350℃以下の低温処理が可能。被膜『ELIPcoat』
技術の先端：半導体製造分野へ！超越した耐プラズマエッチング特性と耐熱＆電気特性を
『ELIPcoat』は、JCCのPVD技術で開発した被膜です。 酸化物や炭化物セラミックス被膜を緻密な結晶構造で成膜。 生成された被膜には電気的特性や耐熱特性等の化学的・物理的特性を付与します。 結晶粒の大きさの違いが明確なので、パーティクルサイズに影響。 また、被処理材に合わせた温度調整も可能です。 【特長】 ■低温処理が可能（350℃以下） ■絶縁物・樹脂への処理も可能 ■酸化物・炭化物セラミックス被膜 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- Company：日本コーティングセンター（ＪＣＣ）株式会社
- Price：応相談
