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取り付け方向に制限がなく、配管取り付けが容易
当社で取り扱う「 テイエルブイ 逆止弁 ウェハー」のご紹介です。 【特長】 信頼性の高いディスク式逆止弁で高いシール性を実現 フランジレスタイプで各種フランジ規格に対応可能です。 取り付け方向に制限がなく、配管取り付けが容易。 さらに配管をそのまま取り外し、メンテナンスも簡単です。 【取扱品番】 TLV CKF3R15 TLV CKF3R20 TLV CKF3R25 TLV CKF3R32 TLV CKF3R40 ※長谷川機材株式会社が運営するプラント管工機材、住宅設備機器の事業者専用卸し・仕入れサイト「プラントナビ」にて販売中です。
多様化するニーズにお応えする高品質シリコンウェハー製品
当社は、先進の技術を追求し半導体製造開発に必要不可欠な ベアウェハー、高品質薄膜ウェハー、ダミーウェハー、各種成膜ウェハー等を ご提供し、多様化するマーケットのニーズにお応えいたします。 また、ウェハー加工サービスや分析サービスも承っております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【各種ウェハー製品】 ■ベアウェハー ■加工成膜ウェハー ■テスト用TEG ■パターン付き300mmウェハー ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
100-200mmの貼付ウエハー（SOI,SiSi）や誘電体分離や高アスペクト比の深いトレンチエッチなどカスタム品を提供します
アイスモス・テクノロジーはMEMSや高度なエンジニアリング基板を提供するベストインクラスのサプライヤーです。 20年以上の経験をもとに、卓越した製造スキルと最新の技術的な開発で、アイスモスはすべてのお客様がお問合せから製品を受け取るまで優れたサービスをうけることをお約束します。 革新的な製品開発、デザインのご提案、特別なサービスなどエンジニアチームが技術的にサポートいたします。 既存製品がリストにない場合には、お客様とともに独自の特別な製品を開発もいたします。 それが弊社の強みとなるサービスです。 SOI = Silicon on Insulator SiSi = Silicon Silcon bonded DSOI= Double SOI DSP=Double Sided Polished CSOI=Cavity SOI Thin SOI TSOI=Trench SOI TSV=Through-Silicon Vias ファウンドリーサービス 是非お気軽にお問合せ下さい。 http://jp.icemostech.com/products.html
経験のある高い技術を持ったチームがご提供！標準的でない仕様に関してもご検討可能です
アイスモスは20年以上の経験をもとに、ワールドクラスのDSP （Double Sided Polished）両面ポリッシュのソリューションをお届けします。 デザインや製造において⾧年の経験のある高い技術を持ったチームが お客様のご要望に合ったDSPソリューションをご提供します。 【特長】 ■アイスモスのDSPウエハーは両面にパターン転写ができる優れた基板 ■アイスモスは製品やプロセスにおける専門知識や経験で厚みや面粗度の コントロールも可能で、理想的な張り合わせプロセスへと導く ■標準的でない仕様に関してもご検討可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
技術シリコン基板の製造、ファウンドリーサービス
当社は、MEMS技術プロセス、高度な技術基盤ウエハーやSOI（シリコンオンインシュレーター）、貼り付けシリコン基板を、高い費用対効果で提供するベストインクラスのサプライヤーです。 詳しくはカタログかホームページの情報をご覧ください。 在庫情報などもご確認できます。
高い品質管理技術力！研究・製造技術に基づいたサービスソリューションを提供
大阪有機化学工業では、全従業員が参加する小集団での5S活動および 業務改善活動として定着させております。 「いつもと同じ」の継続と顧客要求の個別化、高度化、複雑化に真摯に対応。 当社の工場は"日本一きれいな工場"を目指し、安全性、品質の向上 および環境保全を優先課題として日々取り組んでいます。 【当社の強み】 ■OYPM活動による人づくり（問題解決力の向上） ■高い品質管理技術力 ■R&Dから工業化までの一貫対応力 ・提案力・顧客課題の解決力の高さ ・研究・製造技術に基づいたサービスソリューションの提供 ・顧客/取引先業務の機能代行 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
