100μm・200μm厚ウェハー (THIN WAFERS)
LightMachinery社では100μm・200μm厚ウェハーのカスタム対応を行っております
■2インチ・4インチサイズ対応 ■コントロールされた平行度及びフラットネス ■クリアアパーチャー85%(外径寸法に対して) ■表面品質:10/5以上
- 企業:株式会社オプトロンサイエンス
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年10月08日~2025年11月04日
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LightMachinery社では100μm・200μm厚ウェハーのカスタム対応を行っております
■2インチ・4インチサイズ対応 ■コントロールされた平行度及びフラットネス ■クリアアパーチャー85%(外径寸法に対して) ■表面品質:10/5以上
半導体レーザ及びRCLEDの2インチエピウェハ
■波長:635nm~1550nmに対応 ■2”エピウェハ ■半導体レーザ 635~690nm、780~980nm、1300~1550nm ■カスタムデザイン・DFB・DBR・RCLEDなど
純度が高く耐薬品性に優れたウールです。
石英ガラスウールは石英ガラスの持つ特徴を活かして、その利用範囲は化学の発展に伴いますます拡大され注目されています。 透明石英ガラスを原料とした石英ガラスウールは、微細な繊維から成り、他のウールに比べて繊維の太さが均一で、極めて純度が高く、耐薬品性に優れています。 ファインとコースと2種類ございます。
板厚3.0、5.0、6.0、8.0、10.0mmの溶融石英板は短納期可能。
透明石英ガラス板は耐熱性、化学特性に優れており、光の透過性が高いことから様々な用途で使用されております。 透明石英ガラス板には溶融石英と合成石英がありますが弊社では溶融石英の板厚3.0、5.0、6.0、8.0、10.0mmの物に関しては比較的短納期での納品が可能です。 下記のサイズで透明研磨した板を工場で通常用意していますので大きなサイズも短納期納品が対応可能です。(溶融石英板) 板厚3.0(公差±0.2)300X300mm 板厚5.0(公差±0.2)600X600mm 板厚6.0(公差±0.2)300X300mm 板厚8.0(公差±0.2)600X600mm 板厚10.0(公差±0.2)600X600mm
ウエハーに直接埋め込まれた温度センサーにより、直接イン・シチュウエハー温度測定が可能になります
センサーは信頼性が高く、測定されるウエハーに直接配置されているため、 センサーが配置された正確な場所で実際の温度を提供できます。また、ウエハーの温度プロファイルを正確に測定し、 ランピングアップ、クーリングダウン、遅延期間などの過渡状態を含む完全な熱サイクルの温度変化を連続的に監視することができます。
成膜工程におけるテストウエハを、各企業様の状況に合わせてご提案&製造致します。
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 【対応可能膜種】 Cu、Ta、TaN、Ti、TiN、Al-Cu、SiN、 PE-TEOS、HDP、HARP oxide、Poly-Si、 Th-Ox、ACL、SiC、SiON、Photo resist、Polyimide ■メタル系 Ru、Co、CoEP、Pt、Au、W ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
CMP研究・開発用途に大変有用! 対応膜種はご希望によりご相談ください。
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像は、HDP、SiN on Si の例になります。 200mm、300mmにて対応可能です。 対応膜種はご希望によりご相談ください。 高段差のパターンもご用意があります。 CMP研究・開発用途に大変有用です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
200mm 300mm にて対応可能! 対応膜種はご希望によりご相談ください。
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 画像は、HDP、SiN on Si の例になります。 200mm 300mm にて対応可能です。 ※MITマスク使用 対応膜種はご希望によりご相談ください。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
研究用途におすすめ! HDPをトップ層にしたパターンウェハ
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 AMTオリジナルのマスクで、 HDPをトップ層にしたパターンウェハです。 均一性、埋込性ともによくできており、研究用途におすすめです。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
300mmウェハにて対応可能! 近年のデバイスのターゲットサイズに近い幅でパターンを作ることに成功
アドバンスマテリアルズテクノロジーでは、 テスト用ウェハの中でも特に、成膜・CMP・洗浄・エッチング・TSVの 研究開発に必要な先端の技術を盛り込んだウェハを供給しています。 近年のデバイスのターゲットサイズに近い幅で パターンを作ることに成功いたしました。 300mmウェハにて対応可能です。 ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。
中国製GaAs 単結晶GaAsウエハ 高純度GaAsポリ
高純度のGaAsポリ(Poly)をご提供いたします。 又、Φ2”~Φ4”の単結晶GaAsインゴット、ウェハーもご提供いたします。
12インチSi両面研磨ウェハー Φ300mmシリコン基板 厚み775±25um P型<100> 1-100Ω・cm 両面ミラー
品質:パーティクル管理有(0.2um30個以下) 製造:日本製(Made in Japan) 納期:1-2週間
測定したシリコンウエハは単結晶!IPFマップ、極点図、逆極点図は比較的シンプルな結果になりました
EBSDで解析したシリコンウエハの事例をご紹介いたします。 ウエハから小片を切り出し、中央50×50μmの領域にてIPFマップを取得。 測定範囲内は、{001}面を表す赤色を示し、また、粒界が見られないこと から単結晶であることが確認できます。 測定したシリコンウエハは単結晶であるため、IPFマップ、極点図、 逆極点図は比較的シンプルな結果になりました。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
世界最高品質のサファイア研磨製品を提供しております。
サファイアはその優れた機械的、光学的、構造的特性によって、オプティクス、エレクトロニクス、半導体、精密部品やレーザー用等の最適な材料としてあらゆる環境で幅広くご利用されており、エレクトロニクス産業をささえる部品材料として、ますます重要度を増してきます。 エムジェー株式会社では、グローバルネットワークをベースに結晶性を重視した結晶製法加工(キュロプロス製法)を施し、サファイアの半製品、完成品共々に輸入及び販売をしております。 また、最終表面処理を国内研磨技術にて加工し、世界最高品質のサファイア研磨製品を提供しております。 【取扱製品】 ○EPI研磨サファイアウェファー ○各種サファイアウィンドウ ○多用途サファイア製品 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。