簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能！
真空チャンバー ホットプレート 「PH221」は、チャンバー構造ホットプレート（最高温度200℃）です。ホットプレートに真空チャンバーを組み合わせたタイプで、低真空環境での加熱工程を簡易に実現いたします。チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能です。ホットプレート温度分布 ±2.0％。プログラム式温度コントローラー（別売）により、温度プログラム設定が可能です。真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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基本情報
【特徴】 ○チャンバー構造ホットプレート（最高温度200℃） ○ホットプレートに真空チャンバーを組み合わせたタイプ ○低真空環境での加熱工程を簡易に実現 ○チャンバー構造、サイズなどカスタマイズ可能 ○ホットプレート温度分布 ±2.0％ ○プログラム式温度コントローラー（別売）により、温度プログラム設定が可能 ○簡易な方法で、真空加熱プロセスが可能 →真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど 【標準仕様】 ○温度設定範囲：50－200℃ ○ヒーター容量：AC100V、400W程度（□200mmサイズ） ○ホットプレートサイズ：□150～□250mm ○ホットプレート表面処理：アルマイト（プレートキズ防止） ○ケーブル：PCC-0505(ホットプレート側に配線片端) ○適合温度コントローラ：PCC100、PCC107、PCC100co、PCC107Co ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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用途／実績例
【用途】 ○真空環境でのプロセス、脱泡工程、ベーキングなど ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
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