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CMPスラリー供給装置 - 企業1社の製品一覧

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CMPスラリー供給装置 P108

本装置はCMP装置に連続してスラリー液を供給するためのもので、2種2系統を供給する機能を有する。

本装置はスラリー原液を希釈し研磨装置にスラリーを供給し、送液温度とpH値を制御(オプション機能)するとともに、スラリー液を連続的に供給するための調合タンクと供給タンクを内蔵しています。 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

  • 加熱装置

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