後酸化式スパッタリング装置 多層の光学薄膜に最適な後酸化式スパッタリング装置です。 特長 ■後酸化方式の採用で高生産性を実現 ■優れた膜厚均一性±1%以下を実現 ■水平基板搬送による全面スパッタが可能 企業:芝浦メカトロニクス株式会社 価格:応相談 スパッタリング装置 ブックマークに追加いたしました ブックマーク一覧 ブックマークを削除いたしました ブックマーク一覧 これ以上ブックマークできません 会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます 無料会員登録