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CVDプラズマエッチング装置 - 企業1社の製品一覧

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バッチ式化合物半導体量産機プラズマCVD・プラズマエッチング装置

フランスで設計・製造された業界最小、ウエハトレイのみ交換で2~12インチウエハ対応、Corial 300・500シリーズ

当社で取り扱っている、薄膜用PECVD・ドライエッチング装置 「SHUTTLELINE(R)」・バッチプロセス対応コンパクト300&500シリーズ についてご紹介いたします。 成膜はPECVD。エッチングはRIE ICP ICP-RIE。 ユニークなウエハステージを使用することで、例えば2インチウエハであれば 1枚~最大27枚のバッチ処理可。 開発から量産までお使いいただけます。 【特長】 ■成膜装置PECVDは、チャンバーがコンパクト設計の上、自動クリーニングを  取り入れる事により、スループットを最大にする事が出来る ■エッチング装置は、運用コスト下げられるとの事で、多くのマイクロ  LEDメーカーで採用 ■ウエハ片、フルウエハと多様なウエハサイズ・形状に対応  シャトルシステム(ウエハステージ)により、異なるサンプルサイズでも  ハードウェアの変更が不要 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

  • 薄膜用PECVD・ドライエッチング装置「SHUTTLELINE(R)」2.JPG
  • 薄膜用PECVD・ドライエッチング装置「SHUTTLELINE(R)」3.JPG
  • エッチング装置

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