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目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。
『研究開発用真空蒸着装置』は、 大学・公的研究機関や基礎実験用に適した小型蒸着装置シリーズです。 コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型と全手動で抵抗加熱源を 基本構成とした簡易実験型の2機種をラインアップしています。 両機種（前扉型・簡易実験型）とも目的・コストに合わせて柔軟な 仕様対応が可能。デモ機を常設し、サンプルテスト対応いたします。 【特長】 ■実績豊富なハードと柔軟なコスト対応 ■目的に合わせた豊富なオプション機構(高温加熱・基板冷却・多元同時蒸着・ 有機物用蒸発源 リフトオフプロセス対応） ■プラズマ電極・RFコイルなどのイオン化機構・プラズマ電極追加対応 ■サンプルテストからハードのカスタマイズ、納入後のフォローまで 一貫した顧客対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
コンパクトな筐体で自動車外装品など大型樹脂成形品の全面成膜に対応 高速バッチ処理で樹脂表面処理のドライ化実現
『高速バッチ型樹脂用蒸着装置』は、自動車部品（外装品）など 樹脂成形品の蒸着加工に特化した専用蒸着装置です。 大口径の排気系とコンパクトなチャンバによる高速バッチ処理を実現。 シンプルな装置構成と高速バッチ処理で量産ラインの生産性の向上を図ります。 オールドライ排気系の採用と前扉型の装置形状によって 排気系のメンテフリー化とシステムのメンテナンス性にも優れており 高い稼働率を実現しています。 【特長】 ■樹脂基板への高速バッチ処理 ■安定した成膜性能と高速排気性能 ■オールドライ排気系による排気系メンテナンスフリー化 ■コンパクトな装置規模による高生産性 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。 ※その他、仕様詳細やサンプルテストなどにつきましてはお問い合わせください。
成膜前の高周波プラズマによる放電洗浄により、樹脂基板に対して高い密着力
『大型樹脂基板用蒸着装置』は、自動車の外装品の大型樹脂成形品への 薄膜形成を目的とした大型蒸着装置です。 複数の電子銃蒸発源を装備し、Al、Cu、Niなどの金属膜を長さ1mの 大型樹脂基板へ低温での高速成膜が可能。 自動車部品だけでなく電子機器への電磁波シールドにも実績を持っており、 大型チャンバ（φ2000）、電子銃蒸発源、大型排気系の組合せにより 大量バッチ処理による高品質装飾膜や電磁波シールド膜の生産に好適です。 【特長】 ■各種金属膜の低温形成（70℃以下） ■短時間バッチ処理 ■RFボンバードによる樹脂基板への膜の高い密着性 ■各種薄膜・厚膜・多層膜の形成（Cu／Ni Cu1μmNi0.25μm 積層） ■不連続膜の安定した成膜 ■カスタム化対応にて長尺基板（最大1750mm）への全面成膜が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形成可能
『ウェハプロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの 電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。 ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に 豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を 実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性の高い基本構成 ■豊富なオプション機構 ・蒸発源、多連式電子銃（10kw）、抵抗加熱蒸発源、多元同時蒸着機構 ・高温加熱（最高550℃）＝3面プラネタリードーム ・基板クリーニング、イオンガン、ＲＦボンバード機構 ・基板ドーム、3面プラネタリードーム、公転ドーム、高温加熱用公転ドーム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
シンプル コンパクト 高機能 実験、基礎研究に最適 ユーザーニーズに応じた柔軟にカスタマイズ 標準型蒸着装置
基礎研究に求められる性能・コスト・技術サポートを全てカバー 個別要求に応じてカスタマイズに対応。
