低真空環境での加熱工程を簡易に・安価に実現！
PH222は、真空チャンバータイプのホットプレートです。最高温度400℃タイプ（加熱条件により、水冷が必要です）。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布は±2.0％、プログラム式温度コントローラー（別売）により、温度プログラム設定が可能です。 真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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基本情報
【特長】 ○チャンバー構造ホットプレート（最高温度400℃） →加熱条件により、水冷が必要 ○ホットプレートに真空チャンバーを組み合わせたタイプ ○低真空環境での加熱工程を簡易に実現 ○チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能 ○ホットプレート温度分布 ±2.0％ ○プログラム式温度コントローラー（別売）により、温度プログラム設定が可能 【仕様】 ○温度設定範囲：50－400℃ ○ヒーター容量：AC100V、800W程度 ○ホットプレートサイズ：φ120mm ○ホットプレート表面処理：黒アルマイト ○ケーブル：PCC-0505(ホットプレート側に配線片端) ○真空度：1×10^-1Pa程度 ○適合温度コントローラ：PCC100、PCC107、PCC100co、PCC107Co ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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