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目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。
『研究開発用真空蒸着装置』は、 大学・公的研究機関や基礎実験用に適した小型蒸着装置シリーズです。 コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型と全手動で抵抗加熱源を 基本構成とした簡易実験型の2機種をラインアップしています。 両機種（前扉型・簡易実験型）とも目的・コストに合わせて柔軟な 仕様対応が可能。デモ機を常設し、サンプルテスト対応いたします。 【特長】 ■実績豊富なハードと柔軟なコスト対応 ■目的に合わせた豊富なオプション機構(高温加熱・基板冷却・多元同時蒸着・ 有機物用蒸発源 リフトオフプロセス対応） ■プラズマ電極・RFコイルなどのイオン化機構・プラズマ電極追加対応 ■サンプルテストからハードのカスタマイズ、納入後のフォローまで 一貫した顧客対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
コンパクトな筐体で自動車外装品など大型樹脂成形品の全面成膜に対応 高速バッチ処理で樹脂表面処理のドライ化実現
『高速バッチ型樹脂用蒸着装置』は、自動車部品（外装品）など 樹脂成形品の蒸着加工に特化した専用蒸着装置です。 大口径の排気系とコンパクトなチャンバによる高速バッチ処理を実現。 シンプルな装置構成と高速バッチ処理で量産ラインの生産性の向上を図ります。 オールドライ排気系の採用と前扉型の装置形状によって 排気系のメンテフリー化とシステムのメンテナンス性にも優れており 高い稼働率を実現しています。 【特長】 ■樹脂基板への高速バッチ処理 ■安定した成膜性能と高速排気性能 ■オールドライ排気系による排気系メンテナンスフリー化 ■コンパクトな装置規模による高生産性 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。 ※その他、仕様詳細やサンプルテストなどにつきましてはお問い合わせください。
成膜前の高周波プラズマによる放電洗浄により、樹脂基板に対して高い密着力
『大型樹脂基板用蒸着装置』は、自動車の外装品の大型樹脂成形品への 薄膜形成を目的とした大型蒸着装置です。 複数の電子銃蒸発源を装備し、Al、Cu、Niなどの金属膜を長さ1mの 大型樹脂基板へ低温での高速成膜が可能。 自動車部品だけでなく電子機器への電磁波シールドにも実績を持っており、 大型チャンバ（φ2000）、電子銃蒸発源、大型排気系の組合せにより 大量バッチ処理による高品質装飾膜や電磁波シールド膜の生産に好適です。 【特長】 ■各種金属膜の低温形成（70℃以下） ■短時間バッチ処理 ■RFボンバードによる樹脂基板への膜の高い密着性 ■各種薄膜・厚膜・多層膜の形成（Cu／Ni Cu1μmNi0.25μm 積層） ■不連続膜の安定した成膜 ■カスタム化対応にて長尺基板（最大1750mm）への全面成膜が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形成可能
『ウェハプロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの 電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。 ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に 豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を 実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性の高い基本構成 ■豊富なオプション機構 ・蒸発源、多連式電子銃（10kw）、抵抗加熱蒸発源、多元同時蒸着機構 ・高温加熱（最高550℃）＝3面プラネタリードーム ・基板クリーニング、イオンガン、ＲＦボンバード機構 ・基板ドーム、3面プラネタリードーム、公転ドーム、高温加熱用公転ドーム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
シンプル コンパクト 高機能 実験、基礎研究に最適 ユーザーニーズに応じた柔軟にカスタマイズ 標準型蒸着装置
基礎研究に求められる性能・コスト・技術サポートを全てカバー 個別要求に応じてカスタマイズに対応。
電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。Ｒ＆Ｄ用の多目的小型研究用から実績豊富な裏面電極用量産用まで、信頼と充実のラインナップ
半導体・ＭＥＭＳ・各種電子部品（センサー、水晶振動子等）の研究開発から本格量産まで幅広く対応する標準型蒸着装置のラインナップ。 全機種クリーンルーム、クリーンバキューム対応で各種選択機構を装備。 実績豊富な標準仕様から個別要求に細やかに対応。 蒸発源・加熱温度・基板機構（プラネタードーム・公転ドーム）操作・ロギングソフト 全てカスタマイズＯＫ 社内デモ機でプロセステストも対応 幅広く柔軟なハード＆サポート
MAX10V-150Aのパワーと大容量のLN2トラップを備え迅速な試料の作成が可能。小型なので省スペース＆リーズナブルプライス。
容器寸法：φ150×200H、排気系：2インチ拡散ポンプ(LN2付)+ロータリポンプ20L/min。メインバルブには2インチサイズを採用しポンプの排気能力を有効に引き出します 。真空容器の金属部、メインバルブ、3方バルブ、リークバルブはステンレス材を採用しています。
メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上！