電子デバイス用途のスタンダードシリーズ。Ｒ＆Ｄ用の多目的小型研究用から実績豊富な裏面電極用量産用まで、信頼と充実のラインナップ
半導体・ＭＥＭＳ・各種電子部品（センサー、水晶振動子等）の研究開発から本格量産まで幅広く対応する標準型蒸着装置のラインナップ。 全機種クリーンルーム、クリーンバキューム対応で各種選択機構を装備。 実績豊富な標準仕様から個別要求に細やかに対応。 蒸発源・加熱温度・基板機構（プラネタードーム・公転ドーム）操作・ロギングソフト 全てカスタマイズＯＫ 社内デモ機でプロセステストも対応 幅広く柔軟なハード＆サポート
MAX10V-150Aのパワーと大容量のLN2トラップを備え迅速な試料の作成が可能。小型なので省スペース＆リーズナブルプライス。
容器寸法：φ150×200H、排気系：2インチ拡散ポンプ(LN2付)+ロータリポンプ20L/min。メインバルブには2インチサイズを採用しポンプの排気能力を有効に引き出します 。真空容器の金属部、メインバルブ、3方バルブ、リークバルブはステンレス材を採用しています。
メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上！
本装置は、前進的な試料作りを目的とし清浄高真空中で電子ビームにより 特にMg合金を初めとする全ての金属に適した蒸着装置として開発された装置です。 真空排気系はTMP80L/secとRP50L/minの組合わせで、全て電磁バルブを使用した 全自動排気系。到達圧力は液体窒素トラップ無しで10-5Paに入ります。 この他、電子顕微鏡向けタングステン薄膜のコーティング装置「マグネトロン スパッター装置」や、薄膜作成準備、表面分析の実験研究用として利用される 「3KV イオン銃(SIG030)」などをご用意しております。 【特長】 ■真空排気系はTMP80L/secとRP50L/minの組合わせで、 全て電磁バルブを使用した全自動排気系 ■到達圧力は液体窒素トラップ無しで10-5Paに入る ■メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセスに対応
『ロードロック式EB蒸着装置』は、基板回転による優れた膜厚分布および 再現性を実現しています。 ロードロック式による高真空プロセスをはじめ、リフトオフプロセスや、 トレイ搬送にも対応。 最高900℃の高温プロセスが可能で、チャンバのメンテナンスが容易です。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最高900℃の高温プロセスが可能 ■基板回転による優れた膜厚分布および再現性を実現 ■ロードロック式による高真空プロセスに対応 ■好適な表面処理によるパーティクル低減 ■チャンバのメンテナンスが容易 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
個人差のないカーボン蒸着が可能に！ EPMA・分析SEMの前処理用として最適
QUICK CARBON COATER SC-701CTは、EPMAや分析SEMの試料作製の手間を省いたカーボン蒸着専用コーターです。誰でも簡単・手軽にカーボン蒸着できます。 個人差のない蒸着を実現し、試料に対する熱ダメージを低減します。 【特長】 〇フラッシュ式蒸着法を採用 → 個人差のないカーボン蒸着を実現 〇蒸着作業時毎にカーボン棒を削る手間を省く 〇ロータリーポンプのみによる排気(低真空)のため、試料表面へのカーボン粒子の回り込みに優れる 〇オプションのマグネトロンスパッタユニット(SC-MC)を取り付けることにより、金属のスパッタコーターとして使用することができます。
スパッタ装置、真空蒸着装置、SEM/電子顕微鏡関連機器のサンユー電子
1976年の創業以来一貫して、“使いやすい、簡単、便利”にこだわったものづくりを通じ、多くの方々に、スパッタ装置(スパッタコーター)、真空蒸着装置、SEM/電子顕微鏡関連機器をお使いいただいております。 SEM用前処理用としてのスパッタ装置(スパッタコーター)、真空蒸着装置、各種デバイスの電極付け用途としてのスパッタ装置、真空蒸着装置は、大学や公的研究機関の各研究室、民間企業の開発担当の方々に好評いただいております。 また、SEM用の引張(疲労)試験装置や電子線描画装置などの電子顕微鏡関連機器の取り扱いもございます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
コンパクト！簡便！低価格の製品です！
