プラズマ除去装置『HDRF』
フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去！当社のプラズマ除去装置をご紹介
プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社で取り扱う、『HDRF』を ご紹介いたします。 MEMS、LED、先端パッケージングのデバイス製造段階で特に重要になる、 フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去します。 ご要望の際は、お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■温度 ・Low temp：50℃ to 150℃ ・High rate：150℃ to 250℃ ■ウエハ：2"～8" ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
- 価格：応相談
