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CMP装置【研究開発用の卓上型~300mmウエハー対応まで!】

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最終更新日:2022年09月13日

北川グレステック株式会社 本社
北川グレステック株式会社 本社
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卓上型から300mmウエハー対応までCMP装置をラインナップ!Dry-in/Dry-out等、カスタマイズ・新規設計が可能です!

研究開発に適したコンパクトなモデルから300mmウエハーに対応した モデルまでラインナップを取り揃えております。お客様のご希望に沿った 仕様変更 ・オーダーメイド、Dry-in / Dry-outが可能なCMP自動装置も ご提案いたします。デモ機もございますので、立ち合いの元デモテスト も対応可能です。 【下記のようなご要望にもお応えします】 ■薬液対応(酸性・アルカリ性の様々なスラリーに対応可能) ■研磨剤の供給系統対応 ■センサーを入れて振動を計測したい ■通常よりも高荷重にしたい ■装置内の温度・湿度を図りたい ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

    ウエハ加工/研磨装置
イプロス用 卓上型CMP装置-好適.jpg

CMP装置【研究開発用の卓上型~300mmウエハー対応まで!】

イプロス用 卓上型CMP装置-好適.jpg
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基本情報

【ラインナップ】 ■BC-15CN ■MAT-ARW-461M ■MAT-ARW-681MS II ■MAT-ARW-8C1MS 【洗浄装置】 ■MAT-ZAB-8S1M ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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北川グレステック株式会社は、システム精工(株)とケメット・ジャパン(株)の2社が合併して誕生いたしました。 システム精工がHDD研磨装置で培った技術と、 ケメット・ジャパンが半導体や電子部品の研磨消耗品・受託加工で培ったノウハウを組み合わせ、 営業力・開発力を強化し、より一層の事業拡大を図ってまいります。

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