『MPNP-160 BASIC』は、各種金属材料を不活性ガス中で蒸発させることにより、 金属ナノ粒子を簡易に生成する装置です。 ガスの圧力と種類を調整することにより、ナノ粒子の粒径を制御できます。 また、酸化物のナノ粒子を生成することも可能です。 さらに、捕集基板を加熱することにより、基板上にナノ粒子を成長させます。 試験研究用装置として、お気軽にご使用下さい。 【特長】 ■金属ナノ粒子を簡易に生成可能 ■ナノ粒子の粒径を制御可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
改善成功事例 事例3 有機材料開発用蒸着装置 KVD-OLED Evo.Cluster
◆◇◆経緯◆◇◆ これまで、他社製の大型のクラスター型蒸着装置を使用していた。 しかしながら、大型の為、巨大なスペースを使用してしまい、 問題が多々発生している。（搬送トラブル・蒸着セルの材料枯渇スピードが 早い・蒸着レートコントロールが困難など）そこで、コンパクトであるが、 最低限、既存装置の仕様を盛り込み、スペックを更にアップした装置が欲しい。
改善成功事例 事例4 有機EL成膜装置改造
◆◇◆経緯◆◇◆ これまで、他社製の有機EL成膜装置を使用していた。 しかし、使用上、下記の不具合点や要望が挙がっていた。 ◆マスクの交換機構が搭載されていない為、マスクを交換する際は、 その都度、大気開放する必要がある。その為、試料にダメージが生じてしまう。 また、一貫した真空環境ではない為、無駄な時間を費やしてしまう。 ◆有機蒸着室において、現状が最大6源の蒸着セルが付いているが、 現状の真空槽を活用して、拡張性を増やし、色々な実験を行いたい。
蒸着装置をご検討中の研究者必見！ 有機蒸着と無機蒸着のどちらも網羅し、コンポーネンツガイドも掲載の一冊を進呈中です。
真空装置・低温機器をはじめとし、試作研究開発機器の設計・製造及び販売を行う北野精機では PVD装置を多数掲載した『PVD装置カタログ』を無料進呈中です！ 選定に役立つPVD装置コンポーネントガイドや、蒸着構成、機能構成など 蒸着装置をご検討中の研究者にぴったりな一冊です。 【掲載内容(一部)】 ■PVD装置コンポーネントガイド ■チャンバータイプ別仕様 ■蒸着構成／各蒸着源仕様 ■機能構成 マニピュレーター など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
コンパクトな設計を実現！有機蒸着源を4台標準搭載した蒸着装置
『KVD-OLED Evo.6』は、有機EL材料の塗布材料を目的とした OPV(有機薄膜太陽電池)用蒸着装置です。 有機材料の塗布工程は接続されているグローブボックス(MBRAUN)の中で 行い、搬送機構を用いて蒸着室内に基板を搬送し、電極を蒸着させる 一貫した装置となります。 グローブボックス（MBRAUN社製Labmaster）と接続でき、 ロードロック室間は手動の搬送機構で操作可能。 排気操作は前面のタッチパネル(PLC)により操作できます。 【特長】 ■排気シーケンスはPLCにて制御可能 ■金属の蒸着はボート式とルツボ式を標準搭載 ■膜厚計は3センサーを標準搭載 ■金属蒸着源はボート式とルツボ式を標準搭載 ■蒸着室はメンテナンスが容易な防着板を標準搭載 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高度な真空機器設計技術でお客様のアイデアをカタチとして実現！応用物理学会月刊誌に公告掲載しております
株式会社エイエルエステクノロジーは、多くのお客様の御指導をいただきながら、 我々の独自の技術（真空技術、グローブボックス技術）でお客様のアイデアを 形として実現してまいりました。 科学技術は常に進歩してまいります。当社は今後も、お客様と協力関係を優先とし、 性能、価格、品質そしてサービスにてベストをつくしてまいります。 応用物理学会月刊誌に公告掲載もしております。 今後とも宜しくお願いいたします。 【事業内容（抜粋）】 ■真空装置事業 ・有機デバイス研究用蒸着装置 ・昇華精製装置（トレインサブリメーション装置） ■計測装置事業 ・低エネルギー逆光電子分光装置（LEIPS装置） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
EB源増設ポート付！4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています！
