赤外線導入加熱装置(GVL298)
高真空中やガスフロー等、各種雰囲気中試料のみにピンポイントで赤外線を照射し、非接触で急速加熱ができます。
・超高速昇温型GVL298は1500℃まで1分で昇温可能。 ・真空システムICF70フランジから、真空チャンバー内部へ赤外線を導入し、試料のみを昇温。
- 企業:株式会社サーモ理工
- 価格:応相談
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高真空中やガスフロー等、各種雰囲気中試料のみにピンポイントで赤外線を照射し、非接触で急速加熱ができます。
・超高速昇温型GVL298は1500℃まで1分で昇温可能。 ・真空システムICF70フランジから、真空チャンバー内部へ赤外線を導入し、試料のみを昇温。