更新日： 集計期間:2025年10月15日～2025年11月11日
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産業用途のみならず、論文・基礎研究で必要な結晶材料も迅速に提供致します！
当社では、酸化物、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、合金など、 多岐にわたる単結晶作製技術を有しております。 相図、融点、蒸気圧、偏析などのデータを調べ、結晶作製方法を検討し、 結晶組成範囲、添加物濃度、結晶サイズや結晶方位など、お客様の多様な ご要望を満足できる結晶材料を提供いたします。 【製品ラインアップ】 ■Ce:HR-GAGG Scintillator ■Ce:GFAG Scintillator ■Ce:GAGG Scintillator ■Ce:La-GPS Scintillator ■Eu:Srl 2 Scintillator など ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
大型・高純度の素材から、単結晶を薄板の形で供給します！
当社では、気相合成法を用い、大型で高純度のダイヤモンド単結晶を 製造しています。 種結晶からの分離技術で、板状単結晶の安価、大量生産が可能。 また、複数の単結晶を接続した、25×25mmのモザイク結晶を 製造しております。 【特長】 ■II a型で窒素濃度1～2ppm、(100)面成長の結晶 ■1つの結晶で最大辺10mmまで、厚さは0.01～2.5mmに対応 ■10×10mm結晶を組み合わせ、1インチモザイク結晶も販売 ■長方形・三角形・円形等のご指定形状にレーザー切断 ■研磨は片面、両面共に可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
結晶育成～加工まで自社内で一貫生産。加工歪層のない高品質な結晶基板表面
【エピタキシャル成長に最適】 薄膜成長用酸化物基板は、1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板として、SrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けております。 エピタキシャル成長用基板は、結晶性、基板表面の平滑、平坦性とともに最表面の結晶格子歪の有無が重要です。 弊社は長年の技術蓄積により、結晶育成から加工まで自社内で一貫生産しています。高精度な加工技術により、高品質な結晶基板表面に仕上げて提供を続けております。 標準的な仕様は常に在庫を持つようにしており、ご発注後10日間程度でお届けしております。 ご希望に合わせて面方位、形状、OFF角度などをオーダーメイドすることも行っておりますので、ラインアップにない仕様の製品も取り扱っております。お気軽にお問い合わせください。 ※詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
高純度、高結晶性、高生産性！抗菌用途、グラフェン誘導体の出発原料として、分散液形態で提供致します
『GF10』は、無基板、無触媒で直接合成しました、100nm形状の 数層グラフェンです。 厚みは、1-2nmで、高純度、高結晶性、高生産性を有しています。 抗菌用途、バイオセンサー材料、グラフェン誘導体の出発原料として、 分散液形態で提供致します。 【特長】 ■100nm形状の数層グラフェン ■無基板、無触媒による直接合成法 ■高純度、高結晶性、高生産性 ■分散液形態で提供可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
遅送り機能を付加！ブリッジマン法結晶育成用としても使用可能なブリッジマン炉
『VEF-1800-BR-VM』は、試料回転昇降装置と縦型環状炉で構成された ブリッジマン炉です。 真っ直ぐで、同じ焼結密度を持った試料棒の焼結を容易かつ安定して 作製することが可能となっております。 さらに、遅送り機能を付加し、回転昇降機能の他にブリッジマン法 結晶育成用としても使用することができます。 【特長】 ■試料回転昇降装置と縦型環状炉で構成 ■真っ直ぐで、同じ焼結密度を持った試料棒の焼結を容易に作製可能 ■遅送り機能を付加し、ブリッジマン法結晶育成用としても使用できる ■設定の容易さや操作性に優れたタッチパネルを採用 ■回転昇降機付縦型電気炉と同様に原料棒の焼結も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
粉体焼成から結晶成長までの多目的な使用が可能な雰囲気制御一方向凝固炉
『VFK-1800-BR』は、空気中で1800℃までのニ硅化モリブデン発熱体を 用いた高温電気炉に炉芯管及び、坩堝の昇降機構を加えた縦型昇降炉です。 炉芯管及び坩堝の昇降機構により、雰囲気を制御しながら、粉体焼成から 結晶成長（ブリッジマン法）までの多目的な使用が可能です。 プログラムコントローラからのイベント出力により、遅送りモータの駆動の 自動運転、停止ができ、温度とモータ駆動のプログラムがPC上で自在に 操作できます。 【特長】 ■粉体焼成から結晶成長までの多目的な使用が可能 ■遅送りモータの駆動の自動運転、停止が可能 ■温度とモータ駆動のプログラムがPC上で自在に操作可能 ■制御温度と炉内温度はPC画面上でモニターできる ■データ取りも簡単に操作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
表面酸素濃度を広範囲に制御することができるグラフェン分散液の製造技術です。
従来、グラフェン製造方法には気相法又は剥離法が用いられています。 気相法では結晶性の高いグラフェンを製造できるますが、高コストという課題があり、剥離法では低コストですが、結晶性が低いグラフェンとなってしまうという課題がありました。 本技術は、水－疎水性イオン液体２液相系での黒鉛の電気化学的剥離により、酸素含有量の低い部分酸化グラフェンを疎水性イオン液体中に均一に分散させる方法です。 【技術の特徴】 ・2液相系（水ー疎水性イオン液体）電気化学的剥離法 ・表面酸素濃度10％以下により、再還元処理が不要 ・表面酸素濃度の制御が可能 材料の黒鉛電極には幅広い材料が適用可能であり、イオン液体を再利用可能な形にするなどの検討を行うことで、大幅な製造コストの低減が期待できます。
加圧には手動式と電動式の加圧（油圧）ポンプを選択出来ます！
『HPTS-M-200』は、FZ 法による単結晶製造装置を用いた結晶育成に際し、 均質かつ真っ直ぐな原料棒を効率よく成形する為の静水圧プレス装置です。 ゴム・チューブに入れられた粉末原料を水で満たした圧力容器に入れて、 静水圧プレスで、加圧、成形。 加圧には、手動式と電動式の加圧（油圧）ポンプを選択出来ます。 【特長】 ■原料粉末を静水圧プレス法で成型 ■細長い成型棒を容易に作製 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高い耐腐食性！FDAやEU10/2011に準拠しており、食品製造向けに使用されています
当社が取り扱う、UHMWPE素材『TECAFINE PE』をご紹介します。 切削加工用素材としてPE樹脂の板と丸棒を製造。PEは、結晶性の 熱可塑性樹脂で、靭性が高く、耐薬品性も非常に優れています。 また、この他に、PP素材「TECAPRO」やPS素材「Rexolite 1422」も 取り扱っております。 【特長】 ■他の素材に比べ比重が低い（0.95以下） ■低温環境でも耐衝撃性が高い ■マイナス200℃程度まで使用可能 ■優れた耐摩耗性 ■最小限の吸湿性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
免疫調節作用や血圧調節作用、骨に対する作用など！健康機能をトータルにサポートします
アサイゲルマは、1967年に合成された水溶性有機ゲルマニウム化合物 （アサイゲルマニウム）です。 アサイゲルマニウムは、「健康を科学する」をキーワードに長い 年月をかけてさまざまな基礎・臨床試験を行い、高い安全性と 多様な有用性が確認されています。 そして1998年より食品原料として、また、2002年より化粧品原料 「レパゲルマニウム」として多くの製品に使用されています。 【研究成果のご紹介】 ■免疫調節作用 ■血圧調節作用 ■骨に対する作用 ■老人性アミロイドーシス抑制作用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
