蒸着源はボートタイプ!基板は支柱上のプレートに取付けられており高さは任意に変更可能
『2次元抵抗加熱蒸着装置』は、簡単に2つの材料を抵抗加熱により蒸着出来る 装置です。 蒸着源はボートタイプで、基板は支柱上のプレートに取付けられており、 高さは任意に変更可能。 排気系は、DPとRPを併用しておりますので、短時間で高真空が得られます。 【特長】 ■SUS製上チャンバーには、CF70ポートが2式、50φの窓が2式、 又下チャンバーはCF70ポートが6式標準装備されている ■上チャンバーは電動にて上下する機構を有している ■標準で膜厚計を装備するとともに、ガス雰囲気にする事も可能 ■2元の材料を簡単に蒸着出来る ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【仕様】 ■SUSチャンバー ■到達圧力 7×10^-2Pa ■基板ホルダー φ1インチ ■抵抗加熱蒸着源 Wボートタイプ 2基 ■DP1500L/s ■RP220L/m ■ピラニー真空計 電離真空計 標準装備 ■シャッター機構 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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