【半導体リソグラフィ向け】石英基板
端面研磨・斜面研磨等ラウンドポリッシュ対応！6インチ対応
半導体リソグラフィ業界では、高精度なパターン転写が求められます。特に、露光プロセスにおいては、石英基板の品質がデバイスの性能を左右します。基板の歪みや表面の不均一性は、パターンの精度を低下させ、歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社石英基板は、ノッチ加工やオリフラ加工に対応し、端面研磨・斜面研磨等ラウンドポリッシュも可能です。これにより、高精度なリソグラフィプロセスを支援します。 【活用シーン】 ・リソグラフィ工程におけるマスク基板 ・ウェーハ製造工程 ・各種光学部品 【導入の効果】 ・高精度なパターン転写の実現 ・歩留まり向上への貢献 ・多様な加工への対応
- 企業：株式会社ブル精密 本社
- 価格：応相談
