN、AlN、Si系生成物、金属成分を含む反応生成物が付着する場合があります。 これらの付着物は、薬液洗浄や機械的な除去では落としにくく、母材の寸法変化、表面荒れ、破損、洗浄コスト増加につながることがあります。 当社の小型塩素炉は、Cl2/HClを用いた選択塩素化により、付着物を揮発性塩化物へ変換し、母材への影響を抑えながらドライ洗浄条件を検討できます。 サセプタや石英治具を再利用したい場合、薬液洗浄を減らしたい場合、治具寿命を延ばしたい場合に適した小型試験炉です。 【特長】 ■ Cl2/HClによる乾式塩素化洗浄に対応 ■ GaN、AlN、Si系付着物、金属成分の除去を検討可能 ■ 薬液洗浄では難しい堆積膜・反応生成物に対応 ■ 母材の寸法変化・表面荒れを抑えた条件検討が可能 ■ 少量治具で温度・ガス濃度・処理時間を比較可能 ※詳しくは資料ダウンロードまたはお問い合わせください。
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基本情報
【乾式塩素化洗浄の考え方】 ■ 付着物を塩化物へ変換 ・Cl2、HClを用いて、Ga、Al、Si、金属成分を塩化物化 ・生成塩化物の揮発性を利用し、治具表面から除去 ■ 母材への影響を抑えた条件探索 ・処理温度、ガス濃度、処理時間を調整 ・石英、SiC、カーボン、コーティング材など母材に応じた条件を検討 ■ 薬液洗浄との違い ・廃液処理、乾燥工程、薬液管理の負荷を低減 ・薬液では届きにくい細部・内面・溝部の処理を検討可能 ・母材ダメージや再汚染リスクの低減に貢献 ■ 小型炉で事前評価 ・少量治具やテストピースで条件確認が可能 ・試験結果をもとに、専用洗浄炉や量産設備への展開を検討可能 ※仕様は治具材質、付着物、処理温度、ガス種、除害条件に応じてご提案します。
価格情報
※装置仕様によって価格が異なるため、詳しくはお気軽にお問合せください。
納期
※装置仕様によって納期が異なるため、詳しくはお気軽にお問合せください。
用途／実績例
【用途】 ■ MOCVD用サセプタ、CVD治具のドライ洗浄 ■ 石英ボート、石英管、石英治具の付着物除去 ■ GaN、AlN、Si系生成物、金属反応生成物の除去検討 ■ SiC、カーボン、コーティング治具の表面クリーニング ■ 治具再生、治具寿命延長、洗浄外注費の低減検討 ■ 薬液洗浄から乾式洗浄への置き換え評価 ■ 半導体・化合物半導体・LED関連製造治具の洗浄試験 【このような課題に】 ■ サセプタや石英治具に付着した堆積膜が落ちにくい ■ 薬液洗浄で母材が荒れる、寸法変化が出る ■ 洗浄外注費や治具交換費を抑えたい ■ 治具の細部、溝部、内面まで洗浄したい ■ Cl2/HClによる乾式洗浄条件を小型炉で確認したい ■ 洗浄後の母材ダメージや再使用可否を評価したい 治具材質、付着物、処理温度、ガス濃度、除害条件が未確定の段階でも、用途に応じてご相談いただけます。
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企業情報
当社は、「電気」「設備」「化学」の三つの技術を独自のノウハウで 融合させ、革新的な加熱炉、その他設備を開発している会社です。 独自の高温電気炉技術を活かしカーボン炉やマルチ雰囲気炉、メタル炉、 塩素炉など様々な電気炉(加熱炉)を取り扱っております。 単なる設備メーカーではなく、10年先のスタンダードを見据え、お客様と 共にモノづくりを革新的な熱でサポートする、戦略的開発パートナーです。
