簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/sの広域型ターボ分子ポンプを搭載。
● 価格500万円(税込み) ● φ3インチターゲット 1元カソード ● RF300W電源、自動マッチングボックス付 ● ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、 マスフローコントローラーによる調整 ● 酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ● オプションにて基板ヒーターの取付可。 ● 余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ● 800W×600L×900Hの省スペース
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基本情報
拡張性 ● 基板回転機構の追加（後からの追加が可能） ● 基板加熱機構の追加（後からの追加が可能） ● スパッタソースの多元化(チェンバー作製時に対応型にする必要があります）。 ● その他お客様のご希望によるカスタム設計には出来る限り対応いたします。
価格情報
￥5,000,000.- 税込み、オプションなし、ガス供給、冷却水チラー等一次側設備は含みません。
価格帯
100万円 ~ 500万円
納期
※3ヶ月
用途／実績例
● 研究機関の各種実験 ● 電子顕微鏡用試料
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企業情報
次世代技術において薄膜作製の必要性はますます増えてまいります。薄膜作製においては低温下で、かつ緻密な、またそうであって生産性も高い、そんな技術が求められています。弊社は従来の対向ターゲット式スパッタ方式ではなしえなかったアーク放電対策を可能にし、上記の条件を満たすユニフォームプラズマスパッタ装置を製作販売しております。
