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耐熱グリース×株式会社ニッペコ - 企業1社の製品一覧

製品一覧

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前工程の歩留まり改善が期待できる真空・耐熱用 グリース

LOGENEST LAMBDA AEP-4は真空かつ150℃以上の高温環境下でも汚染リスクやメンテナンス頻度の低減が期待できます

「LOGENEST LAMBDA AEP-4」は 下記のような特徴があり、コンタミ改善に取り組まれている方や 大切な機械をメンテナンスしている方へ推奨しております ■ 特殊フィルム製造の前工程(成膜、エッチング等)の搬送部(ベアリング等)やシール部(Oリング等)に最適なグリースです ■ 特徴は、従来のフッ素グリースより劣化を抑え、ロングライフが期待されます 【用途】 各種下記前工程の製造装置などの ベアリング Oリング ・特殊フィルム製造装置 ・プリント基板製造機器 ・半導体製造装置

  • その他半導体製造装置
  • プリント基板

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【コンタミ低減】アウトガスが発生しにくい高真空・耐熱用グリース

歩留まりに貢献、真空環境下の潤滑に特化!半導体製造装置内のコンタミを低減!

『LOGENEST LAMBDA TKM-03』は、 半導体製造装置などの高真空と耐熱性を有する環境下でも低アウトガスに寄与する特殊グリースです。 高真空(high vacuum)10-1Pa~10-5Pa~超高真空(ultra high vacuum)10-5Pa~10-8Pa向けのグリースとして開発いたしました。 【特長】 ■歩留まりに貢献、真空環境下の潤滑に特化したグリース ■アウトガスが発生しにくい高真空・耐熱用グリースで半導体製造装置内の  コンタミを低減 ■TML(質量損失比)1.0%未満を大幅に下回る(ASTM E595準拠) ■CVCM(再凝縮物質量比) 0.1%以下を大幅に下回る(ASTM E595準拠) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 潤滑油

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高真空・耐熱グリースLOGENEST LAMBDA TKM-03

【歩留まり改善】半導体製造装置内で発生するコンタミを低減するグリース 『LOGENEST LAMBDA TKM-03』

高温環境下にて、優れた耐熱性能を示します。 また、真空環境下でも、優れた低アウトガス性能を示します。 実績ございます。 詳細情報はお気軽にお問い合わせください。

  • 潤滑油
  • その他半導体製造装置
  • フォトマスク

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