【書籍】半導体プラズマプロセス技術（No.2357）
【試読できます】-可視化・異常検知・高精度プロセス最適化-
書籍名：半導体プラズマプロセス技術の制御と計測・モニタリング －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ◎成膜・エッチングプロセスの最適化を実現するには？ ◎プラズマを可視化し、電子・イオンの制御につなげる技術を詳解！ ◎放電・反応性プラズマの高精度プロセス技術を徹底解説！ －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■ 本書ではこんな情報を掲載しています ・放電プラズマ、反応性プラズマを制御するための電子密度・電子温度・電力制御技術、ガス供給のポイント ・真空環境を設計するためのガス特性・排気系の設計技術・計測技術・トラブル対策を体系化 ・発光分光法、四重極質量分析法、探針法によるプラズマ状態の計測技術 ・活性粒子計測、異常放電検知、イオンエネルギー分布、プラズマ中イオン種の計測、ラジカル測定とモニタリング技術 ・プラズマCVD・ALDプロセスの低ダメージ、低温・高速成膜技術、膜密度・膜厚の制御、密着性向上 ・スパッタ成膜技術の膜厚コントロール技術、薄膜の組成、結晶性、電気特性、機械特性制御
- 企業：株式会社技術情報協会
- 価格：1万円 ~ 10万円
