研磨のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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研磨(洗浄) - メーカー・企業と製品の一覧

更新日: 集計期間:2025年11月19日~2025年12月16日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

研磨の製品一覧

1~15 件を表示 / 全 22 件

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研磨バフ洗浄スティック『ならせるくん』

バフを痛めないソフトな材質!研磨機上でバフに押し当てるだけで簡単に洗浄!

『ならせるくん』は、L160mm W20mm T14mmサイズの 研磨バフ洗浄スティックです。 バフを痛めないソフトな材質で、カッター等で簡単にサイズの カスタマイズが可能。 研磨機上でバフに押し当てるだけで簡単に洗浄でき、 さらにバフに残ったアルミナ/シリカの汚れをしっかり洗浄します。 【特長】 ■カッター等で簡単にサイズのカスタマイズが可能 ■研磨機上でバフに押し当てるだけで簡単に洗浄 ■バフに残ったアルミナ/シリカの汚れをしっかり洗浄 ■サイズ:L160mm W20mm T14mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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超音波用洗浄剤 『VECTOR HTC-SCAシリーズ』

超音波・高周波洗浄用に開発された添加剤!ブラシ洗浄向けをはじめ、4タイプをラインアップ

『VECTOR HTC-SCAシリーズ』は、超音波・高周波洗浄用に開発された添加剤です。 洗浄ウェーハ表面で超音波及び高周波が効率的に開放され 優れた洗浄結果が得られます。 用途に応じて4タイプの製品をラインアップしています。 【特長】 ■優れたウェット性 ■リンス不要-膜・残滓の残存無し ■他の VECTOR 製品との共用可能 ■経済的かつフィルタリングが容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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超音波洗浄液『CHALLENGE 800シリーズ』

メガソニック洗浄等に向け開発された添加剤!用途に合わせた5種類をラインアップ

『CHALLENGE 800-HTシリーズ』アルカリ又は、純水超音波・メガソニック 洗浄用に開発された添加剤。 洗浄ウェーハ表面で超音波及びメガソニックエネルギーが効率的に開放され 優れた洗浄結果が得られます。 【特長】 ■優れたウェット効果 ■リンス不要-膜・残滓の残存無し ■経済的であり安全性 ■全ての Challenge シリーズと併用できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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精密研磨用アクセサリー『Kemet ワックスシリーズ』

精密研磨をより作業しやすく!密着性・作業性・洗浄性に優れたワックス

ケメット・ジャパンの『Kemet ワックスシリーズ』は、精密研磨を 作業しやすく、より仕上がり要求に近づけるためのワックスです。 「STワックスシリーズ」は、ホットメルトタイプで、強力な接着力があり ダイヤモンドカッターの目詰まりがありません。 「ブラウンワックスシリーズ」は、低温で溶解し、低粘度のため 薄く貼れるので高精度品に最適です。 【特長】 ■STワックス ・密着性・接着性・耐久性に優れる ・ホットメルトタイプの接着剤 ・作業性・洗浄性に優れる ■ブラウンワックス ・低温で溶解、低粘度で薄く貼れる ・短時間で接着でき、作業性・洗浄性に優れる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高洗浄研磨剤

お湯でバフカスが取れる研磨剤!

当社では、研削力・光沢力共に良く鏡面が得られる「鏡面ライム YN5-C」や 「ステンレス・鉄用トリポリ YE3-C」などの『高洗浄研磨剤』を 取り揃えております。 本製品を使用して出たバフカスは、温水を含ませたスポンジで 落とすことができます。 【性能】 ■有機溶剤を不使用で環境に配慮 ■洗浄コストが大幅に削減可能 ■超音波洗浄機にて高いパフォーマンスを発揮 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • その他研磨材
  • その他表面処理装置

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【技術資料進呈中!】ウェーハ研磨加工プロセスと加工素材&技術紹介

数百種類以上の半導体素材の研磨を扱っている技術を紹介!各種ウェーハの研磨プロセス・洗浄・加工技術を写真や分析事例などで紹介中!

当資料では、日本エクシードの各種ウェーハの研磨プロセス・洗浄・加工技術を写真や分析事例などで紹介しています。 長年にわたる研磨加工の経験の上に独自の研究開発を幾度も繰り返し、単結晶と名の付く様々な素材を手掛ける技術力を 高次元で実現し、今では数百種類以上の半導体素材の研磨を扱う存在となりました。 研磨加工プロセスの研磨工程をはじめ、薄化加工技術を用いたSi特殊加工や加工素材などを掲載。 当社は、様々な加工素材の研磨ニーズにお応えいたします。 【加工素材一覧】 ■酸化物材料:LiTaO3(LT)、LiNbO3(LN)、ZnO、 水晶、サファイア、サファイア再生、etc ■化合物材料:GaN、 SiC、GaP、GaAs、GaSb、ZnS、ZnTe、etc ■金属素材:SUS、Au、Ag、Cu、W、Ti、Al、etc ■その他:Ge、C、MnZnフェライト、TeO2、樹脂材料、etc 【掲載内容(抜粋)】 ■研磨加工プロセス(代表例) ■研磨工程のご紹介 ■洗浄工程のご紹介 ■Si特殊加工 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 加工受託
  • ウエハー
  • その他金属材料

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フィルター用金属素材『ワイヤーメッシュデミスター』

液体中または気体中の不純物を分離するために編まれた充填材として最適!

