【パターンウェハ】3D ILD Pattern
CMP研究・開発用途に大変有用! 対応膜種はご希望によりご相談ください。
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像は、HDP、SiN on Si の例になります。 200mm、300mmにて対応可能です。 対応膜種はご希望によりご相談ください。 高段差のパターンもご用意があります。 CMP研究・開発用途に大変有用です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
- 企業:アドバンスマテリアルズテクノロジー株式会社
- 価格:応相談