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ゼータ電位測定 - メーカー・企業と製品の一覧

ゼータ電位測定の製品一覧

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【電池向け】ELSZneo:電極材料の粒子径・ゼータ電位測定

電極材料の品質管理に。粒子径、ゼータ電位、分子量を高精度測定。

電池業界では、電極材料の性能が電池の性能を大きく左右します。特に、電極材料の粒子径やゼータ電位は、電池の充放電効率や耐久性に影響を与える重要な要素です。これらの特性が適切に管理されていない場合、電池の性能低下や寿命の短縮につながる可能性があります。ELSZneoは、希薄溶液から濃厚溶液まで幅広い濃度範囲での粒子径・ゼータ電位測定を可能にし、電極材料の品質管理を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・電極材料の研究開発 ・製造工程における品質管理 ・材料の特性評価 【導入の効果】 ・電極材料の特性を詳細に把握 ・電池の性能向上に貢献 ・品質管理の効率化

  • その他計測・記録・測定器
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固体表面のゼータ電位測定 

ゼータ電位からCMPスラリーとウェーハの静電相互作用を評価

半導体における洗浄プロセスでは、CMPスラリーより表面に吸着するパーティクルや金属不純物、有機物の物理的もしくは、化学的洗浄が行われます。物理洗浄によってパーティクルを剥離した後に洗浄後の再付着を防止することが必要となります。これらの研磨および洗浄条件の検討では、CMPスラリーおよびウェーハのゼータ電位を測定し、スラリーとウェーハの静電相互作用を評価することが有効です。 今回は、スラリーとウェーハそれぞれのpHタイトレーションを行い、ゼータ電位測定をおこないました。 CMPスラリーとウェーハの静電相互作用の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

  • スラリーとウェーハのpHによるゼータ電位変化.jpg
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ELSZneoを用いた固体表面ゼータ電位測定 

研磨パッドの表面ゼータ電位測定

半導体ウェーハの研磨工程におけるCMPスラリーは、ウェーハ、スラリー、研磨パッドの組み合わせとして使用されパッド表面の粗さによってスラリーを保持し、ウェーハ表面の被膜が研磨されます。パッド表面の目詰まりは、スクラッチなどの欠陥に寄与し、パッド表面の特性は、研磨性能に寄与すると考えられています。そこで研磨パッドおよびスラリーのゼータ電位を測定し、静電相互作用や吸着特性を検討することは有効であると考えられます。  今回、発泡ポリウレタンの研磨パッドを測定サンプルとし、各pHにおける表面ゼータ電位を行いました。 研磨パッドの表面ゼータ電位測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。

  • 各pHにおける研磨パッドの表面ゼータ電位測定結果.jpg
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