MEMS開発プロセス装置
MEMS開発ツール・精密アライメントのナノテック
『MEMS開発プロセス装置』では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「片面マスクアライナー」や、両面プロセスのローコストアシストモデル「正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスのスタンダード量産機「両面同時露光マスクアライナー」、自動化・量産化のカスタム対応装置「オートマスクアライナー」、専用露光装置「カスタムマスクアライナー」、カスタム設計対応の「アライメント固定装置」、独自のクランプ機構を用いた「精密アライメントホルダー」、精密転写装置で低残膜・低バブルの「UVナノインプリンター・マイクロコンタクトプリンター」、業界スタンダードの「汎用スプレーコーター」、オンリーワンのローコストマスク作製機「簡易マスク作製機」など多数掲載しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
- 企業：株式会社ナノテック
- 価格：応相談