シリコンウェハーのサイズダウンのことなら当社におまかせください！
当社は、環境に配慮し「限られた材料を無駄なく利用したい」という 思いからシリコンウェハーのサイズダウン加工に力を入れてきました。 大口径ウェハーを再研磨して薄くなるまで使い、その後小さく サイズダウンして使うことで極力破棄を無くして再利用していきます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【シリコンウェハーサイズダウン加工の流れ】 1.サイズダウン 2.熱処理 3.面取り（ベベリング） 4.ラップ 5.洗浄・検査 6.出荷 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
徹底した品質管理で、より付加価値の高い製品を提供いたします
当社では、ダミー・モニター用シリコンウエーハを取り扱っています。 研磨された製品は、さまざまなレベルで実施されるチェツク工程をへて、 高精度を保証されます。先進の技術を駆使した測定機器やクリーンルームなど、 環境管理にも万全の設備を完備することが、品質アップにつながるのです。 信頼性の高い品質保証体制の提供により、はじめて高平坦度、清浄度を 極限まで向上させ、安定供給を実現することができます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【ダミー、モニターの区別】 ■ダミーウエーハ ・口径、厚さ以外のスペックは不問、又、ダスト不問か、 ダストフリーはご指定ください。(ウエーハ特性は納品時に表示します) ■モニターウエーハ ・別紙仕様明細書にてご指定ください。 ただし、比抵抗と厚さの範囲の拡大を極力お願いいたします。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
「品質一番」をモットーに製造から検品まで徹底して管理しています
当社では、理化学ガラスの製造を取り扱っております。 半導体関連部品をはじめ、様々なガラス製品を取り扱っており、常に安定した 優れた技術で、理化学ガラスからオーダーメイドの製品まで幅広く対応。 また、アート的な加工品も、贈答品として取り扱いをしており、 ガラスに関することなら何でも承ります。 ご要望等がございましたら、お気軽にご相談ください。 【選ばれる理由】 ■安定した優れた技術力 ■早い納期とより良い品質 ■お客様のご要望にしっかりと応える ■若手技術者の育成で未来に貢献 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
優れた圧電特性を達成！用途に応じた仕様をご用意いたします
「マルテンサイトエピタキシーPZT単結晶圧電薄膜ウェハ」について ご紹介いたします。 独自の多能性中間膜により、高品質な単結晶薄膜を実現し、一般的な 圧電薄膜と比較して、優れた圧電特性を達成。 また、ポーリング処理がなくとも分極を保持する自発圧電ができ、 用途に応じた仕様をご用意することが可能です。 【ラインアップ】 ■モノワンタイプ（センサ用途） ■デリワンタイプ（超音波トランスデューサ用途） ■コ・ポリタイプ（アクチュエータ用途） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
単結晶金属薄膜により特性が向上します
Gaianixx独自の多能性中間膜により、シリコン基板上に高品質な白金薄膜をエピタキシャル成長させ、(100) 単一配向の単結晶薄膜を実現しました。単結晶体は多結晶体と比較して、粒界がないことで電気的な欠陥が少なくなるため、電気抵抗が低く電気伝導性が高くなります。そのため半導体や電子デバイスの性能向上に寄与することが期待されます。白金薄膜は各種デバイスの下部電極として用いられるほか、温度センサなどにも応用されています。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ダミーウェハのロスの低減、装置ダウンタイムを削減！導入効果や他社比較をまとめた技術ハンドブック進呈中
ウェハチャック上のゴミ／パーティクルを除去するためのお掃除用ウェハについてご紹介している技術ハンドブックです。 フォトリソ工程やエッチング工程、スパッタ工程での優れた効果をはじめ、種類・他社品比較の優位点・品質、導入効果などを掲載！生産用シリコンウェハと同様、自動搬送で流すだけで効果を発揮します。 【掲載内容(一部)】 ■チャッククリーニングウェハ(CCW)とは ■CCWの紹介(開発の歴史・材質) ■CCWの製品紹介（種類・他社品比較の優位点・品質) ■CCWの導入効果 ※導入効果や他社比較をまとめた技術ハンドブック進呈！詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小ロットからの対応可能です。特殊なエピ、多層エピなどにも出来るだけ対応いたします。
