真空蒸着装置 - 企業4社の製品一覧

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570mmトールチャンバー採用蒸着時の均一性向上に寄与

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料） EB蒸着 RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ RIEプラズマエッチング CVD アニールなどの幅広い目的に対応。・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源・有機蒸着源 x 最大4源・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源・電子ビーム蒸着・基板加熱ステージ（標準500℃ Max1000℃）・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング・CVD（熱CVD PECVD） *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能

企業：テルモセラ・ジャパン株式会社本社
価格：応相談

蒸着装置
スパッタリング装置
エッチング装置

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真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570mmトールチャンバー採用蒸着時の均一性向上に寄与

80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール

企業：テルモセラ・ジャパン株式会社本社
価格：応相談

蒸着装置
スパッタリング装置
アニール炉

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真空蒸着装置『LA-V5050』

TEM･SEM･EPMA 用前処理装置/薄膜･電極膜作製装置としてお使いいただける真空蒸着装置

ラボテック株式会社の『LA-V5050』は、スタンダード抵抗加熱式真空蒸着装置です。デスクトップ型低価格ターボ式真空蒸着装置、操作性重視のコンセプト設計製品です。スピーディーに高真空状態が可能で TEM・SEM・EPMA用の前処理作製が可能です。また、カートリッジホルダの選択で薄膜デバイス/電極膜作製装置として使用可能です。【特長】 ■デスクトップ型 ■操作性重視 ■スピーディー ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。

企業：ラボテック株式会社
価格：100万円 ~ 500万円

その他理化学機器

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真空蒸着装置　HSVシリーズ

コンパクトな外観と優れた内部機構

大学などの各研究機関の実験装置をはじめ小ロットの生産装置として最も汎用性の高い装置として設計された、真空蒸着装置

企業：佐藤真空株式会社
価格：応相談

真空機器

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真空蒸着装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。【スモールフットプリント・省スペース】・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。

企業：テルモセラ・ジャパン株式会社本社
価格：応相談

スパッタリング装置
蒸着装置
アニール炉

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真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。

OLED OPV OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。リモートソフトウエア「IntelliLink（インテリリンク）」付属：USBケーブルでWindows PCに接続し、装置運転状況モニター、ログ保存、オンライン/オフラインレシピ作成保存、故障解析などが可能です。限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れたコンパクトサイズ真空蒸着装置です。

企業：テルモセラ・ジャパン株式会社本社
価格：応相談

蒸着装置

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真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19 コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。

企業：テルモセラ・ジャパン株式会社本社
価格：応相談

蒸着装置
スパッタリング装置
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総合カタログ　真空蒸着装置

機種選びから消耗品供給、アフターフォローまで安心して任せられる万全のフロー

当カタログは、真空蒸着装置の製造・販売の専門メーカーである株式会社クラフトの総合カタログです。 (※株式会社プロスタッフは、株式会社クラフトを販売メーカーとし、　プロスタッフは製造部門として一翼を担っております。) 自動真空蒸着装置[オーダーメイド]CAPシリーズといった製品の掲載をはじめ、メンテナンスメニュー・加工品の紹介など幅広く掲載しております。【掲載内容】 ■自動真空蒸着装置[オーダーメイド] ■リフレッシュ品[中古品] ■装置メンテナンス ■部品メンテナンス ■蒸着部材・加工品　など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

企業：株式会社プロスタッフ
価格：応相談

真空機器

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