DUV フォトリソグラフィ用 基板、コンポーネンツ
◆DUVフォトリソグラフィ向◆高品質な合成結晶石英基板を利用した各種コンポーネンツ◆半導体グレードの信頼性要求にも耐えうる製品群
合成結晶石英はUV波長域での高い透過性、結晶学的特性、光学的均一性、化学的な耐性、また長時間露光に対する耐久性が認められた優れた材料です。Tydex社ではクラスA1に相当する精密光学グレードの合成結晶石英を用いた各種のDUV用コンポーネントを製造しています。 DUV(深紫外)波長レーザーを用いたフォトリソグラフィー技術は半導体、ナノテクノロジーをはじめ各種の産業用途に利用され私達の生活に欠かせないものになっています。更なる高密度化／狭線幅化に伴いKrFエキシマレーザー(248nm)、ArFエキシマレーザー(193nm)が広く利用されそれら光源を取り巻く高性能な各種の光学コンポーネントへの要求が高まっています。
- 企業：株式会社オプトロンサイエンス
- 価格：応相談