「エピウエハ」 1. ディスクリートデバイス向けや IC powerデバイス向けに使用されております。 ＊直径: 100-200 mm ＊Epi層ドーパント: Boron 、Phosphorous ＊Epi層抵抗値: 0.01-500 Ω/cm ＊Epi厚: 1-150 um ＊Stacking fault: 10 /cm2 以下 ＊Thickness Uniformity: 1% ＊Resistivity Uniformity: 2.5%(抵抗0.1-20 Ohm.cm) / 3%(抵抗>20 Ohm.cm) ＊Min25枚より 「エピ受託加工」 1000ohm cmを超えるようなEpi抵抗の高いウエハや、Epi層が厚いウエハなども対応させていただきます。 仕様により多層エピ成膜なども対応可能です。 特 徴 ・実験用に小ロット（数枚～25枚）から可能 ・サブウエハご指定も可能（お客様よりサブウエハを支給していただく事も可能です） ・エピ厚さ公差：6-10%以内 (エピ厚さにより変わります） ・抵抗均一性公差：5-15%以内 (抵抗により変わります）
1インチ以下～４５０ｍｍまで提供が可能です。各種成膜加工、ＦＺウエハやサファイア、ゲルマニウム、化合物半導体も対応可能。
弊社では、半導体製造装置テスト用のモニターウエハ・ダミーウエハ、太陽電池用単結晶シリコンウエハ・太陽電池用多結晶ウエハ・ＳＯＩウエハ・拡散ウエハなどを取り扱っております。 お客様の用途に合わせて適したウエハをご紹介させていただきます。 CZウェーハは直径1インチ以下から450mmまでご提供が可能です。 また貴社でお持ちのウエハにＥＰＩ成膜を行ったり、SOIウエハへの加工なども対応可能です。 ＣＺウェーハ以外にも高抵抗ＦＺウエハも４インチ以下から８インチまで、抵抗値は数オームから １万オーム以上に対応可能です。 サファイア、ゲルマニウム、化合物半導体、多結晶シリコンなども取り扱っております。 詳しくはお問い合わせ下さい。
耐熱性、耐薬品性があり不純物の少ないガラス板です。
石英ガラス板はソーダガラス板、テンパックスガラス板のように規格で決まった厚みの板はなく石英のブロック状の物を熟練工が丹念に磨き落してご希望の厚みの板を作っていきます。ですからご希望のサイズの物を製作いたします。また石英板に穴をあけたり、掘りこみ（ザグリ）加工も可能です。ご相談ください。
200mm 300mm にて対応可能！ 対応膜種はご希望によりご相談ください。
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像はHDP、SiN on Si の例です。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
★シリコンとは異なる耐薬品に優れたSICにマッチする洗浄剤、研磨剤はどう開発すべきか? その方向性が本セミナーでよくわかる
講 師 第1部 同志社大学 理工学部機能分子・生命化学科 教授 田坂 明政 氏 第2部 日本エクシード株式会社 常務取締役 森澤 祐二 氏 対 象 SiC、加工・材料に関心のある研究者・担当者など 会 場 川崎市教育文化会館 第2学習室【神奈川・川崎市】 JRもしくは京急線 川崎駅 下車 徒歩12分 日 時 平成23年8月25日(木) 13:30-16:40 定 員 30名 ※お申込みが殺到する恐れがあります、お早めにお申し込みください。 聴講料 【早期割引価格】1社2名まで46,200円(税込、テキスト費用を含む) ※但し8月11日までにお申込いただいたTech-Zone会員に限る。会員登録は無料 ※8月11日を過ぎると【定価】1社2名まで49,350円(税込、テキスト費用を含む) となります ◆早期割引にてお申込する際は人数登録で“1名(早割)”または”2名(早割)”をご選択ください ◆早期割引価格からのポイント割引は適用外の価格となります。ポイント割引サービスをご利用される際は通常価格からの申込みでのみ適用されます ◆同一法人より3名でお申込みの場合、69,300円
アルカリ成分や他の不純物を全く含まない、石英で出来た新しいガラス容器。急冷凍や急加熱にも対応可能です！
