更新日： 集計期間:2025年11月26日～2025年12月23日
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2インチ；3インチ；4インチ；5インチ；６インチ；8インチ；１２インチ ダミーウェハー～プライムウェハーまで、各グレードご提供
ウェハー (wafer ウェイファ)は、半導体素子製造の材料である。高度に組成を管理した単結晶シリコンのような素材で作られた円柱状のインゴットを、薄くスライスした円盤状の板である。洋菓子のウェハースに由来（英語表記ではいずれもwafer）。 ウェハーのほか、ウェーハ、ウエーハ、ウエハー、ウェハ、ウエハなどさまざまに呼ばれる。
2インチ～12インチ、多品種のシリコンウエーハを豊富な在庫で取り揃えており、小ロット、短納期、安定供給が可能です！
半導体向けシリコン素材の専門商社、トリニティーでは 多品種の『ダミーウェハ―』を取り扱っております。 お客様のご要望に合わせた加工もご対応させて頂いております。 詳細スペック、数量、その他品目についてもお気軽にご相談下さい。 【特長】 ■2インチ～12インチ ■P/N型 ■ベア品／膜品 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
小ロット、短納期、安定供給が可能です！ 半導体向けのシリコンウェハーを各種、多数取り揃えております。
株式会社トリニティーではお客様のニーズに合わせ、各種半導体向けの シリコンウェーハをご提案させて頂きます。 前工程向け「モニターウェーハ」や、後工程向け「ダミーウェーハ」等をラインアップ。 それ以外にも各種膜付きウェーハ、高抵抗値ウェーハ、低抵抗値ウェーハ等各種仕様のウェーハをご提供可能でございます。 ウェーハの詳細スペック、数量、その他仕様についてもお気軽にお問合せ・ご相談下さい。 【特長】 ・2"、3"、4"、5"、6"、8"、12"各サイズにてお取扱いしております。 ・膜付、高/低抵抗値、P/N型等豊富な仕様の在庫を取り揃えております。 ※詳細につきましては、カタログをダウンロードして頂くかお問い合わせフォームよりご連絡下さいませ。
SCHOTT RealView(R)はAR(拡張現実)向けに開発された高屈折率のガラスウエハーです
SCHOTT RealView(R) は、拡張現実（Augmented Reality）向けに開発されたガラスウエハーです。拡張現実技術は、仕事中や休暇中、そしてコミュニケーションの仕方まで、私たちの日常生活を変えることが期待されています。 ショットは材料メーカーとして、高い視野角と画質を可能にするRealView(R)を提案します。
耐熱性や防汚性に優れたもの等、お客様のご用途に合わせた製品をご提案！
関西特殊光学株式会社は、屋外やその他、過酷な環境で使用される、 ドームレンズの生産も行っております。 耐熱性や防汚性に優れたもの等、お客様のご用途に合わせた製品を ご提案いたします。 また、各種オプティカルデバイスとして使用されるレンズ、その他 各種光学部品を取り扱っております。 お客様の用途に合わせ当社での生産はもとより、国内外からの調達も 可能です。ぜひお問い合わせください。 【特長】 ■耐熱性や防汚性に優れたもの等、お客様のご用途に合わせた製品をご提案 ■大量生産はもとより、メーカー様の開発設計試作にもスピーディに対応 ■さまざまなニーズにお応え ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
フタル酸エステル類の分析の際に分析前の汚染を気にすることなく使用できます！
『フタレートフリー石英ウール』は、オートショット・サンプラーを使用する際、 試料カップ回収時における固体試料の飛散を防ぐことができます。 7種類のフタル酸エステル類（DIBP, DBP, BBP, DEHP, DNOP, DINP, DIDP）の 含有濃度検査証付きで、フタル酸エステル類の分析をする際、分析前の汚染を 気にすることなくご使用頂けます。 【特長】 ■ウルトラクリーンの石英ウールのため、そのまますぐに使用可能 ■7種類のフタル酸エステル類の含有濃度検査証付き ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
都市型水害の緩和・下水道の負担軽減に有効な都市にやさしい製品
『エコ環境基盤』は、ヒートアイランド現象に対する温度抑制を はじめとする様々な都市環境問題を軽減する製品です。 高い断熱性・耐熱性をそなえ、真夏でも被表面温度が42℃～43℃ までしか上がりません。 また、保水性・透水性に優れており、都市型水害の緩和、下水道の 負担軽減に有効です。 火砕流堆積物の粒径を緑化用に調整した「エコ環境基盤（緑化）」や、 南九州一円に分布する火砕流堆積物の特性である軽量多孔性の 機能と、コンクリート平板ブロックと同程度の強度を合わせ持った 「エコ環境基盤（舗装）」などをラインアップしています。 【特長】 ■高い断熱性・耐熱性 ■真夏でも被表面温度が42℃～43℃までしか上がらない ■保水性・透水性に優れる ■都市型水害の緩和、下水道の負担軽減に有効 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
様々なニーズに合わせ、適したセンサーをご提案します！
当社では、『熱電対・測温抵抗体・ウエハーT/C』を取り扱っております。 適正な熱処理により熱電対の状態を損うことなく曲げることができる 「シース熱電対」をはじめ、RESICERAMR素子とMIケーブルを接続し、 一体構造とした「シース測温抵抗体」をラインアップ。 その他にも、特注品の対応も可能な「ウエハーT/C」もご用意しております。 【シース熱電対 特長】 ■反応速度が速い ■優れた曲げ特性と耐衝撃性 ■耐食、耐圧性に優れる ■広い測温範囲 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
