1～4 件を表示 ／ 全 4 件
「真空蒸着用EB源・電源」総合カタログ 配布致します。
日新技研社が取り扱う、真空蒸着用EB源・電源の総合カタログです 蒸着物質に対して、電子ビームを照射し再現性のある蒸着を行います ◆◆掲載製品◆◆ ○第三世代光学超多層膜用EB源：NEG-10N型 ○超小型EB源：NEG-05N型 ○カスタマイズ可能EB源：NEG-06Nシリーズ ○5kw電源：NEB-05S型 ○5kw電源：NEB-05W型 ○10kw電源：NEB-10W型 ○10kw電源：NEB-10WE型 ○各種付属品 ◆◆その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい◆◆
用途や目的に応じて任意にカスタマイズ可能な真空蒸着装置
日本電子株式会社 BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置は、研究開発や少量生産に適した蒸着装置です。 様々なオプション機器が搭載可能で、チャンバー形状やロードロック等、ご要望に合わせて制作します。 〇特長 ・蒸着源は、電子ビーム蒸着源（電子銃）、ボンバード蒸着源、抵抗加熱蒸着源を選択でき、任意に組み合わせて複数台搭載することが可能。 ・電子銃＋反射電子トラップ、またはボンバード蒸着減により、低温・低ダメージ蒸着が可能。特にレジストを用いるリフトオフ蒸着に有効。 ・アルミの安定蒸着ができ、繰り返し使用できるライナーもご提供。 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
ヤシマの電子ビーム蒸着装置はすべてカスタムオーダー。ムダなく、将来の拡張性高く、シンプル。それで価格もリーズナブル。
高融点材料の真空蒸着には電子ビーム蒸着装置が定番です。 弊社では弊社オリジナルだけでなく各社の蒸着ソースに対応します。 電子ビームを安定させる高真空・超高真空の環境を提供します。 基板ヒーター、回転など対応します。 ロードロック仕様に対応します。 シーケンサ・タッチパネルによる手動/自動運転も対応します。
メンテナンス性・作業性が簡便！リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を採用！
当製品は、金属材料を対象とし、リフトオフ成膜可能な電子ビーム蒸着装置です。 3連式EBガンはスライド移動機構により、メンテナンス性・作業性が簡便。 基板寸法は最大φ3インチで、リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を 採用しております。 【特長】 ■基板寸法：最大φ3インチ ■基板加熱温度：常用600℃ ■リフトオフ成膜機構：特殊遮熱機構採用 ■電子ビームガン：ハース3連手動スライド移動式 ■EBガンメンテ機構：EBガンスライド移動機構 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