『石英バイアル/石英試験管』は、石英素材のバイアルの量産化・商品化に成功し、 石英容器としては非常に安価でご提供することが可能なネクサスの製品です。 シリカ成分(SiO2)だけで出来ている容器な為、 ガラス容器に特殊処理(シリコンコート等)をする必要が全くなく、 容器内面のたんぱく付着が極端に少なくなっています。 【従来のバイアルとの比較を徹底解説！】 ■内容物との反応は一切なし ■無アルカリ・無アルミニウム・無ホウ素 ■超高温域や超低温域での急な温度変化に対応 ■急速な凍結保存が可能 ■長期保存も可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
当社の水晶ウエハーはザグリ加工・穴開け加工・溝加工・研磨加工等も対応します
MEMS等のご研究用途向けの「ST-カット 人工水晶基板」も販売しております。 AT-カットその他も、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
3インチ～12インチまで少量対応が可能です。 仕様により高抵抗基板・高抵抗活性層でのSOIウエハも対応可能！
CZシリコンを使用したSOI以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウエハも対応可能です。 直径：3インチ～12インチ SOI層：2－200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：0.5－2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） ＊仕様によりますが新規対応は10枚程度から対応可能です。 ＊ウェーハを御支給いただきSOIウエハへ加工することも可能です。 エナテックはシリコンウエハ関連品を多数取り扱っており、お客様の御要望に迅速、的確に対応いたします。半導体及び太陽電池製造メーカー等への評価用テストウエハ・成膜ウエハ販売(及び再生加工等の受託加工）を主とし、ダミーウエハの分野においても、国内にSiの選別工程の倉庫を2箇所有し、お客様のニーズにお答えすべく様々な種類のウエハをご紹介させて頂いております。 詳しくはお問い合わせ下さい。
成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案＆製造致します。
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 【対応可能膜種】 Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、 PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、 Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、Polyimide ■メタル系 Ru、Co、CoEP、Pt、Au、W ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
国内マスプロダクションで製造した、デバイスグレートに近いパターンウェハ
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 国内マスプロダクションで製造した デバイスグレートに近いパターンウェハです。 均一性、埋込性ともによくできています。 非常に高品質なテストウェハとなっております。 200mm、300mmにて対応可能です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
シリコンウエーハ、ガラスなどを主に、お客様のニーズに応じた加工サービスを提供。基板の手配、マスク設計からの一貫生産の対応が可能。
ICチップの製造に使われる半導体でできた薄い板のこと。 シリコン製のものが多く、これを特に「シリコンウエハ」と呼ぶ。 ウエハは、原料の物質を「インゴット」と呼ばれる直径120mmから200mm程度の円柱状 に結晶成長させ、0.5mmから1.5mm程度に薄くスライスして作製した円盤で、直径8インチ(200mm)、12インチ(300mm)のものがよく使われる。 ICチップはウエハ上に回路パターンを焼き付けて製造される。
小ロットからの対応も可能！エピタキシャルウエハーを多数ラインアップ
半導体・太陽光発電向けシリコン素材の専門商社のトリニティーでは、 『エピタキシャルウエハー』を取り扱っております。 小ロットからの対応も致しますので、お気軽にお問い合わせ下さい。 【Reactor type/Reactor model】 ■Batch-Barrel/LPE 20615 ■Batch-Flat/LPE 3061D ■Single-Flat/ASM E2000 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
