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目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。
『研究開発用真空蒸着装置』は、 大学・公的研究機関や基礎実験用に適した小型蒸着装置シリーズです。 コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型と全手動で抵抗加熱源を 基本構成とした簡易実験型の2機種をラインアップしています。 両機種（前扉型・簡易実験型）とも目的・コストに合わせて柔軟な 仕様対応が可能。デモ機を常設し、サンプルテスト対応いたします。 【特長】 ■実績豊富なハードと柔軟なコスト対応 ■目的に合わせた豊富なオプション機構(高温加熱・基板冷却・多元同時蒸着・ 有機物用蒸発源 リフトオフプロセス対応） ■プラズマ電極・RFコイルなどのイオン化機構・プラズマ電極追加対応 ■サンプルテストからハードのカスタマイズ、納入後のフォローまで 一貫した顧客対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形成可能
『ウェハプロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの 電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。 ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に 豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を 実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性の高い基本構成 ■豊富なオプション機構 ・蒸発源、多連式電子銃（10kw）、抵抗加熱蒸発源、多元同時蒸着機構 ・高温加熱（最高550℃）＝3面プラネタリードーム ・基板クリーニング、イオンガン、ＲＦボンバード機構 ・基板ドーム、3面プラネタリードーム、公転ドーム、高温加熱用公転ドーム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
MAX10V-150Aのパワーと大容量のLN2トラップを備え迅速な試料の作成が可能。小型なので省スペース＆リーズナブルプライス。
容器寸法：φ150×200H、排気系：2インチ拡散ポンプ(LN2付)+ロータリポンプ20L/min。メインバルブには2インチサイズを採用しポンプの排気能力を有効に引き出します 。真空容器の金属部、メインバルブ、3方バルブ、リークバルブはステンレス材を採用しています。
メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上！
本装置は、前進的な試料作りを目的とし清浄高真空中で電子ビームにより 特にMg合金を初めとする全ての金属に適した蒸着装置として開発された装置です。 真空排気系はTMP80L/secとRP50L/minの組合わせで、全て電磁バルブを使用した 全自動排気系。到達圧力は液体窒素トラップ無しで10-5Paに入ります。 この他、電子顕微鏡向けタングステン薄膜のコーティング装置「マグネトロン スパッター装置」や、薄膜作成準備、表面分析の実験研究用として利用される 「3KV イオン銃(SIG030)」などをご用意しております。 【特長】 ■真空排気系はTMP80L/secとRP50L/minの組合わせで、 全て電磁バルブを使用した全自動排気系 ■到達圧力は液体窒素トラップ無しで10-5Paに入る ■メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スパッタ装置、真空蒸着装置、SEM/電子顕微鏡関連機器のサンユー電子
1976年の創業以来一貫して、“使いやすい、簡単、便利”にこだわったものづくりを通じ、多くの方々に、スパッタ装置(スパッタコーター)、真空蒸着装置、SEM/電子顕微鏡関連機器をお使いいただいております。 SEM用前処理用としてのスパッタ装置(スパッタコーター)、真空蒸着装置、各種デバイスの電極付け用途としてのスパッタ装置、真空蒸着装置は、大学や公的研究機関の各研究室、民間企業の開発担当の方々に好評いただいております。 また、SEM用の引張(疲労)試験装置や電子線描画装置などの電子顕微鏡関連機器の取り扱いもございます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を交換・補充可能です！
当社が取り扱う『グローブボックス内収納型真空蒸着装置』をご紹介します。 50×50基板を蒸着可能な小型蒸着ベルジャーを、グローブボックス内に収納。 グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を 交換・補充することができます。 【特長】 ■50×50基板を蒸着可能 ■小型蒸着ベルジャーをグローブボックス内に収納 ■グローブボックス内でベルジャーを着脱し、 基板や蒸着材料を交換・補充できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小型ロールコーターで経営革新計画が承認されました
真空蒸着装置のことなら株式会社富士アールアンドディーにおまかせください。 詳しくはお問い合せください。
ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置｜スパッタリング・抵抗加熱蒸着・電子ビーム蒸着・有機蒸着
HEXシステムは、ユニークな『モジュール構造』が採用されています。 六角柱の形状のチャンバーの、各面を構成するパネルを交換することで 自由自在にポートの数や配置を変更することができます。 そのため、研究の方向性の変化に応じて、まるでブロックを 組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を 行うことができます。 HEXシステムは、ベンチトップシステムとUHVシステムの間を補う、 コンパクトで拡張性の高い、新しいコンセプトの真空蒸着装置です。 ◆『モジュール構造』により自由自在にシステム構成を変更可能 ◆スパッタ、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、有機蒸着に対応 ◆複数ソースによる同時成膜に対応 ◆サンプル回転、加熱、水冷に対応 ◆膜厚計を搭載可能 ◆設置面積60cm x 60cmのコンパクト設計 ◆優れた拡張性およびメンテナンス性 ◆グローブボックス対応（リチウムイオン電池など） 詳しくは＜PDFダウンロード＞よりカタログをご覧ください。 ご不明な点がございましたら、お気軽にお問い合わせください。