少数ロットでのご案内も可能ですので、ぜひご相談ください！
当社では、多種多様なニーズにマッチする『シリコンウエハー』を 供給いたします。 低抵抗品、高平坦度品等の「ベアウエハー」をはじめ、「石英製品」や 「SiCウエハー」などをラインアップ。 「ウエハー加工」も少数枚からニーズに合わせて承ります。 また、デバイスメーカー/装置メーカー様向けのご提案も行っております。 【ウエハー加工】 ■再生受託加工 ■成膜受託加工 ■ザグリ受託加工 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能
当社は、テストウエハの半導体技術でお客様の技術開発を支援しております。 テストウエハのサービスは、ベアSiウエハ、膜付ウエハ、パターンウエハ等を提供し、 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能、 ウエハサイズは300mm、200mm、チップ測定に対応しており、 お客様の設備でプラズマ処理を行ったウエハを測定し、 I/Vカーブ、Vbdマップのデータをご提供しております。 また、TDDB（Qbd）測定サービスも可能です。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
深堀エッチング技術で高アスペクトトレンチパターンウェハを実現
当社は先端の半導体技術によるテストウエハで、お客様の技術・製品開発を強力に支援しております。 （ベアSiウエハ/ 膜付ウエハ/パターンウエハ) トレンチパターンパターンウェハ『PT063』は、ボッシュプロセスによる深堀エッチング技術により高アスペクト構造を実現しております。 当社の標準レイアウトで、マスク寸法0.2µm~10µmのトレンチパターンを配置しており、最大アスペクト比は40~65程度となります。 開発効率化を求める皆様のニーズに答える製品としておすすめいたします。是非ご活用ください。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
20年以上の実績と専門性で、お客様の技術革新を全面サポート
当社は先進の半導体技術を背景に、テストウェハのソリューションを提供し、お客様の装置・材料・プロセスの評価・開発を総合的にサポートしております。 提供範囲は、ベアウェハから始まり、ブランケット膜付きウェハ、パターンウェハ、CMP評価ウェハ、プラズマチャージモニタウエハ、TSV評価ウェハ、電気特性評価ウェハ、MEMS混載ウェハまで、多岐にわたります。 私たちの強みは、半導体開発のエキスパートチームの深い専門知識と20年にわたる経験です。これらはお客様との信頼関係の中で蓄積された技術・ノウハウと相まって、お客様の多様なニーズに迅速かつ確実にお応えすることを可能にしています。 さらに、世界各地に広がる半導体製造ネットワークを駆使して、最適なソリューションを提案いたします。 技術的なご相談や製品のご要望がございましたら、お気軽にご連絡ください。私たちは常にお客様の成功の一翼を担うパートナーとして、最高のサポートを提供いたします。
ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップによるダメージ評価が可能
当社は先進の半導体技術を背景に、テストウェハのソリューションを提供し、お客様の装置・材料・プロセスの評価・開発を総合的にサポートしております。 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能となります。 ウエハサイズは300mm、200mm、チップ測定に対応しており、 お客様の設備でプラズマ処理を行ったウエハを測定し、 I/Vカーブ、Vbdマップのデータをご提供しております。 また、TDDB（Qbd）測定サービスも可能です。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
結晶成長からウェハーまでHEXATECH社自社で製造！結晶欠陥の少ない高品質なウェハーを安定供給
HEXATECH社は、米国ノースカロライナ州にある窒化アルミニウム （AlN）ウェハーの開発・製造会社です。 高品質なブール（インゴット）を成長させる製造技術・レシピ技術に 強みを持っております。 大口径化・α値（紫外線吸収係数）の低減ロードマップに沿って、 市場ニーズに合ったウェハーを開発・製造しております。 【特長】 ■世界最高級品質の単結晶AlNブール(インゴット)を 生み出す独自の結晶成長プロセス ■非常に少ない欠陥 ■III族窒化物半導体において画期的な性能を実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
新鋭の測定技術と実績ある加工技術で高度な要望に応える半導体製品をご提供！
当社では、高耐熱、高純度、パーティクル対策などの要求にこたえる CVD工程や酸化・拡散工程に不可欠なチューブ、ボート等の サーマルプロセス用製品を取り扱っております。 大型化要求に対しては、φ1000mmを超えるチューブやフランジ等の 大口径石英ガラス部材を実現。 新鋭の測定技術と実績ある加工技術で高度な要望に対応します。 【製品例】 ■チューブ ■フランジ ■大型フランジ（不透明） ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
