半導体材料の金属除去はお任せ！ 半導体薬液用メタル除去フィルター
【脱メタル】フォトケミカルの安定性に配慮！様々な要求レベルの金属低減を実現！キレートタイプや非イオン交換型Purifierを追加
イオン交換型Purifierにおける薬液精製では酸の発生によるリスクが懸念として残っていました。これらは化学増幅型レジストの品質を劣化させるリスクのある問題点です。 第1弾として液-液交換による金属除去メカニズムを持つNylon基膜に官能基を修飾したNylonpolarを発表しましたが、第二弾としてキレート構造による金属除去とイオン交換による発生した酸を即座に除去する機構を持つ金属除去Purifierを開発、上梓しました。 Cobetterでは、メタル除去に関する幅広いソリューションをユーザー様に提供すべく、新たな視点での金属除去機構を兼ね備えたPurifierを引き続き開発していきます。 メタル低減がうまく達成できない、イオン交換による酸発生の悪影響で薬液安定性に対する懸念が払拭できないなど、薬液精製に新しいソリューションを適用されたい方は必見です。 全ての金属に万能な金属除去性能を発揮するPurifierを探すことは至難の業ですが、ソリューションの引き出しを多く持っておくことを強く推奨いたします。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：日本コベッタ株式会社
- 価格：応相談