TEM･SEM･EPMA 用前処理装置/薄膜･電極膜作製装置としてお使いいただける真空蒸着装置
ラボテック株式会社 の『LA-V5050』は、スタンダード抵抗加熱式真空蒸着装置です。 デスクトップ型低価格ターボ式真空蒸着装置、操作性重視のコンセプト設計製品です。 スピーディーに高真空状態が可能で TEM・SEM・EPMA用の前処理作製が可能です。 また、カートリッジホルダの選択で薄膜デバイス/電極膜作製装置として使用可能です。 【特長】 ■デスクトップ型 ■操作性重視 ■スピーディー ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
信頼性の高い製品をご提供！ノウハウに応じた先端測定機と加工機を自社装備しています
株式会社オカモトオプティクスで保有している「大型真空蒸着装置」 についてご紹介いたします。 EB蒸着、IAD蒸着の2種類を保有。また、研磨加工機や干渉計計測器、 三次元測定器など、多数の設備を備えております。 当社は大型のレンズや平面も高精度の加工が出来ることが特長であり、 ガラスだけではなくセラミックスも対応可能です。ご要望の際は お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■ノウハウに応じた先端測定機と加工機を自社装備 ■信頼性の高い製品を提供可能 ■大型のレンズや平面も高精度の加工が出来る ■ガラスだけではなくセラミックスも対応可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着ができます！
『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D395mmサイズで卓上型 ■お手持ちの排気系、膜厚計を取付可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
さまざまなチャンバーサイズやプロセス・自動化を選択可能なBAK蒸着プラットフォームをご紹介
新しいレベルの柔軟性とプロセス制御を備えた蒸着機である『BAKファミリー』は、パワー デバイス、ワイヤレス、LED、MEMS、およびフォトニクス向けに単に蒸着作業を提供するだけでなく、基板の自動交換と高スループットを実現する新世代蒸着装置です。 大学や研究機関向けのコンパクトなBAK501から、大量生産用のMulti BAKまで研究開発から量産まですべてのお客様に適したBAKをご提案可能です。 【特長】 ■0.5m～2.0mの蒸着距離を選択可能 ■多元材料を真空破壊なしに使用可能な柔軟性の高いプロセス ■ロードロックやローディングロボットを組み込んだ全自動式も選択可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置です
『リフトオフプロセス対応真空蒸着装置』は、 化合物半導体やSAWデバイスなど光デバイスや高周波・通信デバイスに 多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置です。 蒸発源に電子銃と抵抗加熱電極を装備しており、高融電極膜や貴金属を含む 厚膜の形成が可能。 基板への蒸発粒子の入射角の垂直性に優れており、成膜時の基板の温度上昇を 防ぐ各種機構（基板水冷機構、電子銃用反射電子トラップ、輻射光防止対策） により低温蒸着が可能です。 【特長】 ■蒸着粒子の基板への入射角の垂直性（90°±3°at6インチウェハ） ■基板水冷機構による低温蒸着（70℃以下＝実績値） ■大口径排気系による高速排気とクリーンなバックグラウンドによる緻密な膜質 ■豊富なオプション類による柔軟なハード＆ソフト対応（枚葉式＝CtoC化 ロードロック化 複合プロセス化＝ロードロック化＋他プロセス室接合） ■デモ機を常設し、サンプルテスト対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
簡単操作のTMP排気システム採用！拡張性に優れたテーブルトップ型真空蒸着装置
「SVC-700TMSG/7PS80」は、TMP＋RP型の抵抗加熱式真空蒸着装置です。コンパクトさと使い勝手の良さにこだわった装置です。 排気装置「SVC-700TMSG」と蒸着電源「SVC-7PS80」から構成されています。 シンプルかつイージーオペレーションで、将来の機能拡張までをも考慮しています 豊富なオプションにより、薄膜作製実験の幅が拡がります。 また、専用オプションにより、有機物の薄膜作製実験にも対応。 グローブボックス内設置に関するご相談も承ります(実績多数)。 【特長】 ○コンパクトサイズ ○拡張性に優れたテーブルトップ型真空蒸着装置 ○簡単操作のTMP排気システム採用 ○豊富なオプション ○グローブボックス内への設置も対応可能
360度回転／傾斜可能な試料ホルダ搭載で生産性が4倍に
基板状の試料表面に各種金属薄膜を成膜し、膜厚が正確に制御でき真空蒸着装置です。 膜厚依存性や蒸発レート依存性を調べるのに非常に便利な機能
粒状や粉末タイプの試料表面に各種金属薄膜をコートするための真空蒸着装置です。
蒸発源を上方から下向きに蒸発させることを可能にすることにより、固定できない粒子状試料への蒸着を可能にしました。
実験用・少量生産用機から、大容量加工機まで可能な薄膜製造装置
ユーザーの立場より開発された薄膜製造装置は、ジョブコーターとしての経験をふんだんに装置に織り込み、ユーザーの立場で設計し、お客様とディスカッションしながら組み上げていく「オーダーシステム」をとっています。小型の実験用・少量生産用機から、大容量加工機まで種々のタイプをそろえています。 私どもの装置はすべてオーダーメードです。多様な蒸発源を持っておりますので何をどのくらいどのように加工したいのかを伺いながら装置の設計を進めてまいります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデル
多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は6点式坩堝を採用していますので、 同一真空中内で6種類の成膜が可能 ○基板はφ75mmで30枚、φ100mmで20枚、φ150mmで9枚収納できる ○入射角±5°以内で成膜可能 ○真空槽内の防着シールドは分割式となっていますので、交換が容易 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
全機種オーバーホールして完全稼動した状態で納品しております
株式会社グリーンテックでは、完全オーバーホールを実施して性能 確認した中古真空機器・装置の販売・メンテナンス及びレンタルを 行っております。 取扱商品はスパッタ装置・真空蒸着装置をはじめとして、Heリークディ テクタ等の計測器や電源・電子銃・真空計・ポンプ等の単品も販売して おりますので、ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【特長】 ■販売品在庫数豊富 ■完全オーバーホールを実施 ※詳しくは、お問い合わせください。
機種選びから消耗品供給、アフターフォローまで安心して任せられる万全のフロー
当カタログは、真空蒸着装置の製造・販売の専門メーカーである 株式会社クラフトの総合カタログです。 (※株式会社プロスタッフは、株式会社クラフトを販売メーカーとし、 プロスタッフは製造部門として一翼を担っております。) 自動真空蒸着装置[オーダーメイド]CAPシリーズといった製品の掲載を はじめ、メンテナンスメニュー・加工品の紹介など幅広く掲載しております。 【掲載内容】 ■自動真空蒸着装置[オーダーメイド] ■リフレッシュ品[中古品] ■装置メンテナンス ■部品メンテナンス ■蒸着部材・加工品 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、070と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-070の上位機種。070同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材）、EB蒸着,、RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ、プラズマドライエッチング、アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ：Φ11inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4元 ・有機蒸着源 x 最大4元 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4元 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4元 ◉ 有機蒸着源 x 最大4元 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4元 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式コンポーネント・制御ユニットにより様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026/090）：590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ（MiniLab-070/080）：1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。 難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。 リモートソフトウエア「IntelliLink（インテリリンク）」付属：USBケーブルでWindows PCに接続し、装置運転状況モニター、ログ保存、オンライン/オフラインレシピ作成保存、故障解析などが可能です。 限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れたコンパクトサイズ真空蒸着装置です。
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
モジュラー式コンポーネント・制御機器設計によりバリエーションが豊富、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3元）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4元） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3元） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 2元同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。
LED 用光学多層 DBR 膜の成膜に最適！
Sapio-DBR（SGC-S1550i/S1300iシリーズ）は、LED用光学多層DBR膜用に特化した真空蒸着装置で、ドーム内の均一性が良く、生産効率の向上を図ることが可能です。 LED用光学多層DBR膜の成膜に最適です。 【特徴】 ○優れた量産性能 →基板搭載数：φ2inchウェハー約400枚/batch φ4inch ウェハー約110枚/batch →タクト：3h/batch 以内 →必要設置エリア：W4.6m×D6.3m×H3.2m ※SGC-S1550i 使用時 ※水晶式膜厚計の脱着の際には 工場側天井パネルの取外し等が必要な場合がある ○優れた再現性 連続batch保証も対応 ○膜質の調整が可能 Chippingによる膜の損傷を抑制するための 条件補正も協力できる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
