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プラズマCVD装置(製造) - メーカー・企業と業務用製品 | イプロスものづくり

プラズマCVD装置の製品一覧

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プラズマCVD装置『SHUTTLELINE(R)シリーズ』

プラズマCVD装置『SHUTTLELINE(R)シリーズ』

小型で多用途に応用可能！デバイス評価プロセスにも適応できる高機能装置です

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・ 故障解析用プロセス対応フレキシブル半導体製造装置です。 RIE/ICP-RIE, PECVD/ICP-CVDに対応し、コンパクトな機体に 多様なオプションで多用途に使えるフレキシブル装置。 企業及びアカデミアのR&D、研究室にラボスケールのコンパクトな 装置が必要な方や、1台で成膜・エッチングとマルチに使用可能な 装置をお探しの方などにおすすめです。 【特長】 ■高精度でダメージフリーなエッチングプロセス ■ダイ,パッケージ化ダイ,ウェハ片およびフルウェハに多様なウェハサイズ・形状に対応 ■シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要 ■1台で成膜/エッチング装置とマルチに対応 ■世界中で採用実績があり、Plasma-Therm LLCのグローバルネットワークで現地サポート ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他半導体製造装置
  • プラズマCVD装置

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立体物対応実験用プラズマCVD装置(DLC、アモルファスSiC)

立体物対応実験用プラズマCVD装置(DLC、アモルファスSiC)

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定温度：500℃）

当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。 立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギングが可能です。 当社では実験装置から生産装置まで、お客様のご要望、ご予算に合わせて 装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ■対応可能膜種：DLC、アモルファスSiC等 ■基板加熱機構付き（最高設定温度：500℃） ■PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギング ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • プラズマ発生装置
  • CVD装置
  • プラズマCVD装置

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CVD装置の設計・製造・組立＜機械・電気＞

CVD装置の設計・製造・組立＜機械・電気＞

開発機及び量産機ともに製造に関わり、短期間での製造・量産化での製造を実現！

当社は、半導体製造装置メーカーよりOEM生産の依頼があり、 「CVD装置」の機械及び電気組立を実施しました。 開発機及び量産機ともに製造に関わり、短期間での 製造・量産化での製造を実現。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【製作実績の概要】 ■量産対応300mmウェハプラズマCVD装置 ■低容量チャンバによるガス使用効率の向上 ■チャンバ間、ウェハ間での高い再現性 ■低coo ■メンテナンス性の向上 ■高い電力効率 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

  • CVD装置
  • プラズマCVD装置

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CVD装置の設計・製造・組立＜ハーネス加工＞

CVD装置の設計・製造・組立＜ハーネス加工＞

ハーネス加工の簡素化などの提案を行い、ハーネス検査用のソフトの導入をして、量産化を実現！

半導体製造装置メーカーよりOEM生産の依頼があり、 当社にてハーネス(電気配線)加工を実施しました。 ハーネス加工の簡素化などをご提案し、またハーネス検査用のソフトの 導入をし、量産化を実現。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【製作実績の概要】 ■量産対応300mmウェハプラズマCVD装置 ■低容量チャンバによるガス使用効率の向上 ■チャンバ間、ウェハ間での高い再現性 ■低coo ■メンテナンス性の向上 ■高い電力効率 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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  • プラズマCVD装置

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