電子ビーム(EB)描画装置
高加速電圧100kVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタイプの電子線描画装置をラインナップ、各種ニーズに対応可能
◆ハイエンド EBPGシリーズ ハイエンドモデルのEBPG5150/5200はRAITH社の卓越した技術を凝縮した装置となっております。周期的構造や正確形状等、お客様のご希望パターン描画を、高精度ステージ・電子銃及び主要関連備品等の制御を統合した専用ソフトウェアを介して、業界最速で提供いたします。 ✓ 高精度 且つ 高速なステージ安定構成 ✓ 広範囲な描画フィールド ✓ 最大 350 nA の「高電流密度」ビーム(FastHR技術) ✓ 125MHz 高速パターンジェネレータ & 2段階偏向(Coarse / Fine DAC) ✓ 全自動キャリブレーションによる「準備・調整時間」の短縮 ◆EB描画×SEMのハイブリッドモデル ユニバーサルモデルは高解像度カラムを搭載し、電子線描画と高解像度観察機能を兼ね備えております。オプションで検出器、ナノプロービング等を追加可能な拡張性がある装置です。 ✓ GeminiSEMカラムを搭載 ✓ 膨大なCADデータの高速データハンドリング (Algorizmixx) ✓ 独自のスティッチングエラー技術 ✓ 加工・評価まで可能な拡張性
- 企業:伯東株式会社 本社
- 価格:応相談