プラズマイオン注入成膜装置
日本発のまったく新しいガスイオン注入も可能なDLCコーティング装置です。
・真空装置部の大型が容易に可能で最大長さ4m、直径1.2mの大型装置の納入実績もあります ・完全自動運転のためコスト低減が可能です ・DLC成膜のほかに簡易なイオン注入も可能で新しい材料の開発も可能です ・自転公転機構やヒーターが必要ないため真空装置内のパーティクルの発生を最小限に抑えることが可能です
- 企業：株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
- 価格：応相談
注入成膜装置×株式会社栗田製作所 - 企業1社の製品一覧
製品一覧
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プラズマイオン注入成膜装置 PBII-R1000
生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号）した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
- 企業：株式会社栗田製作所 本社・京都事業部
- 価格：応相談