当製品は、金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。 角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法：100×100 ■基板加熱温度：常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源：100A 3源切替式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基板入射に対応する円弧型レール上に任意位置で固定可能！蒸着ポジションを調整できます
当製品は、アタッチメントフリーのKセルおよびコニカル型蒸着源を 備えた基板入射角可変型蒸着装置です。 任意の基板入射に対応する円弧型レール上に、任意位置で固定可能。 蒸着ポジションを調整することができます。 【Kセル】 ■ルツボ容量：2cc ■加熱温度：Max1,200℃ ■加熱制御電源 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を交換・補充可能です！
当社が取り扱う『グローブボックス内収納型真空蒸着装置』をご紹介します。 50×50基板を蒸着可能な小型蒸着ベルジャーを、グローブボックス内に収納。 グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を 交換・補充することができます。 【特長】 ■50×50基板を蒸着可能 ■小型蒸着ベルジャーをグローブボックス内に収納 ■グローブボックス内でベルジャーを着脱し、 基板や蒸着材料を交換・補充できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
「真空蒸着用EB源・電源」総合カタログ 配布致します。
日新技研社が取り扱う、真空蒸着用EB源・電源の総合カタログです 蒸着物質に対して、電子ビームを照射し再現性のある蒸着を行います ◆◆掲載製品◆◆ ○第三世代光学超多層膜用EB源：NEG-10N型 ○超小型EB源：NEG-05N型 ○カスタマイズ可能EB源：NEG-06Nシリーズ ○5kw電源：NEB-05S型 ○5kw電源：NEB-05W型 ○10kw電源：NEB-10W型 ○10kw電源：NEB-10WE型 ○各種付属品 ◆◆その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい◆◆
卓上小型サイズの高真空蒸着装置です。 カーボン蒸着・金蒸着・アルミ蒸着・クロム蒸着などが簡単に実現可能です。
★ VE-2013はVE-2030（弊社製）のコンセプトを継承した簡易型真空蒸着装置です。 ★ TMPを筐体内に内蔵したコンパクトな筐体を実現。デスクトップ型なので設置場所を取りません（RPは床置き）。 ★ 小型TMP＋RPの排気系により清浄高真空の蒸着装置を低価格で提供。 ★ 排気操作はタッチパネルスイッチのON／OFFのみで全自動制御。 ★ タングステンバスケットの使用で金・アルミニウム・クロム・銀などの蒸着が出来ます。 ★ カーボン蒸着はφ0.5mmの専用カーボンを蒸着するクランプ蒸着銃タイプを使用。 （φ5mmカーボンロッドは使用出来ません。）
拡張性、操作性、安全性はSDタイプ同様に充実しています。
DH300HD（G/M）は低騒音タイプの磁気浮上型TMPを搭載したハイグレードタイプで、メインのアングルバルブと粗引きラインを配置することによりTMPの汚染を防止するとともに、ポンプを停止することなく試料交換を行うことが可能です。さらに蒸着モニタを標準装備していますので、より精度の高い膜厚制御や自動成膜を行うことも可能となります。
精密品から海上輸送の大型構造物まで、非鉄金属加工のスペシャリスト！
今日、あらゆる産業の分野で、急速なイノベーションが進んでいます。より「軽く」、より「強く」、そして、より「ロングライフ」に…企業のニーズは、ますます多様化し、個性化しています。赤星工業は、創業以来、常に「顧客志向」、「品質本位」をモットーに価値ある非鉄金属加工品を提供し、多くの皆様のご要望とご期待に応えてまいりました。そして、今、急激に変化する時代の中で、いかなる企業のニーズにも迅速に対応できるハイテクノロジーの開発とその技術集約的な生産体制づくりに取り組んでいます。私たちは、「特異性のある、誇れる仕事を達成して行くこと」こそが企業の存在理由であり、また、私たちをよりよく生かす道だと信じています。A leading company of nonferrous technology－worldwide. 次なる世代へ向けて、赤星工業が目指す新しい企業像です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
小型ロールコーターで経営革新計画が承認されました
