【試読できます】-可視化・異常検知・高精度プロセス最適化-
書籍名：半導体プラズマプロセス技術の制御と計測・モニタリング －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ◎成膜・エッチングプロセスの最適化を実現するには？ ◎プラズマを可視化し、電子・イオンの制御につなげる技術を詳解！ ◎放電・反応性プラズマの高精度プロセス技術を徹底解説！ －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■ 本書ではこんな情報を掲載しています ・放電プラズマ、反応性プラズマを制御するための電子密度・電子温度・電力制御技術、ガス供給のポイント ・真空環境を設計するためのガス特性・排気系の設計技術・計測技術・トラブル対策を体系化 ・発光分光法、四重極質量分析法、探針法によるプラズマ状態の計測技術 ・活性粒子計測、異常放電検知、イオンエネルギー分布、プラズマ中イオン種の計測、ラジカル測定とモニタリング技術 ・プラズマCVD・ALDプロセスの低ダメージ、低温・高速成膜技術、膜密度・膜厚の制御、密着性向上 ・スパッタ成膜技術の膜厚コントロール技術、薄膜の組成、結晶性、電気特性、機械特性制御
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基本情報
・エッチングプロセスの高速化、ダメージの低減とプラズマ耐性材料の開発 ・プロセス中に発生するパーティクルの発生メカニズム、検出と対策技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■目次 第1章 プラズマの基礎、発生装置の概要と生成・制御技術 第2章 真空環境の設計技術 第3章 プラズマの計測技術、プロセス評価・解析技術 第4章 プラズマプロセスにおけるモニタリング、予知保全技術 第5章 プラズマを利用した成膜技術とプロセスの低温化、分析技術 第6章 EUVリソグラフィ用の光源と装置開発 第7章 プラズマエッチング・アッシングのプロセス技術 第8章 プラズマを利用した半導体の表面処理技術と洗浄技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ●発刊：2026年6月30日 ●体裁：A4判 395頁 ●執筆者：41名 ●ISBN：978-4-86798-156-6 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
価格情報
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価格帯
1万円 ~ 10万円
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2・3日
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