【書籍】半導体プラズマプロセス技術の制御と計測・モニタリング(No.2357)【試読できます】
-可視化・異常検知・高精度プロセス最適化-
◎成膜・エッチングプロセスの最適化を実現するには?
◎プラズマを可視化し、電子・イオンの制御につなげる技術を詳解!
◎放電・反応性プラズマの高精度プロセス技術を徹底解説!
---------------------
■目次
第1章 プラズマの基礎、発生装置の概要と生成・制御技術
第2章 真空環境の設計技術
第3章 プラズマの計測技術、プロセス評価・解析技術
第4章 プラズマプロセスにおけるモニタリング、予知保全技術
第5章 プラズマを利用した成膜技術とプロセスの低温化、分析技術
第6章 EUVリソグラフィ用の光源と装置開発
第7章 プラズマエッチング・アッシングのプロセス技術
第8章 プラズマを利用した半導体の表面処理技術と洗浄技術
---------------------
●発刊:2026年6月30日 ●体裁:A4判 395頁
●執筆者:41名 ●ISBN:978-4-86798-156-6
---------------------

このニュースへのお問い合わせ
Webからお問い合わせこのニュースの詳細・お申し込み
詳細・お申し込み
関連リンク
技術情報協会サイト





