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低真空環境での加熱工程を簡易に・安価に実現！
PH222は、真空チャンバータイプのホットプレートです。最高温度400℃タイプ（加熱条件により、水冷が必要です）。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布は±2.0％、プログラム式温度コントローラー（別売）により、温度プログラム設定が可能です。 真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能！
真空チャンバー ホットプレート 「PH221」は、チャンバー構造ホットプレート（最高温度200℃）です。ホットプレートに真空チャンバーを組み合わせたタイプで、低真空環境での加熱工程を簡易に実現いたします。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布 ±2.0％。プログラム式温度コントローラー（別売）により、温度プログラム設定が可能です。真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
