高真空中やガスフロー等、各種雰囲気中試料のみにピンポイントで赤外線を照射し、非接触で急速加熱ができます。
・超高速昇温型GVL298は1500℃まで１分で昇温可能。 ・真空システムＩＣＦ７０フランジから、真空チャンバー内部へ赤外線を導入し、試料のみを昇温。
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基本情報
高速昇温 ： 最高昇温速度 150℃/sec、1500℃まで約1min クリーン加熱 ： 熱源からのガス発生や電磁誘導の心配無し 局所加熱 ： 試料のみに赤外線を照射、周りを加熱しない 取付自在 ： 各種システムに取付可能
価格情報
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納期
※2.5ヶ月
用途／実績例
Si、SiC等試料の高速昇温、アニール 酸化雰囲気中での酸化物結晶生成、薄膜作成 水素中、窒素中の基板の加熱 X線や紫外線照射中試料の昇温 昇温脱離ガス分析装置、XPS、XRD、PLD等分析装置内サンプルの加熱 磁場中加熱、無磁場中加熱 加圧雰囲気中加熱 試料に荷重をかけての加熱
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企業情報
1982年「熱」この課題で会社創立、以来今日まで新材料物質の研究開発には欠かせない熱処理工程、他社に無い独自の熱技術を駆使し研究開発用熱処理機器の開発・販売を進めてきました。とりわけ赤外線導入加熱装置は超高真空システム内試験試料の「新しい加熱方式」として大変注目され、全国の理工系大学、独立行政法人研究所、民間研究開発部、海外の大学等で数多く使用され、現在700台以上、各種の熱処理装置合計で3000台以上の納入実績があります。