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有害な分解物を生成しないため、分解生成物を除去するための活性炭処理が不要！
半光沢ニッケルめっき用添加剤 マーク80『M-801/802』は、有害な分解物を 生成しないため、分解生成物を除去するための活性炭処理が不要です。 レベリングが良く、硬度が低く、応力も小さい柔軟性に富んだ析出物が 得られるため、多層ニッケルめっきの最下層の半光沢めっきとして好適。 高温、高濃度浴による高速度めっき、及び、低温、低濃度浴による 省エネルギー浴など広い範囲でご使用できます。 【特長】 ■析出物にサルファー(S)を含まない ■通常の光沢ニッケルめっきに比べ耐食性が良好 ■レベリングが良く、硬度が低く、応力が小さく、柔軟性に富んだ 半光沢めっきが得られる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
電子部品で採用実績多数！バランスの取れた物性で使いやすい添加剤です(硬度・柔軟性・応力・光沢）
SN-100-Jは高いレベルでバランスの取れたすスルファミン酸ニッケルめっき用の添加剤です。 柔軟性を維持しながら、外観、硬度、応力調整が可能です。 管理幅が広く金属不純物にも鈍感なため、管理が容易です。 ＜特徴＞ ・硬度・応力・めっき外観調整に利用可能 ・管理範囲が広く扱いやすい ・液に混入した金属不純物に鈍感 ・一液性で分析による定量管理が可能 ・析出物表面は活性で、金めっき等の貴金属めっき下地に適している ・活性炭に吸着されにくく、活性炭処理後に再使用が可能
分析管理可能！クロム、金などの仕上げめっきが直接できます
光沢ニッケルめっき用添加剤 ニッケルエース『NA-100-J/NA-2(×2)』は、 広い管理幅を持つ有機物汚染に鈍感な光沢ニッケルプロセスです。 従来と同様の作業および少ない添加量で、美しい光沢ニッケルめっきが 得られます。 現行ニッケルめっき浴から容易に転換できますのでご相談ください。 【特長】 ■光沢生成に優れている ■広い電流密度範囲、広い温度範囲で良好な光沢外観が安定して得られる ■電着物は、優れた延性を持っている ■つきまわりが良好 ■内部応力が小さく、又、ある値以上に圧縮応力が増加しない ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
従来と同様の作業および少ない添加量で、美しい光沢ニッケルめっきが得られます！
光沢ニッケルめっき用添加剤 ニッケルエース『NA-1000/2000』は、 広い管理幅を持つ有機物汚染に鈍感な光沢ニッケルプロセスです。 析出物の自然電極電位は、充分卑となりダブルニッケルめっき法の 光沢ニッケルとして適応できます。 また、現行ニッケルめっき浴から容易に転換できますのでご相談ください。 【特長】 ■広い添加剤範囲で良好な光沢外観が安定して得られる ■添加剤の寿命が長く、経済的 ■低電流密度部における添加剤の弊害がほとんどない ■高電流密度でも使用できるため、生産性が上昇 ■クロムめっきのつき回りが良好 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
