ダウンストリーム型大気圧プラズマ装置による分子結合接着・接合（ダイレクト接着）の基本的概念
弊社ダウンストリーム型プラズマ装置は処理時に生ずる種々のダメージ等を排除し、 クリーン処理、かつ、スムース表面での接着が可能で、５G,６G向けFCCL製造関連等や、 2次電池市場でのカーボンフィルム等、電極製造関連の異種材接着、接合時のドライ前処理に適しています。 また、接合界面材質に見合った結合分子を、添加ガスの変更やプラズマパラメータの最適化により、 界面に対し、選択的に機能性分子（共有結合分子等）付与できます。 困難なPFAやPTFE表面親水化に於いても、接触角を10度以下にすることも可能です。 ※弊社ラボにてサンプルワークも実施しております。 【掲載内容】 ■基本的概念 ■メリット ■処理イメージ（R to R） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
販売実績で培った装置信頼性と種々のノウハウを用い、その優位性をプロセスアプリケーションと共に他市場（蓄電池市場・粒子その他）へもドライプロセスを用いた新たなアプローチを展開しております。 弊社ダウンストリーム型高密度プラズマソース（電極）処理部分はワークと隔離されいるため、ワークへの電気的・物理的ダメージの発生が無く、プラズマ生成時の紫外光がもたらす影響もなく、大気圧プラズマ装置で唯一のクリーン処理（パーティクルレス）が可能です。 添加ガスの変更により、選択的に分子機能性付与をプロセス技術として各種表面材質に応じた界面制御が可能で、ダイレクト接着や異種材接着、より強固な塗膜との密着性に有効な手段です。処理幅（プラズマ幅は100mm～3000mmに均一な処理が可能。 炭素繊維束や繊維束状の対応も可能で、束内部まで均一処理が可能。また、粒子への同処理も対応しております。 ダウンストリーム型の卓上式の実験装置の製造、スポット型装置（250万円～）、立ち合い実験サンプルワークも実施しております。