真空蒸着装置のことなら株式会社富士アールアンドディーにおまかせください。 詳しくはお問い合せください。
真空部品や真空システムの販売などを行っています。
株式会社AlphaPlusは、韓国にある真空部品や真空システムの販売などを行っている会社です。 各種蒸発源や各種の超高真空装備に使用されるイオンポンプなどの「真空部品」、各種蒸着機、金属や無機物薄膜製造に使用されるスパッタリング蒸着機、ベーパライゼーション蒸着機などの「真空システム」、多くの金属や無機物薄膜製造に使用される「スパッタリングガン」などを取り扱っております。 【取扱製品】 ○スパッタリング蒸着機 ○ベーパライゼーション蒸着機 ○蒸発源/装置(Effusion Cell)&プラズマセル ○スパッタリングガン ○イオンポンプ 他 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置｜スパッタリング・抵抗加熱蒸着・電子ビーム蒸着・有機蒸着
HEXシステムは、ユニークな『モジュール構造』が採用されています。 六角柱の形状のチャンバーの、各面を構成するパネルを交換することで 自由自在にポートの数や配置を変更することができます。 そのため、研究の方向性の変化に応じて、まるでブロックを 組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を 行うことができます。 HEXシステムは、ベンチトップシステムとUHVシステムの間を補う、 コンパクトで拡張性の高い、新しいコンセプトの真空蒸着装置です。 ◆『モジュール構造』により自由自在にシステム構成を変更可能 ◆スパッタ、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、有機蒸着に対応 ◆複数ソースによる同時成膜に対応 ◆サンプル回転、加熱、水冷に対応 ◆膜厚計を搭載可能 ◆設置面積60cm x 60cmのコンパクト設計 ◆優れた拡張性およびメンテナンス性 ◆グローブボックス対応（リチウムイオン電池など） 詳しくは＜PDFダウンロード＞よりカタログをご覧ください。 ご不明な点がございましたら、お気軽にお問い合わせください。
TEM･SEM･EPMA 用前処理装置/薄膜･電極膜作製装置としてお使いいただける真空蒸着装置
ラボテック株式会社 の『LA-V5050』は、スタンダード抵抗加熱式真空蒸着装置です。 デスクトップ型低価格ターボ式真空蒸着装置、操作性重視のコンセプト設計製品です。 スピーディーに高真空状態が可能で TEM・SEM・EPMA用の前処理作製が可能です。 また、カートリッジホルダの選択で薄膜デバイス/電極膜作製装置として使用可能です。 【特長】 ■デスクトップ型 ■操作性重視 ■スピーディー ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
信頼性の高い製品をご提供！ノウハウに応じた先端測定機と加工機を自社装備しています
株式会社オカモトオプティクスで保有している「大型真空蒸着装置」 についてご紹介いたします。 EB蒸着、IAD蒸着の2種類を保有。また、研磨加工機や干渉計計測器、 三次元測定器など、多数の設備を備えております。 当社は大型のレンズや平面も高精度の加工が出来ることが特長であり、 ガラスだけではなくセラミックスも対応可能です。ご要望の際は お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■ノウハウに応じた先端測定機と加工機を自社装備 ■信頼性の高い製品を提供可能 ■大型のレンズや平面も高精度の加工が出来る ■ガラスだけではなくセラミックスも対応可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
蒸着源はボートタイプ！基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任意に変更可能
『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。 【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、 又下チャンバーはCF70ポートが6式標準装備されている ■上チャンバーは電動にて上下する機構を有している ■標準で膜厚計を装備するとともに、ガス雰囲気にする事も可能 ■2元の材料を簡単に蒸着出来る ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
