リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデル
多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は6点式坩堝を採用していますので、 同一真空中内で6種類の成膜が可能 ○基板はφ75mmで30枚、φ100mmで20枚、φ150mmで9枚収納できる ○入射角±5°以内で成膜可能 ○真空槽内の防着シールドは分割式となっていますので、交換が容易 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【仕様】 ○到達圧力6.7×-5Pa以下 ○排気速度大気圧より4.0×10-4Pa迄20分以内 ○蒸発源電子銃270°偏向、電源16kW ○基板加熱MAX150℃ 常用100℃ ○膜厚分布±1%以内 (バッチ内、バッチ間) T/S＝900mm ○排気系クライオポンプ、ドライポンプ、メカニカルブースターポンプ ○真空槽W800mm × D800mm × H1300mm、SUS304製 ○フットプリントW3700mm × D4300mm × H2400mm 【所要諸元】 ○所要電力 本体 φ3 200V 約40KVA (115A) 蒸発源 φ3 200V 約25KVA (73A) ○所要水量0.2MPa以上 (差圧)、44L/min、20～25℃ ※冷却水入口の最大圧は0.4MPa以下、水質は市水相当 ○所要圧空0.7MPa (設定圧0.5MPa)、接続口径Rc1/2 ○ガス圧力0.05MPa (設定圧0.02MPa)、接続口径SWL1/4 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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用途／実績例
【用途】 ○電極膜・保護膜 ○リフトオフ成膜 ○厚膜成膜 ○低温成膜 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
株式会社昭和真空は、真空中で特定の基板に薄膜を形成させる装置を主とした、真空蒸着装置やスパッタリング装置等の真空技術応用装置（真空装置）を製造販売しております。