本装置は、前進的な試料作りを目的とし清浄高真空中で電子ビームにより 特にMg合金を初めとする全ての金属に適した蒸着装置として開発された装置です。 真空排気系はTMP80L/secとRP50L/minの組合わせで、全て電磁バルブを使用した 全自動排気系。到達圧力は液体窒素トラップ無しで10-5Paに入ります。 この他、電子顕微鏡向けタングステン薄膜のコーティング装置「マグネトロン スパッター装置」や、薄膜作成準備、表面分析の実験研究用として利用される 「3KV イオン銃(SIG030)」などをご用意しております。 【特長】 ■真空排気系はTMP80L/secとRP50L/minの組合わせで、 全て電磁バルブを使用した全自動排気系 ■到達圧力は液体窒素トラップ無しで10-5Paに入る ■メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセスに対応
『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最高900℃の高温プロセスが可能で、チャンバのメンテナンスが容易です。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高900℃の高温プロセスが可能 ■基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 ■ロードロック式による高真空プロセスに対応 ■好適な表面処理によるパーティクル低減 ■チャンバのメンテナンスが容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
コンパクト！簡便！低価格の製品です！
『MPNP-160 BASIC』は、各種金属材料を不活性ガス中で蒸発させることにより、 金属ナノ粒子を簡易に生成する装置です。 ガスの圧力と種類を調整することにより、ナノ粒子の粒径を制御できます。 また、酸化物のナノ粒子を生成することも可能です。 さらに、捕集基板を加熱することにより、基板上にナノ粒子を成長させます。 試験研究用装置として、お気軽にご使用下さい。 【特長】 ■金属ナノ粒子を簡易に生成可能 ■ナノ粒子の粒径を制御可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
コンパクトな設計を実現！有機蒸着源を4台標準搭載した蒸着装置
『KVD-OLED Evo.6』は、有機EL材料の塗布材料を目的とした OPV(有機薄膜太陽電池)用蒸着装置です。 有機材料の塗布工程は接続されているグローブボックス(MBRAUN)の中で 行い、搬送機構を用いて蒸着室内に基板を搬送し、電極を蒸着させる 一貫した装置となります。 グローブボックス（MBRAUN社製Labmaster）と接続でき、 ロードロック室間は手動の搬送機構で操作可能。 排気操作は前面のタッチパネル(PLC)により操作できます。 【特長】 ■排気シーケンスはPLCにて制御可能 ■金属の蒸着はボート式とルツボ式を標準搭載 ■膜厚計は3センサーを標準搭載 ■金属蒸着源はボート式とルツボ式を標準搭載 ■蒸着室はメンテナンスが容易な防着板を標準搭載 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
EB源増設ポート付！4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています！
当製品は、金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。 角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法：100×100 ■基板加熱温度：常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源：100A 3源切替式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基板入射に対応する円弧型レール上に任意位置で固定可能！蒸着ポジションを調整できます
当製品は、アタッチメントフリーのKセルおよびコニカル型蒸着源を 備えた基板入射角可変型蒸着装置です。 任意の基板入射に対応する円弧型レール上に、任意位置で固定可能。 蒸着ポジションを調整することができます。 【Kセル】 ■ルツボ容量：2cc ■加熱温度：Max1 200℃ ■加熱制御電源 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を交換・補充可能です！
当社が取り扱う『グローブボックス内収納型真空蒸着装置』をご紹介します。 50×50基板を蒸着可能な小型蒸着ベルジャーを、グローブボックス内に収納。 グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を 交換・補充することができます。 【特長】 ■50×50基板を蒸着可能 ■小型蒸着ベルジャーをグローブボックス内に収納 ■グローブボックス内でベルジャーを着脱し、 基板や蒸着材料を交換・補充できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料） EB蒸着 RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ RIEプラズマエッチング CVD アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃ Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング ・CVD（熱CVD PECVD） *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能
