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レジストや粘着材、フィルム、薬液等を評価できる！高品質なテスト用ガラス！
ミツル光学研究所ではレジストや粘着材、フィルム、薬液等を評価 試験するテストピースとしてご使用頂ける『テスト用ガラス』を 取り扱っています。 液晶ディスプレイで使用されるものと同じ材質を、ご要望のサイズで 作成することが可能です。 液晶ディスプレイや光学部品の製造で培った加工技術を活かした 高品位ガラスをご用意いたします。 【仕様】 ■ガラスサイズ ・730×920mm～10×10mm ・円形状：φ450mm～φ10mm ■板厚：0.3t・0.4t・0.5t・0.7t・1.1t等 ■外形公差 ±0.2mm ■面取形状：C面取り・R面取り ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
技術ハンドブックプレゼント！種類・他社品比較の優位点・品質、導入効果などをご紹介
当資料は、ウェハチャック上のゴミ／パーティクルを除去するための お掃除用ウェハについてご紹介している技術ハンドブックです。 フォトリソ工程やエッチング工程、スパッタ工程での優れた効果をはじめ、 種類・他社品比較の優位点・品質、導入効果などを掲載。 ぜひ、ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■チャッククリーニングウェハ(CCW)とは ■CCWの紹介(開発の歴史・材質) ■CCWの製品紹介（種類・他社品比較の優位点・品質) ■Particle/Defect Removal Film について ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
優れた設備を保有し、高品質な製品を提供！シリコンウェハーをご紹介！
ニッコーシ株式会社では、半導体材料である高品質な 「シリコンウェハー」を､低価格､短納期で安定供給しております｡ 当社では、当製品のほかにもアクチュエータをはじめ、コイルなどを 取り揃えております。 【特長】 ■高品質な製品を提供 ■低価格で提供 ■短納期対応が可能（生産日数：15日間） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
テストウエハー等を研磨再生して、太陽電池用のウエハーに再生加工します。
お客様において、使用済となったテストウエハー、又はリジェクトされたプライムウエハーを研磨再生して、太陽電池用のウエハーに再生加工します。3～20mmの研磨により、ケミカル再生では実現できない清浄度や表面の傷などを削り落すことが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
石英硝子ウールは石英硝子の持つ特徴を活かして、その利用範囲は科学の発展に伴いますます注目されています。
材質的には透明硝子と全く同じです。 フッ化水素酸、燐酸以外の酸には殆んど侵されませんが、アルカリ性塩類や一部の金属には高温でかなり侵されます。 非常に細く表面積が大きくなりますので、普通の石英硝子より耐熱性が劣ります。
DXFにて対応、さまざまな非球面シリンダー加工が可能です。
株式会社 ブル精密は、精研削法による非球面レンズ研磨加工特殊形状超特急加工を常に追求する光学硝子・成型硝子・フロートガラス等の加工＆研磨のエキスパートです。 「ありとあらゆるガラス加工」の精密加工・精密研磨を御用命下さい。 【特徴】 ○主に光学ガラスを使用 ○硝材例 BK-7等光学硝子全般 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用できます
NTDシリコン（中性子照射シリコン）は、面内の抵抗率の均一性に優れ、電力用サイリスタ（シリコン制御整流器）として使用され半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用されております。 現在、FZシリコンは汚染物質の少なさから、既存のメモリーやDSPなどのICのみならず、MEMSやオプトセンサ分野にも幅広く使用されております。 詳しくはお問い合わせください。
半導体レーザ、VCSEL、PD、DBR 各種光半導体デバイスのエピウェハを提供
■MOCVDによる結晶成長(3/6インチウェハ) ■対応波長：650nm～1060nm、高出力／低出力タイプ ■半導体レーザ・VCSEL・RCLED・PD・DFB・DBR各種構造に対応
宇宙用高効率3接合GaAs太陽電池の製造に使用できるエビタキシャルウエハ。
宇宙用高効率３接合GaAs太陽電池を製造することができるエピタキシャルウエハを提供しております。このエピウエハを使用することで独自の形状等の宇宙用太陽電池を製造することが可能となります。
半導体の材料メーカーや装置メーカーに供給するテストウエハについてご案内いたします。
テストウェハとは、次世代半導体プロセス開発に必要な 装置・材料の評価用ウェハです。 半導体製造メーカーは日夜、新しいプロセス技術の開発を行い、 人々の生活が豊かになるよう奮闘をしています。 それを支えるのは材料メーカーや半導体装置メーカーであり、 次世代の技術の開発を行うために日々実験や研究を行っています。 そこでは、ウェハ上のプロセスの均一性を向上させるために、 実際のウェハを使用したデータ収集が必須です。 弊社では、次世代半導体開発の為のテストウェハをお客様の希望に沿う 『カスタムメイド』という形で製造し、販売いたしております。 テスト用ウェハの中でも特に、成膜、CMP、洗浄、エッチング、TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
画像はCuブランケットウェハの例です！
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はCuブランケットウェハの例です。 7KA、15KAで成膜した時のCross SEMのウェハです。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
国内マスプロダクションで製造した、デバイスグレートに近いパターンウェハ
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 国内マスプロダクションで製造した デバイスグレートに近いパターンウェハです。 均一性、埋込性ともによくできています。 非常に高品質なテストウェハとなっております。 200mm、300mmにて対応可能です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
CMP研究・開発用途に大変有用！ 高段差のパターンも用意あり
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はHDP、SiN on Si の例です。 200mm 300mm にて対応可能です。 対応膜種はご希望によりご相談ください。 高段差のパターンもご用意があり、 CMP研究・開発用途に大変有用です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
200mm 300mm にて対応可能！ 対応膜種はご希望によりご相談ください。
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はHDP、SiN on Si の例です。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
ウェハへの精密ブラスト加工で生産性アップ！前面でワークをセットするだけの簡単操作
『LED用サファイアウェハー裏面粗し』は、Φ6インチ以下の 各ウェハーサイズに対応した装置です。 本体前面でワークをセットするだけで自動で加工、加工粗さをRa＝1μm程度に 精密に設定できるため、ラッピング機と比較して粗さの均一性に優れています。 切削量も精密に制御可能、Φ6ウェハーで70秒以下/枚の短時間で処理します。 【特長】 ■Φ6インチ以下の各ウェハーサイズに対応 ■加工粗さをRa＝1μm程度に精密に設定できる ■ラッピング機と比較して粗さの均一性に優れている ■切削量も精密に制御可能 ■Φ6ウェハーで70秒以下/枚の短時間で処理 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