『ワイヤーメッシュデミスター』は液体中、または気体中の不純物を分離 (分留、精留)するために編まれた充填材として、また別にシールド材、 芯材としても利用されます。 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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バレル研磨用消耗品『研磨石・コンパウンド』

ビトリファイト研磨石やプラスチック研磨石など!バレル研磨用消耗品をご紹介

当社で取り扱う『研磨石・コンパウンド』をご紹介いたします。 「研磨石」はワークと擦れ合い様々な研磨目的を果たします。研磨機の調整 機能が少ない為に、研磨目的や対象となるワークの材質、硬度、形状によって 使い分けが必要です。 また「コンパウンド」は研磨石の持つ性能を維持し、ワークの汚れや錆から 保護する働きをします。対象となるワークの材質も様々で、光沢、平滑仕上げに 貢献し、適度な潤滑性が切削性を向上させるといった効果があります。 【研磨石のタイプ】 ■ビトリファイト研磨石 ■プラスチック研磨石 ■アルミナ系研磨石 ■有機質研磨石 ■金属系研磨石 ■乾式研磨石 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他研磨材
  • そのほか消耗品

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LCD用圧力分布測定システム

歩留まりアップを圧力管理からサポート!

歩留まりアップを圧力管理からサポート!

  • その他半導体製造装置
  • その他計測・記録・測定器

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【加工素材】金属素材

光学研磨技術を応用した技術!ガス関連装置などの各種分野でご利用いただいています

日本エクシードは、金属材料などの精密研磨加工及び洗浄を 行っております。 光学研磨技術を応用した技術で、試作加工を行っており真空装置、 ガス関連装置などの各種分野でご利用いただいています。 また、磁性体材料・超伝導材料・新素材など、磨くことに関しては、 すべての材料に対してチャレンジします。 【特長】 ■光学研磨技術を応用した技術 ■試作加工を行っている ■真空装置などの各種分野で利用されている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【受託CMP】MAT課

CMPプロセス開発・試作・請負受託加工!確かな技術力や経験で、お客様のニーズにお応え

当社のCMP/ダイシング事業「MAT課」についてご紹介します。 「平坦化」「平滑化」「薄片(薄膜)化」、また、半導体分野に限らず、 SiCパワーデバイス・SOI・マイクロマシン(MEMS)・光学系デバイス、 LEDサファイア・有機ELなど。 先端テクノロジーで使われる「研削」「Lapping」「Polishing」「CMP」 「洗浄」等、確かな技術力や経験で、お客様のニーズにお応えします。 【特長】 ■CMPプロセス開発・試作・請負加工 ■「平坦化」「平滑化」「薄片(薄膜)化」 ■半導体分野に限らない ■確かな技術力や経験で、お客様のニーズにお応え ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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循環スラリー用添加剤『VECTOR HTN』

循環ポンプでの使用に向け開発された添加剤!スラリー廃棄・砥粒の使用量が減少

『VECTOR HTN』は、ハイスピード循環用スラリーの添加剤で、 循環ポンプで使用できる様に開発されました。 アルミナ、セリウム、ジルコニア、SiC、B4C、人造/天然ダイヤモンド、 ガーネットなどの様々な砥粒を均一に分散して持続。 循環スラリーとして連続的に使用できスラリー廃棄、また砥粒の使用量は 減少します。 【特長】 ■分散性の向上 ■材料のダメージ(加工変質層)低減 ■高ラップレート ■スクラッチ無し ■研磨後の洗浄性の効果 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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圧力分布測定システム プレリアi

圧力分布の見える化をより簡易にリーズナブルに一つのデータ ファイルのみを表示し、より直感的に操作が可能

超薄型約0.1mm厚のフィルム状センサシートに加わる圧力分布をPC・タブレット 画面上において表示するシステムです。ソフトウェア機能を絞り、誰でも簡単に 測定が可能です。(13種類のセンサシートに対応。)

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ATP検査キット

見えないリスクが見えてくる!誰でも簡単にすばやく衛生検査

当社では、「誰でも」「手早く」「簡単に」器具表面の清潔度を数値化できる ATP検査キットを取り扱っております。 ATP検査とは、洗浄後の器具衛生状態を「手早く」確認するために、 菌自体ではなく菌の温床となる食品残渣や生物的汚染を数値化できる検査です。 本製品は日本のみならず世界中の食品工場で多く採用される業界標準品です。 【特長】 ■清浄度を15秒で数値化 ■初めてでも迷わない簡単操作 ■手間いらずの湿式綿棒 ■安心のAOAC認証取得品 ■HACCP対応に好適 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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CMP装置【研究開発用の卓上型~300mmウエハー対応まで!】

卓上型から300mmウエハー対応までCMP装置をラインナップ!Dry-in/Dry-out等、カスタマイズ・新規設計が可能です!

研究開発に適したコンパクトなモデルから300mmウエハーに対応した モデルまでラインナップを取り揃えております。お客様のご希望に沿った 仕様変更 ・オーダーメイド、Dry-in / Dry-outが可能なCMP自動装置も ご提案いたします。デモ機もございますので、立ち合いの元デモテスト も対応可能です。 【下記のようなご要望にもお応えします】 ■薬液対応(酸性・アルカリ性の様々なスラリーに対応可能) ■研磨剤の供給系統対応 ■センサーを入れて振動を計測したい ■通常よりも高荷重にしたい ■装置内の温度・湿度を図りたい ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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