生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
プラズマイオン注入・成膜装置（Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D）とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号）した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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基本情報
【特徴】 ○試作開発から量産まで幅広い業務に対応 ○ガスイオン注入、DLC成膜がこの1台で処理が可能 ○金属から絶縁物まで成膜条件の変更で様々な材質へ処理が可能 ○立上げから立下げまで全自動 ○取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されている ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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長年培ってきたパルス電源技術を応用し、 新開発の各種プラズマ制御用電源や 表面処理装置の開発で、必ず御社のニーズに お答えします。