【半導体製造向け】薬液プロセスの自動化に低脈動・超高分解能ポンプ
半導体製造プロセス最適化:低脈動・超高精度の液送ソリューションで高品質と高歩留まりを実現
半導体製造のさらなる微細化・高集積化において、製品品質と歩留まりを左右するのは薬液ハンドリングの極限的な精度です。特に、わずかな流量変動が致命的な欠陥につながる次世代プロセスにおいて、従来の送液システムでは対応しきれない課題が表面化しています。 Cavro Centris Pumpは、業界最高水準の分解能(最大192,000ステップ)により、微細化が進む各工程でこれまでにない安定性を提供します。 【活用シーン】 ・フォトレジストの精密滴下(リソグラフィ) ・ナノインプリント用樹脂の供給 ・スリットダイコーティングの流量制御(薄膜形成) ・無電解メッキ液の自動調整 ・電気メッキ(ECP)の添加剤管理 ・薬液のインラインブレンディング ・CMP(化学機械研磨)工程でのスラリー・添加剤の精密供給 【導入の効果】 Centris Pumpは、吐出量のわずかなバラつきや脈動による塗布ムラを解消し、歩留まりの劇的な向上に貢献します。装置への組み込みを前提としたコンパクトな設計は、既存装置のアップグレードや次世代装置の開発において、設計の自由度を最大限に高めます。
- 企業:テカンジャパン株式会社
- 価格:応相談