端面研磨・斜面研磨等ラウンドポリッシュ対応！6インチ対応
半導体リソグラフィ業界では、高精度なパターン転写が求められます。特に、露光プロセスにおいては、石英基板の品質がデバイスの性能を左右します。基板の歪みや表面の不均一性は、パターンの精度を低下させ、歩留まりの悪化につながる可能性があります。当社石英基板は、ノッチ加工やオリフラ加工に対応し、端面研磨・斜面研磨等ラウンドポリッシュも可能です。これにより、高精度なリソグラフィプロセスを支援します。 【活用シーン】 ・リソグラフィ工程におけるマスク基板 ・ウェーハ製造工程 ・各種光学部品 【導入の効果】 ・高精度なパターン転写の実現 ・歩留まり向上への貢献 ・多様な加工への対応
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基本情報
【特長】 ・合成石英、溶融石英に対応 ・ノッチ加工、オリフラ加工に対応 ・端面研磨、斜面研磨等ラウンドポリッシュ対応 ・丸外形、角外形、厚みなど多様なサイズに対応 ・穴加工、ザグリ加工等も対応 【当社の強み】 当社は1985年創立以来、ガラス加工の技術を培ってきました。他社で対応が難しい加工も、長年の経験と技術力で対応いたします。試作品の無料製作も実施しており、量産試作でお悩みの方もご相談ください。
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企業情報
当社は1985年創立以来『ありとあらゆるガラス加工』を基軸に掲げ、 30年以上お客様から御愛護頂いております。 他社では不可能、またはコストに見合わない加工も、当社にお任せください！ どのような加工でも『笑顔とねばり』をモットーに、お客様の要望に応えるべく 社名のように日々『猛進』して参ります。 新社長は40歳代、技術力向上のために、各社でたらいまわしにされた案件を引き受け、トライ＆エラーを繰り返し、日々、一段ずつ技術を積み上げております。 また、当社では新たに試作品の無料製作も実施しております。 量産試作でお悩みの際はご相談ください。 お待ちしています！
