Wafer ATRにおけるシリコンウェハー表面の高精度分析
【無料プレゼント】MIRS法を応用した新たなアプローチである製品をご紹介
シリコンウェハー (Si ウェハー)表面の特性は、材料としての機能性に 大きく影響し、とくにウェハー表面に形成される各種薄膜の化学的評価が ますます重要となっています。 当資料で紹介する「Wafer ATR」は、いわゆるMIRS法を応用した新たな アプローチであり、フランス原子力庁電子情報研究所CEA-Letiの グループとの研究成果を製品化したものです。 【掲載内容】 ■はじめに ■Wafer ATR(ウェハーATR) ・多重内部反射による感度の向上 ・測定時の必要事項 ■測定例 ■判別分析 ■まとめ ■参考文献 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：ブルカージャパン株式会社 オプティクス事業部
- 価格：応相談
